专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]显示面板的封装方法以及封装贴合装置-CN202111528396.3有效
  • 肖文欢 - 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2021-12-14 - 2023-04-07 - H10K71/80
  • 本申请提供一种显示面板的封装方法及封装贴合装置,封装方法包括:提供真空发生组件、热压组件及承载板并将承载板真空吸附在热压组件的第一热压板上;第一热压板上形成有多个凹槽,承载板平整;提供阻隔膜并将阻隔膜层压在承载板上;提供显示面板并将显示面板与阻隔膜预贴合;通过热压组件热压显示面板及阻隔膜;及启动与热压组件相配合的真空发生组件并分别控制各个凹槽内的真空吸附压力以及凹槽之间的吸附压力的变化顺序,以使得承载板发生局部形变,从而与阻隔膜由外向内渐次分离。本申请提供的显示面板的封装方法及封装贴合装置能够解决气泡及显示不均等问题且能够使得阻隔膜的离型膜与承载板完好分离。
  • 显示面板封装方法以及贴合装置
  • [实用新型]固化装置-CN202221734001.5有效
  • 肖文欢 - 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2022-07-05 - 2023-03-24 - H10K71/00
  • 本实用新型提供了一种固化装置,其包括固化腔室、承载台、固化光源及半导体制冷片阵列,其中,承载台设置在固化腔内,包括用于承载基板的第一表面以及与第一表面相对的第二表面,固化光源设置在固化腔内,位于基板远离第一表面的一侧,半导体制冷片阵列包括多个半导体制冷片,半导体制冷片包括冷端和热端,冷端与第二表面热连接;本实用新型实施例通过改变设备设计,利用包括冷端和热端的半导体制冷片形成的半导体制冷片阵列来进行UVcuring设备承载台的控温,实现承载台及基板大板温度均一性≤±1℃的需求,且无惧承载台尺寸,而且还可以满足连续生产下承载台蓄热而要求制冷量提升的需求。
  • 固化装置
  • [发明专利]一种刻蚀装置-CN202010392767.9有效
  • 肖文欢 - 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2020-05-11 - 2022-06-10 - H01J37/32
  • 本发明公开了一种刻蚀装置,包括:上腔体和下腔体,其中,下腔体用于对器件进行刻蚀制程;所述上腔体包括:线圈,所述线圈用于承载交变电流,并由所述交变电流产生电磁场;诱电体,所述诱电体间隔设置于所述线圈下方,用于将所述线圈产生的电磁场传递到所述下腔体;绝缘板,所述绝缘板设置于所述上腔体的底部,用于防止由所述电磁场形成的等离子体直接接触所述诱电体,对所述诱电体造成侵蚀和发生电弧放电;制热构件,所述制热构件设置于所述绝缘板和所述诱电体之间,用于对所述诱电体和所述绝缘板进行控温。本发明实施例提供的刻蚀装置用于改善干法刻蚀工艺中由于生成物附着而出现的刻蚀残留的问题。
  • 一种刻蚀装置
  • [实用新型]一种双圆弧齿轮组件、齿轮泵及输送装置-CN202220088271.7有效
  • 蔡来勋;欧阳璞;肖文欢 - 泉州合擎新能源科技有限公司
  • 2022-01-13 - 2022-06-07 - F04C2/14
  • 本申请涉及液压齿轮泵技术领域,尤其涉及一种双圆弧齿轮组件、齿轮泵及输送装置,所述双圆弧齿轮组件包括安装座、可转动的设于安装座的主动轴和可转动的设于安装座的从动轴,从动轴平行于主动轴;还包括用于主动轴和从动轴之间传动连接的第一双圆弧齿轮组和用于辅助第一双圆弧齿轮组连续传动的辅助齿轮组,辅助齿轮组与第一双圆弧齿轮组同轴同步转动;辅助齿轮组至少包括第二双圆弧齿轮组和第三双圆弧齿轮组;第一双圆弧齿轮组、第二双圆弧齿轮组和第三双圆弧齿轮组沿轴向平行排布,第一双圆弧齿轮组、第二双圆弧齿轮组和第三双圆弧齿轮组的轮齿周向错位设置。通过本申请能够降低齿轮泵制作成本。
  • 一种圆弧齿轮组件齿轮泵输送装置
  • [发明专利]基板支撑装置-CN202111620718.7在审
  • 肖文欢 - 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2021-12-28 - 2022-04-01 - H01L21/687
  • 本申请实施例公开了一种基板支撑装置,包括基座、支撑杆、驱动板、推拉杆、驱动件,基座包括基座本体以及位于所述基座本体的两相对端的底板,所述基座本体的端部与所述底板滑动连接,支撑杆的第一端与基座本体固定连接,支撑杆的第二端固定连接有支撑针,支撑针用于支撑基板,驱动板设于基座本体上且与基座本体联动连接,推拉杆设于驱动板一侧且与驱动板固定连接,驱动件驱动推拉杆沿第一方向运动,推拉杆沿第一方向运动时,同步带动驱动板沿第一方向运动,基座本体和支撑杆沿与第一方向相交的第二方向运动。通过上述部件之间的联动设计,只需驱动推拉杆在第一方向运动,即可实现支撑针与基板接触位置的改变,且无需开腔作业和设备改造。
  • 支撑装置
  • [发明专利]一种管道清洗干燥装置-CN201910933025.X有效
  • 郭洪;邓梦东;陈世伟;蔺振;张荆柯;刘磊;郑艳平;吴文龙;吴家奎;李洋;肖文欢;徐树焱 - 中海福陆重工有限公司
  • 2019-09-29 - 2021-08-24 - B08B9/049
  • 本发明涉及管道工程技术领域,公开了一种管道清洗干燥装置,包括左外筒体、右外筒体以及设于左外筒体和右外筒体之间的内筒体,内筒体能够相对左外筒体和右外筒体转动,左外筒体中设有进流管,进流管与内筒体连通,左外筒体和右外筒体的外壁均设有行进机构,内筒体的外壁设有清洗组件,用于清洗管道内壁,内筒体的外壁沿周向设有至少一个第一喷头,清洗或干燥介质从进流管通入内筒体,并从第一喷头喷出,由于第一喷头的中心轴与内筒体的直径形成夹角,且与内筒体的中心轴形成夹角,因此第一喷头喷出的清洗或干燥介质对内筒体有圆周向以及轴向的推力,从而驱动内筒体转动,驱动装置沿着管道的轴向移动,清洗或干燥的效果好,节约介质使用量。
  • 一种管道清洗干燥装置
  • [实用新型]一种多电机汽车传动系统及汽车-CN201921792227.9有效
  • 蔡来勋;肖文欢;王保金 - 泉州合擎新能源科技有限公司
  • 2019-10-23 - 2020-06-09 - B60K17/08
  • 本实用新型涉及一种多电机汽车传动系统及汽车,涉及汽车传动系统的技术领域,包括机壳、连接在机壳上的至少一组驱动电机、连接在驱动电机输出轴上的输出齿轮架、与输出齿轮架连接的换挡机构以及与换挡机构啮合连接的支架齿轮;所述驱动电机两个一组,分别通过输出齿轮架、换挡机构与支架齿轮连接;所述换挡机构分为两个挡位将输出齿轮架与支架齿轮连接;所述支架齿轮连接在驱动桥上,驱动车轮转动。本实用新型的传动系统采用多电机驱动,并通过在动力传输系统中增加高低挡变速机构,使汽车既能够实现高低挡变速,又能提供更大的驱动力,同时实现能量储存回收进而增加续航里程。
  • 一种电机汽车传动系统
  • [发明专利]一种干法蚀刻设备的尾气处理装置-CN201710647567.1有效
  • 肖文欢 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2017-08-01 - 2019-12-31 - B01D47/06
  • 本发明提出了一种干法蚀刻设备的废气处理装置,包括:第一输入部、第二输入部以及空气动力学管路,其中,所述第一输入部和所述第二输入部通过所述空气动力学管路相连通,所述第一输入部和所述第二输入部中排出的气体通过所述空气动力学管路向外排出。有益效果:通过设置一空气动力学管路,增加第一排气管路中废气的流速,减少第一排气管路中积尘现象;同时,第二排气管路中湿度为零的高速气流,可以中和第一排气管路中高湿度废气,从而改善第一排气管路的酸性积液问题,改善管路的腐蚀问题,节约了蚀刻工艺整体的成本,延长了机台保养的周期。
  • 一种蚀刻设备尾气处理装置
  • [发明专利]一种干法刻蚀设备-CN201710853157.2有效
  • 肖文欢 - 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2017-09-20 - 2019-10-11 - H01J37/02
  • 本发明提供一种干法刻蚀设备,包括:由上腔体和下腔体密封形成的制程腔,用于执行电感耦合电浆模式下干法刻蚀工艺所需的各种制程反应;上腔体内设置有多个骨架和用于支撑所述骨架的悬挂柱,骨架之间形成空格,用于放置非导电性的诱电体;上腔体内还设置有天线线圈,用于形成交变电流,由交变电流诱导出交变磁场或电场并传递到所述下腔体,形成电感耦合模式下的高浓度电浆;设置在上腔体和下腔体之间并与诱电体紧密贴合的天板,述天板为镀有阳极氧化膜的铝阳极件。本发明将与电浆接触的天板设计为表面镀有阳极氧化膜的铝阳极件,改善了天板的机械性能和导热性能,使天板可实现高温控温,改善因生成物附着导致的刻蚀残留问题,延长生产维护周期。
  • 一种刻蚀设备
  • [发明专利]干刻蚀装置及干刻蚀方法-CN201711115335.8在审
  • 肖文欢 - 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2017-11-13 - 2018-03-16 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种干刻蚀装置,包括制程腔、排气组件以及测压组件,制程腔用以对待加工组件进行干刻蚀制程作业,排气组件用以排出干刻蚀制程中产生的制程生成物,测压组件用以实时监测制程腔中的压强;所述测压组件安装在制程腔上,所述干刻蚀装置还包括设置在所述测压组件与所述制程腔的连接处的套管,所述套管用以防止干刻蚀制程中产生的制程生成物流入测压组件内。本发明的干刻蚀装置,通过套管捕集制程生成物流入测压组件,从而避免测压组件受制程生成物的影响而出现零点漂移、维护周期短、检修成本高等问题;并且测压组件的从安装在排气组件上转到制程腔上,减少制程生成物沉积对测压组件的影响。另,本发明还公开了一种干刻蚀方法。
  • 刻蚀装置方法

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