专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果64个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种四丝杆限位调平的机械装置和3D打印机-CN202110914374.4在审
  • 洪英盛;何桂华;耿宏伟 - 深圳市智能派科技有限公司
  • 2021-08-10 - 2021-10-22 - B29C64/245
  • 本发明公开了一种四丝杆限位调平的机械装置和3D打印机,该装置包括:打印平台、主控板和四个Z轴丝杆组件,Z轴丝杆组件包括光轴、丝杆、步进电机、上固定板、下固定板、连接板和限位开关;上固定板和下固定板在竖直方向上间隔设置,丝杆和光轴平行间隔设置,光轴的两端分别连接于上固定板和下固定板;丝杆的一端转动连接于上固定板,丝杆的另一端向下固定板延伸并且与步进电机传动连接;连接板通过丝杆螺母与丝杆传动连接;连接板包括调平部,限位开关靠近上固定板位置设置,调平部的位置与限位开关的位置对应,四个连接板分别连接于打印平台的四个角,四个调平部通过与限位开关接触以进行零点定位,以实现微调高度。
  • 一种四丝杆限位机械装置打印机
  • [发明专利]反应腔室、半导体工艺设备及半导体工艺方法-CN202110714585.3在审
  • 耿宏伟 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2021-06-25 - 2021-09-28 - H01L21/677
  • 本申请公开了一种反应腔室、半导体工艺设备及半导体工艺方法,涉及半导体工艺领域。一种反应腔室包括:腔室主体;承载机构,设置在所述腔室主体中,用于承载晶圆;第一传输机构,设置在所述腔室主体中,用于在所述承载机构与所述腔室主体内的第一容纳区域之间传输晶圆;第二传输机构,设置在所述腔室主体中,用于在所述承载机构与所述腔室主体内的第二容纳区域之间传输工艺遮挡件。一种半导体工艺设备包括上述反应腔室。一种半导体工艺方法应用于上述半导体工艺设备。本申请能够解决在进行多种薄膜沉积工艺过程中,由于晶圆多次传入或传出腔室,导致机械手长时间被占而影响产能等问题。
  • 反应半导体工艺设备工艺方法
  • [发明专利]一种多干扰波段的激光定向红外对抗转塔-CN202011345359.4在审
  • 郝赫;张亦卓;顾海栋;郑四木;韩林森;耿宏伟 - 中国航空制造技术研究院
  • 2020-11-26 - 2021-03-09 - F41H13/00
  • 本发明提供了一种多干扰波段的激光定向红外对抗转塔,包括:依次设置的激光器模块、合成模块和机载光电式转塔,所述激光器模块包括可发射不同波长的红外激光器Ⅰ、红外激光器Ⅱ、红外激光器Ⅲ、红外激光器Ⅳ、红外激光器Ⅴ和红外激光器Ⅵ;所述合成模块包括分束镜Ⅰ、分束镜Ⅱ、分束镜Ⅲ、分束镜Ⅳ和分束镜Ⅴ,所述合成模块用于光谱合成,得到不同波长的干扰激光束,并将所述干扰激光束注入机载光电式转塔;所述机载光电式转塔包括转塔外壳、旋转底座和光学球罩,用于将干扰激光束通过光学球罩输出。本发明提供的多干扰波段的激光定向红外对抗转塔解决了相关技术中激光束谱线宽度较窄的问题。
  • 一种干扰波段激光定向红外对抗
  • [发明专利]光照射装置及半导体加工设备-CN202010321694.4在审
  • 顾文亮;王洪彪;白志民;李强;邱国庆;耿宏伟 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2020-04-22 - 2020-08-07 - H01L21/67
  • 本申请实施例提供了一种光照射装置及半导体加工设备。该光照射装置设置于半导体加工设备的工艺腔体内的顶部,用于对工艺腔体内的工件进行光照处理,其包括:反射器及光源模组;反射器固定于工艺腔体上,反射器内形成有反射腔,反射腔用于对光线进行反射并调节光线状态;反射器的顶部开设有与反射腔连通的光入射口;反射器的底部设有多个与反射腔连通的光出射孔,多个光出射孔的排布形状与其辐照区域的形状对应设置;光源模组固定设置于反射器的上方,并且光源模组的光出射面与光入射口对应设置。本申请实施例无需采用旋转机构调节光线分布方式,因此有效降低光照射装置设计与加工制造难度,减少设备报错与故障,从而大幅降低应用及维护成本。
  • 照射装置半导体加工设备
  • [实用新型]一种带有分流结构的污水处理装置-CN201920652561.8有效
  • 高叶玲;王刚;耿宏伟;赵政 - 高叶玲
  • 2019-05-08 - 2020-04-14 - B01D29/56
  • 本实用新型公开了一种带有分流结构的污水处理装置,涉及污水处理设备技术领域,具体为一种带有分流结构的污水处理装置,所述箱体的上表面搭接有箱盖,所述箱体的内部活动连接有第一过滤网,所述第一过滤网的下表面固定连接有第一钢网,所述第一钢网的一侧固定连接有第一滑轨,所述箱体靠近第一过滤网的内部活动连接有第二过滤网,所述第二过滤网的下表面固定连接有第二钢网。该带有分流结构的污水处理装置,通过第一过滤网格栅,将污水进行初次过滤,将体积较大的杂质过滤在第一过滤网的设置中,通过第二过滤网活性炭,将污水进行第二次过滤,第二过滤网活性炭具有吸附功能,对水体中异味和有机物进行过滤。
  • 一种带有分流结构污水处理装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top