“美作昌宏”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法-CN201780070662.8有效
发明人： 美作昌宏 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种能够兼顾图案细微化和多灰阶的半色调掩模。其解决手段在于在透明基板上具有：包括第一半透膜的第一半透过区域；包括上述第一半透膜与第二半透膜的叠层的第二半透过区域；透明区域；以及第一半透过区域与第二半透过区域邻接的区域，上述第一和第二半透过区域对曝光光的透过率分别为10～70[％]和1～8[％]，第二半透过区域使曝光光的相位反转。其结果，在邻接的第一半透过区域与第二半透过区域的边界部分，曝光光的强度分布陡峭地变化，能够改善经曝光后的光致抗蚀剂图案的剖面形状。
色调光掩模坯制造方法

[发明专利]半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法-CN201780070660.9有效
发明人：山田慎吾;森山久美子;美作昌宏 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供一种能够曝光细微光致抗蚀剂图案的多灰阶半色调掩模。其解决方法在于，在透明基板上形成有由半透膜的图案构成的半透过部和由相位偏移膜的图案构成的相位偏移部，相位偏移膜使曝光光的相位反转，相位偏移膜的透过率低于半透膜的透过率。并且，在半透过部与相位偏移部邻接的边界部，形成有半透膜、相位偏移膜和蚀刻阻挡膜的叠层膜，蚀刻阻挡膜由不被半透膜和相位偏移膜的蚀刻液蚀刻的材质构成。其结果，实现具有半色调的效果和相位偏移效果双方的光掩模。
色调光掩模坯制造方法

[发明专利]光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法-CN201810227081.7有效
发明人：山田慎吾;森山久美子;美作昌宏 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2018-03-19 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：提供能够兼顾图案的细微化和多灰阶的半色调掩模。在透明基板上具有相移膜和半透膜的层叠区域、以及由曝光光的光透过率比上述层叠区域高的半透膜构成的半透过区域，上述层叠区域具有与上述半透过区域和/或露出透明基板的透明区域接触的边界部，上述相移膜使曝光光的相位偏移，而且，上述层叠区域相对于曝光光的光透过率为1～8％。在上述边界部，曝光光的强度分布急剧变化，能够改善被曝光的光致抗蚀剂图案的剖面形状。
层叠区域曝光光光透过率透过区域透明基板半透膜边界部光掩模相移光致抗蚀剂图案半色调掩模光掩模坯急剧变化剖面形状强度分布透明区域相位偏移细微化灰阶图案曝光制造

[实用新型]接近式曝光用光掩膜-CN201520328358.7有效
发明人：齐藤隆史;美作昌宏 -专利权人：株式会社ＳＫ电子
申请日： 2015-05-20 - 公布日： 2015-11-18 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本实用新型提供一种适用于形成大型平板显示面板的接近式曝光用光掩膜。如图1(A)所示，接近式曝光用光掩膜具备：在表面形成遮光膜的透明基板上除去所述遮光部的一部分且露出于所述透明基板的透光部的图案(10a)；以及在所述透光部的图案的两侧边缘形成带状的、使相位移位的半透过膜的图案(12a)，并且在图案形成区域包括(通过遮光膜对曝光光进行遮光的)遮光部与(除去遮光膜和半透过膜且露出于透明基板的)透光部没有直接接触的部分。
接近曝光用光

[发明专利]多调光掩模及其修正方法-CN200910149587.1无效
发明人：加藤和男;三宅充纮;美作昌宏 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2009-07-06 - 公布日： 2010-02-24 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及多调光掩模及其修正方法。在多调光掩模的修正工序中，在必要的范围防止形成修正半透膜时可能发生的透过率的异常部的产生。本发明的多调光掩模(10)是在透明基板上设有透光部、遮光部、半透光部。其中，半透光部由半透膜图形(4a)形成。该半透膜包含利用激光熔断形成的厚膜部，并且在所述厚膜部设有透过率调节区域。
调光及其修正方法

1
共 5 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top