本发明是半导体材料检查装置以及利用其的半导体材料检查方法,公开能够测定大小比视觉检查的拍摄区域(FOV:Field of Vision)更大的大面积半导体材料的尺寸而检查半导体材料的质量的技术。半导体材料检查方法包括:拍摄图像获取步骤,针对半导体材料获取两侧边角区域各自的拍摄图像;边角点掌握步骤,在各个所述拍摄图像中检测所述半导体材料的边角点;拍摄点距离掌握步骤,掌握一个边角区域的拍摄点和另一个边角区域的拍摄点间的拍摄点距离;边长计算步骤,基于所述边角点和所述拍摄点距离来计算所述半导体材料的边长;以及半导体材料尺寸计算步骤,基于已计算的所述边长来计算所述半导体材料的尺寸。