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[实用新型]一种带真空冷手的冷热复合盘-CN202121072125.7有效
发明人：张逢洋;胡乃涛;张怀东 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-05-19 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型属于半导体设备的热处理单元，具体地说是一种带真空冷手的冷热复合盘，包括冷手、热盘、及可升降的冷手部分PIN组件与热盘部分PIN组件，还包括吸附口、真空通道及真空气源，吸附口设置于冷手与晶圆的接触面上，且吸附口与真空通道的一端连通，真空通道的另一端与真空气源之间通过管道连通，管道上设置有用于控制是否进行真空吸附的电磁换位阀。本实用新型通过吸附口、真空通道、真空气源与电磁换位阀的配合设置，可将晶圆吸附在冷手表面上，适用于两种或多种尺寸的晶圆热处理加工时使用而无需改造，且可避免冷手移动过程中晶圆发生偏移并导致碎片或取片失败，结构简单，使用可靠。
一种真空冷热复合

[发明专利]通过扫码枪获取加工参数的方法、装置、设备、介质-CN202010615428.2在审
发明人：康宁;吴昊;李硕 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2020-06-30 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： G06K7/10 文献下载
摘要：本发明公开了通过扫码枪获取加工参数的方法、装置、设备、介质，包括：接收订单用户输入的加工参数，生成加工工序；随机生成识别码图像，将其与加工工序进行关联映射生成工件加工文件，输出工序加工文件以及识别码图像；扫码枪扫描生成的识别码图像；获取识别码图像关联加工工序的工件加工文件，读取扫码枪扫描的识别码图像，在工件加工文件中查找与识别码图像所对应的加工工序，读取加工参数并显示在工控机中。本发明可使操作员不在手动选择作业加工参数，减轻操作员工作，提升正确率，很大程度上避免了晶圆返工，报废的情况出现。本发明可使条形码与机台内的配方根据客户的意愿自由匹配，条形码内容不受限制、使用灵活。
通过扫码枪获取加工参数方法装置设备介质

[实用新型]一种HMDS喷涂结构及装置-CN202121652103.8有效
发明人：韩禹;王若愚;孙元斌;刘硕;谢永刚 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-07-20 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： H01L21/56 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种HMDS喷涂结构及装置，该喷涂结构包括：喷嘴主体，喷嘴主体的一端为输入端，喷嘴主体的另一端为输出端，输入端与输出端导通，输入端用于连接进气通道，输出端和输入端之间设有喷洒腔，喷洒腔的直径小于进气通道的直径。本实用新型通过在输出端和输入端之间设置喷洒腔，且喷洒腔的直径小于进气通道的直径，当进气通道内的气体进入喷洒腔内时，由于喷洒腔的体积较大，从而起到一定的缓冲作用，当气体从输出端喷出时，气体流通相对稳定，从而使喷涂时气体流通更加均匀，且结构简单，便于大批量的生产。
一种 hmds 喷涂结构装置

[发明专利]高压过滤器-CN202110940509.4在审
发明人：张伟业;王一;刘迟 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-08-17 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B01D61/00 文献下载
摘要：本发明涉及半导体生产领域中高压药液过滤装置，具体地说是一种高压过滤器，过滤器上壳体与过滤器下壳体密封连接，防水锤滤膜背板、滤膜及滤膜背板均容置于过滤器上壳体与过滤器下壳体围成的空间内，滤膜背板通过过滤器下壳体支撑，滤膜位于防水锤滤膜背板与滤膜背板之间，过滤器上壳体压紧在防水锤滤膜背板上，防水锤滤膜背板及滤膜背板上分别开设有多个过水孔；过滤器上壳体上安装有过滤器进口接头，过滤器下壳体上安装有过滤器出口接头，过滤器进口接头及过滤器出口接头分别与过滤器上壳体和过滤器下壳体围成的空间内部相连通。本发明可防止水锤现象或柱塞泵间断供液对滤膜造成的损坏，过滤精度可依照不同精度滤膜自由选择，滤膜可更换。
高压过滤器

[发明专利]晶圆搬运装置及晶圆搬运方法-CN202110997889.5在审
发明人：吴天尧;王昊;陈兴隆;苗涛 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆搬运装置，包括外侧壁均设置有取送导向结构的第一支撑机构和第二支撑机构；还包括第一取送机构和第二取送机构，分别活动设置于所述第一支撑机构的取送导向结构和所述第二支撑机构的取送导向结构；所述第一取送机构和所述第二取送机构均包括朝向相反的末端执行部；还包括旋转机构和旋转驱动部，所述第一支撑机构和所述第二支撑机构固定设置于所述旋转机构，所述旋转驱动部驱动旋转机构作旋转运动，进而带动所述第一支撑机构和所述第二支撑机构的至少一个同步旋转，能够扩展晶圆的取送范围，有利于提高产能。本发明还提供了一种晶圆搬运方法。
搬运装置方法

[发明专利]一种可扩展连接多台光刻机的涂胶显影设备系统-CN201710573077.1有效
发明人：洪旭东;宗润福 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明涉及半导体生产领域，具体地说是一种可扩展连接多台光刻机的涂胶显影设备系统，包括涂胶显影设备、晶圆传输模块、接口站模块和光刻机，其中各个接口站模块通过晶圆传输模块依次串联，所述光刻机与所述接口站模块一一对应连接，涂胶显影设备与起始端的接口站模块相连，所述接口站模块上设有转移晶圆用的接口站机器人，所述晶圆传输模块内设有晶圆传输机构，所述晶圆传输模块两端分别通过可伸缩的框架长度调节组件与两侧的接口站模块连接。本发明具有模块化结构特点，并通过模块堆叠实现两个或多个光刻机的拓展联机功能，同时还能够适应机台间距安装误差。
一种扩展连接光刻涂胶显影设备系统

[发明专利]晶圆搬运装置及晶圆搬运方法-CN202110996215.3在审
发明人：吴天尧;王昊;陈兴隆;苗涛 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆搬运装置，包括第一支撑机构和第二支撑机构，所述第一支撑机构和所述第二支撑机构沿平移方向并排设置，所述第一支撑机构和所述第二支撑机构相对的两个外侧壁沿与所述平移方向垂直的伸缩方向均设置有取送导向结构；第一取送机构和第二取送机构，分别活动设置于所述第一支撑机构的取送导向结构和所述第二支撑机构的取送导向结构；所述第一取送机构和所述第二取送机构均包含末端执行部，所述第一取送机构的末端执行部和所述第二取送机构的末端执行部沿升降方向相对设置，并朝向相反的方向，实现对两个方向上的多片硅片进行搬运。本发明还提供了一种晶圆搬运方法。
搬运装置方法

[发明专利]一种改善方片边缘膜厚的涂胶方法-CN202110783962.9在审
发明人：张德强;汤振锋;边疆;孙悦 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-07-12 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善方片边缘膜厚的涂胶方法，属于光刻胶涂胶工艺技术领域。该工艺首先进行BSR背洗工艺，然后使用EBR进行方片边缘润湿，此后再进行喷胶涂覆，涂胶过程中进行关闭Cover、关闭Damper操作，成膜之后开启Cover并采用低转速甩干，保证溶剂完全挥发。该工艺可使得方片涂覆过程中保证腔体内充分的湿度，使得光刻胶在方片边缘处具有更好的流动性，在相同的曝光显影条件下可以得到更好的边缘图形。
一种改善边缘涂胶方法

[实用新型]基板夹持承载台-CN202120485717.5有效
发明人：郑云龙;张伟业 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-03-08 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： B25H1/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体行业基板湿法处理领域的一种基板夹持承载台，承载台上沿圆周方向分别安装有活动pin及固定pin，活动pin与固定pin均包括柱体及夹持块，固定pin的柱体固接在承载台上，活动pin的柱体转动安装在承载台上或相对平移地与承载台连接，活动pin和固定pin的夹持块均设置在柱体顶部，活动pin的底部安装有活动磁铁；固定座上安装有升降机构，升降机构的输出端连接有升降磁铁，升降磁铁通过磁力带动活动pin转动或平移，进而夹紧或放开基板；升降磁铁与活动磁铁之间的磁力大小通过升降机构驱动升降磁铁升降进行调节。本实用新型通过控制升降机构带动升降磁铁升降，实现活动pin对基板的夹紧与放开，结构简单，控制方便。
夹持承载

[发明专利]一种晶圆自动对中方法-CN202110540954.1在审
发明人：吴天尧;杨磊 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-05-18 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆自动对中方法，在机械手取回晶圆过程中传感器采集晶圆边缘信号，通过算法得出当前晶圆中心位置，将该位置与晶圆示教中心位置对比，如有偏差则机械手在下一次送出晶圆的过程中进行补偿；当晶圆缺口刚好落在其中一个传感器检测区域内，则可通过算法将缺口区域传感器测量结果舍去。按照本方法，机台无需额外增加工位，机械手在传片的过程中即可实现对晶圆偏移量的测量和补偿，完全不影响设备产能，而且成本远低于传统机械对中单元和光学对中单元。
一种自动方法

[实用新型]图像采集组件和对准系统-CN202120292463.5有效
发明人：温海涛;谢永刚;王金龙;孙洪君;施强 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-02-02 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种图像采集组件，包括相对设置的边缘图像采集部和特征标记图像采集部。相对设置的边缘图像采集部和特征标记图像采集部有利于后续同时采集所述两个基板的边缘位置信息和特征标记位置信息来参考实现对准；所述边缘图像采集部和所述特征标记图像采集部均具有相同的取像单元，所述取像单元包括共轴设置的图像反射件、图像传输件和取像件，进一步确保了所传输图像的清晰度，有利于在键合前实现不同基板的快速准确对准。本实用新型还提供了包括所述图像采集组件的对准系统。
图像采集组件对准系统

[发明专利]一种不间断式进片回片装置及控制方法-CN201710356787.9有效
发明人：彭博;洪旭东 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2017-05-19 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及一种不间断式进片回片装置，在底部设置LOAD PORT，从左向右依次为第一LOAD PORT、第二LOAD PORT、第三LOAD PORT和第四LOAD PORT，在第一LOAD PORT和第四LOAD PORT的对应上方分别设置第一缓存区和第二缓存区，用于临时存放FOUP缓存；在第一缓存区和第二缓存区的对应上方分别设置出片区和进片区，用于天车取放FOUP；还包括传送机构，用于在LOAD PORT、缓存区、进片区、出片区之间传递FOUP，设置于与LOAD PORT和缓存区所在平面不同且平行的平面内。本发明采用平面内FOUP交换功能，大大提高空间利用率，节省资源；采用双侧单独内循环方式进行循环，增加FOUP利用率；避免由于多单元换片盒时，片盒都空载等待回片而短时间不能进片的影响，实现无间断连续送片。
一种不间断式进片回片装置控制方法

[发明专利]一种晶圆搬运机器人上的晶圆夹持机构-CN202110489366.X在审
发明人：吴天尧;李舒驰 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-04-29 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： B25J15/00 文献下载
摘要：本发明属于电子半导体技术领域，特别涉及一种晶圆搬运机器人上的晶圆夹持机构。包括外壳、手指、推杆、直线驱动机构及位置检测机构，其中手指的一端与外壳连接，另一端设有手指定位块；直线驱动机构和位置检测机构设置于外壳内，推杆的一端与直线驱动机构连接，另一端穿出外壳且与推块连接；推块与手指定位块协同作用夹持放置于手指上的晶圆；位置检测机构用于检测推块是否到达夹持位置或初始位置。本发明可根据晶圆自身的强度调节夹持机构的夹持力度，同时调节夹持速度使夹持过程不对晶圆造成损伤。
一种搬运机器人夹持机构

[发明专利]晶圆表面颗粒清洗喷嘴-CN202010050969.5在审
发明人：陈兴隆;彭博 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： B05B7/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆表面颗粒清洗喷嘴包括液体输送管和雾化装置，所述液体输送管与所述雾化装置连接，所述雾化装置用于将所述液体输送管输送的清洗液雾化成液滴，以将液滴直接作用于晶圆表面。所述雾化装置将所述液体输送管输送的清洗液雾化成液滴，以将液滴直接作用于晶圆表面，避免了液滴输送设备的使用，减少了设备的复杂度，同时减少了液体在传递过程中出现相互结合的情况，可以保证液滴的尺寸，并且通过调节所述液体输送管内的液压即可调节液滴速度，液滴速度调节准确而便捷。
表面颗粒清洗喷嘴

[发明专利]光阻涂布的方法-CN201911370726.3在审
发明人：张晨阳;邢栗;王延明;朴勇男;王绍勇;关丽;孙洪君;张德强 -专利权人： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2019-12-26 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种光阻涂布的方法，包括将晶圆真空吸附在承片台上；所述承片台先以速度为20‑200r/s的第一速度旋转然后以速度为1000‑3000r/s的第二速度旋转，同时胶嘴对所述晶圆中心进行打胶；停止所述打胶，然后所述承片台以第三速度旋转，以对所述晶圆进行打胶回流，所述第三速度大于0，且小于所述第二速度；所述承片台以第四速度旋转，使光阻在所述晶圆表面成膜，以完成所述光阻涂布，所述第四速度大于所述第一速度和所述第三速度。所述承片台先以速度为20‑200r/s的第一速度旋转然后以速度为1000‑3000r/s的第二速度旋转，同时胶嘴对所述晶圆中心进行打胶，所述承片台采用先低速后高速的变速方式旋转，可以使光阻均匀的附着在晶圆的表面。
光阻涂布方法