专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理方法-CN201680076251.5有效
  • 长仓幸一;森本保;宇田秀一郎;齐藤刚 - 东京毅力科创株式会社
  • 2016-11-21 - 2023-04-04 - H01L21/3065
  • 本发明提供一种如下的技术:能够抑制对基板进行等离子体处理时暴露在等离子体中的硅或者金属的氧化膜的特性的劣化,且能够提高在等离子体处理中能够设定的处理条件的自由度。进行如下工序:等离子体处理工序,使用将由卤化物构成的处理气体等离子体化而得到的等离子体,对形成有硅或者金属的氧化膜的基板进行等离子体处理;以及加热处理工序,接着,在暴露在所述等离子体中的所述氧化膜露出的状态下,在非活性气体气氛或者真空气氛中将所述基板加热至450℃以上。由此,使因等离子体处理而劣化的所述氧化膜的特性恢复。
  • 处理方法
  • [发明专利]含氟有机硅化合物薄膜的制造方法及制造装置-CN201280022430.2无效
  • 加藤亮祐;宫村贤郎;森本保 - 旭硝子株式会社
  • 2012-05-09 - 2014-01-15 - G02B1/10
  • 本发明的目的在于提供可制造高耐久性的含氟有机硅化合物薄膜并能够连续进行成膜工序的制造方法及制造装置。本发明提供含氟有机硅化合物薄膜的制造方法及可很好地用于所述制造方法的制造装置,其特征在于,依次包括以下的(a)~(c)的工序:(a)将加热容器内的含氟有机硅化合物升温至蒸镀开始温度的升温工序;(b)达到蒸镀开始温度后,对来自所述含氟有机硅化合物的蒸气进行排气的预处理工序;(c)向真空室内的基板上供给实施了所述预处理工序的含氟有机硅化合物的蒸气而形成含氟有机硅化合物薄膜的成膜工序。
  • 有机硅化合物薄膜制造方法装置
  • [发明专利]防反射层叠体-CN201280019907.1有效
  • 藤井健辅;佐藤浩二;堀兴太;森本保 - 旭硝子株式会社
  • 2012-04-26 - 2014-01-01 - G02B1/11
  • 本发明提供反射色具有适度的色彩的同时其多色化得到抑制的防反射层叠体。防反射层叠体(1)具有基体(2)和层叠于该基体(2)的防反射层(3)。该防反射层(3)具有4层结构,自基体侧依次具有第一折射率层(31)、第二折射率层(32)、第三折射率层(33)和第四折射率层(34)。此外,第一折射率层(31)的折射率为1.6~1.9,第二折射率层(32)的折射率为2.2~2.5,第三折射率层(33)的折射率为2.0~2.3,第四折射率层的折射率(34)为1.2~1.5,且第二折射率层(32)的折射率比第三折射率层(33)的折射率大。
  • 反射层叠
  • [发明专利]导电性层叠体-CN200880107651.3无效
  • 森野正行;竹本和矢;宫泽英明;富田伦央;森本保;日野有一 - 旭硝子株式会社
  • 2008-09-18 - 2010-08-11 - H05K9/00
  • 本发明提供透射·反射带宽、导电性(电磁波屏蔽性)、可见光透射性、防可见光反射性、近红外线屏蔽性及耐湿性良好的导电性层叠体,使用了该导电性层叠体的等离子显示器用电磁波屏蔽体等。该导电性层叠体是包括基体(21)和形成于基体(21)上的导电膜(22)的导电性层叠体(20),其特征在于,导电膜(22)是从基体(21)侧开始依次交替层叠合计2n+1层[n为1~12的整数]的高折射率层(23a~23e)和金属层(24a~24d)、且在离基体(21)最远的位置还具备碳氢化合物层(25)的多层构造体,高折射率层(23a~23e)的折射率为1.5~2.7,碳氢化合物层(25)含有碳原子和氢原子且氢原子含量为9~50原子%。
  • 导电性层叠
  • [发明专利]等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜及保护板-CN200680024273.3无效
  • 森本保;小西正哲;川崎正人;尾山卓司 - 旭硝子株式会社
  • 2006-07-05 - 2008-07-02 - H05K9/00
  • 本发明提供即使不设置保护膜视觉反射率也较低的PDP用电磁波屏蔽膜及使用了该PDP用电磁波屏蔽膜的视觉反射率较低的PDP用保护板。所用的电磁波屏蔽膜10具备基体11和导电膜12,该导电膜12为从基体11侧开始交替层叠折射率1.55~2.5的无机物层12a和金属层12b而设置了n层金属层12b和(n+1)层无机物层12a的多层结构体,无机物层12a是含有选自金属氧化物、金属氮化物及金属氧氮化物的1种以上的层,金属层12b是由纯银或银合金形成的层,从基体侧数起为第2~n层的各金属层的膜厚大于从基体侧数起为第1层的金属层的膜厚,n为3~5的整数。
  • 等离子体显示屏用电屏蔽保护

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