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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]带防污膜的基体-CN201580058199.6有效
发明人：藤井健辅;宫村贤郎;桥本匡平 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2015-10-27 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： B32B7/06 文献下载
摘要：本发明提供一种带防污膜的基体，是在透明基体的主面依次具备防污膜、粘合层和保护膜且将所述粘合层和所述保护膜去除而使用的带防污膜的基体，具备所述粘合层和所述保护膜的状态下的所述防污膜的光学膜厚为10nm～50nm，去除所述粘合层和所述保护膜之后的所述防污膜的光学膜厚为3nm～30nm。
防污基体

[发明专利]带防污膜的透明基体-CN201711338071.2有效
发明人：藤井健辅;宫村贤郎 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2014-01-22 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： C03C17/30 文献下载
摘要：本发明提供一种带防污膜的透明基体，其具有：透明基体，所述透明基体具有第一主面和与所述第一主面相对的第二主面，且在所述第一主面的表面实施了防眩加工；和含氟有机硅化合物覆膜，所述含氟有机硅化合物覆膜为设置在所述透明基体的所述第一主面侧的防污膜；所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下。
防污透明基体

[发明专利]带防污膜的透明基体-CN201480006778.1有效
发明人：藤井健辅;宫村贤郎 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2014-01-22 - 公布日： 2018-01-26 - 主分类号： C03C17/30 文献下载
摘要：本发明提供一种带防污膜的透明基体，其具有透明基体，所述透明基体具有第一主面和与所述第一主面相对的第二主面，且在所述第一主面的表面实施了防眩加工；和含氟有机硅化合物覆膜，所述含氟有机硅化合物覆膜为设置在所述透明基体的所述第一主面侧的防污膜；所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下。
防污透明基体

[发明专利]光学部件-CN201480010204.1无效
发明人：藤井健辅;村上贵章;吉原明彦;宫村贤郎 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2014-02-07 - 公布日： 2015-10-28 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明提供一种光学部件，其具有：透明基体、层叠于所述透明基体上的低反射膜和层叠于所述低反射膜上的防污膜，所述防污膜的表面粗糙度Ra为3nm以下。
光学部件

[发明专利]含氟有机硅化合物薄膜的制造方法及制造装置-CN201280022430.2无效
发明人：加藤亮祐;宫村贤郎;森本保 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2012-05-09 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供可制造高耐久性的含氟有机硅化合物薄膜并能够连续进行成膜工序的制造方法及制造装置。本发明提供含氟有机硅化合物薄膜的制造方法及可很好地用于所述制造方法的制造装置，其特征在于，依次包括以下的(a)～(c)的工序：(a)将加热容器内的含氟有机硅化合物升温至蒸镀开始温度的升温工序；(b)达到蒸镀开始温度后，对来自所述含氟有机硅化合物的蒸气进行排气的预处理工序；(c)向真空室内的基板上供给实施了所述预处理工序的含氟有机硅化合物的蒸气而形成含氟有机硅化合物薄膜的成膜工序。
有机硅化合物薄膜制造方法装置

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