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- [发明专利]闸阀-CN201980002084.3有效
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和田慎一;井上英晃;柴山浩司;和出拓也;古濑晴邦
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株式会社爱发科
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2019-03-20
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2020-12-11
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F16K3/10
- 本发明的闸阀具备：阀箱，具有中空部和第一开口部及第二开口部，所述第一开口部及第二开口部隔着所述中空部彼此相对设置且成为连通的流道；中立阀体，配置在所述阀箱的所述中空部内且能关闭所述第一开口部；旋转轴，用于在使所述中立阀体相对于所述第一开口部处于关闭状态的阀关闭位置与使所述中立阀体处于从所述第一开口部退避的开放状态的阀开放位置之间转动所述中立阀体；旋转装置，由用于使所述旋转轴旋转的齿条小齿轮及用于驱动所述齿条小齿轮的旋转气缸构造；关闭解除驱动部，由进行解除所述中立阀体的关闭的操作的关闭解除气缸构造；和时序回路，能够依次进行解除所述中立阀体的关闭的操作和所述中立阀体的旋转操作。
- 闸阀
- [发明专利]滑动阀-CN201980003158.5有效
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和田慎一;井上英晃;柴山浩司;和出拓也;古濑晴邦
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株式会社爱发科
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2019-03-14
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2020-12-11
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F16K3/10
- 本发明的滑动阀具有：阀箱，具有中空部和第一开口部及第二开口部，所述第一开口部及第二开口部隔着所述中空部彼此相对设置且成为连通的流道；中立阀体，配置在所述阀箱的所述中空部内且能关闭所述第一开口部；旋转轴，用于在使所述中立阀体相对于所述第一开口部处于关闭状态的阀关闭位置与使所述中立阀体处于从所述第一开口部退避的开放状态的阀开放位置之间转动所述中立阀体；旋转装置，由用于使所述旋转轴旋转的齿条小齿轮及用于驱动所述齿条小齿轮的旋转气缸构造；关闭解除驱动部，由进行解除所述中立阀体的关闭的操作的关闭解除气缸构造；和时序回路，能够依次进行解除所述中立阀体的关闭的操作和所述中立阀体的旋转操作。
- 滑动
- [发明专利]溅射装置用阴极单元-CN201880003956.3有效
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中村真也;田代征仁
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株式会社爱发科
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2018-03-06
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2020-12-08
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C23C14/34
- 提供一种具有不使真空室对大气开放而可进行靶交换的构造的溅射装置用阴极单元。具有靶(Tg1，Tg2)并装设在真空室(Vc)内的本发明的溅射装置用阴极单元(CU)，其特征在于，包括：支撑框体(1)，其装设在真空室的外壁上；环形的可动座(2)，其受支撑框体支撑并可相对于真空室接近远离地进退；旋转轴体(3)，其受该可动座枢转支撑以便使可动座的内部空间(23)与靶的溅射面平行地延伸；至少一个靶支架(51，52)，以旋转轴体的轴线方向为X轴方向，以与X轴方向正交的可动座的进退方向为Z轴方向，所述靶支架朝旋转轴体的径向突出地设置在旋转轴体上，靶装卸自如地安装在所述靶支架的前端面上；准备室(Rc)，其设置在支撑框体的从Z轴方向上距离真空室的外壁面规定间隔的部分上，具有开关门(Rd)，且所述准备室独立于真空室并真空排气自如，并设置有使真空气氛的准备室回到大气压的排气阀Vv；以及一对真空波纹管(71，72)，其设置在可动座和准备室之间以及可动座和真空室之间并围绕靶支架；在靶支架上设置隔绝部(51a，51b)，在靶支架位于Z轴上且以靶朝向真空室侧的姿态使可动座在Z轴方向上相对于真空室进行接近移动到成膜位置上，隔绝部与形成在真空室上的第一开口(Vc1)的周边部紧密贴合，隔绝靶所在的真空室内部，并且以靶朝向准备室侧的姿态使可动座在Z轴方向上相对于真空室进行远离移动到更换位置上，隔绝部与形成在准备室上的第二开口(Rc2)的周边部紧密贴合，隔绝靶所在的准备室内部，隔绝部在远离第一开口和第二开口的可动座的中立位置上还具有使旋转轴体绕X轴旋转的旋转机构。
- 溅射装置阴极单元
- [发明专利]等离子体CVD装置和等离子体CVD法-CN202080002098.8在审
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小林忠正;座间秀昭
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株式会社爱发科
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2020-02-13
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2020-11-10
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C23C16/42
- 等离子体CVD装置(10)具备：真空槽(21)，其划定存储成膜对象(S)的空间；储藏部(30)，其储藏不含氢的异氰酸酯基硅烷，在储藏部(30)内对异氰酸酯基硅烷进行加热，生成用于供给至真空槽(21)中的异氰酸酯基硅烷气体；配管(11)，其将储藏部(30)与真空槽(21)连接，用于将储藏部(30)生成的异氰酸酯基硅烷气体供给至真空槽(21)；温度调节部(12)，其将配管(11)的温度调节为83℃以上180℃以下；电极(22)，其配置在真空槽(21)内；以及电源(23)，其向电极(22)供给高频电力。在真空槽(21)中，在成膜对象(S)上形成氧化硅膜时，真空槽(21)内的压力为50Pa以上且小于500Pa。
- 等离子体cvd装置
- [发明专利]真空泵-CN201880067018.X有效
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木村康宏;德平真之介;井上英晃;町家贤二
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株式会社爱发科
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2018-05-30
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2020-11-03
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F04C29/02
- 本发明通过简便的机构高效地将润滑油供给至轴承构件。真空泵具有第一壳体、第二壳体、转子轴、润滑油刮板和轴承构件。上述第二壳体安装于上述第一壳体，与上述第一壳体一起形成贮存润滑油的空间部。上述转子轴贯通上述第一壳体。上述润滑油刮板收容于上述空间部，并安装于上述转子轴。上述轴承构件固定于上述第一壳体，将上述转子轴以能旋转的方式进行支承。在上述第一壳体设置有能向上述轴承构件供给上述润滑油的供给口。上述第二壳体具有供由上述润滑油刮板刮起的上述润滑油碰触的内壁上部。上述第二壳体在上述内壁上部设置有能使上述润滑油移动至上述供给口上的凹部。
- 真空泵
- [发明专利]基板处理装置-CN202010284602.X在审
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江藤谦次;冈山智彦;龟崎厚治;阿部洋一
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株式会社爱发科
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2020-04-13
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2020-10-27
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H01L21/67
- 本发明的基板处理装置，具备：多段收纳多张基板的卡匣；能够密闭地收纳所述卡匣的腔室；使所述卡匣在所述腔室内升降的升降机构；将所述基板相对于所述卡匣搬出搬入的搬运机器人；以及控制所述升降机构及所述搬运机器人的动作的控制部，在所述腔室的侧面部设置有在将所述基板搬入所述卡匣和从该卡匣搬出时开口的搬出搬入口，所述搬运机器人具备载置所述基板的机械臂，所述机械臂能够在水平方向上移动并从所述搬出搬入口插入所述卡匣内，且能够在所述卡匣内上升或下降，所述控制部在所述卡匣内使所述机械臂下降的情况下，通过所述升降机构使所述卡匣上升，在所述卡匣内使所述机械臂上升的情况下，通过所述升降机构使所述卡匣下降。
- 处理装置
- [发明专利]薄膜制造装置、薄膜制造方法-CN201780028113.4有效
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木村孔
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株式会社爱发科
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2017-04-26
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2020-10-27
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C23C14/24
- 提供一种能够将膜厚传感器长期间使用的技术。使成膜材料（37）的微粒子从成膜源（12）放出，使薄膜在成膜对象物（15）和膜厚传感器（31）上成长，由膜厚传感器（31）求出薄膜的测量成长速度，将测量成长速度与预先设定的基准速度比较，当使电力变化而使测量成长速度接近于基准速度时，使膜厚传感器（31）与放出部（38）之间的闸门（35）开闭，使微粒子到达膜厚传感器（31）的时间变短。在膜厚传感器（31）上成长的薄膜的膜厚比不使闸门（35）开闭的情况薄，所以膜厚传感器（31）的寿命变长。
- 薄膜制造装置方法
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