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[发明专利]高功率射频螺旋线圈滤波器-CN201880084322.5有效
发明人：肖恩·凯利·奥布莱恩;赫马·斯沃普·莫皮迪维;赛义德·贾法·雅法良-特哈妮;尼尔·马丁·保罗·本杰明;杰森·奥古斯蒂诺 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： H01F17/04 文献下载
摘要：各种实施方式包含一种用于过滤基于等离子体的处理设备中的射频的装置。在各种实施方式中，RF滤波器装置包含以间隔开的布置彼此电耦合并基本平行的多个基本平面的螺旋滤波器。在一个实施方式中，基于接连螺旋的布置，平面螺旋滤波器中的每一个作为内部到内部的电连接或外部到外部的电连接被耦合到平面螺旋滤波器中的一个相邻螺旋滤波器，以便增加总电感值。公开了其他方法、装置、设备和系统。
功率射频螺旋线圈滤波器

[发明专利]具有来自侧壁的特征的处理室-CN201510178955.0有效
发明人：迪恩·J·拉森;杰森·奥古斯蒂诺;安德里亚斯·费舍尔;安德烈·W·迪斯派特;哈梅特·辛格 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2015-04-15 - 公布日： 2018-03-23 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及具有来自侧壁的特征的处理室，具体提供了一种处理室，该处理室包括具有顶部和侧壁的室壳体。该处理室还具有密封件，该密封件用于将所述室壳体的侧壁连接到位于所述处理室下方的下室的顶部。衬底保持器联结到所述室壳体的侧壁。此外，该处理室具有晶片升降环，通过延伸穿过所述侧壁的侧臂支撑的晶片升降环具有至少三个支柱，每个支柱具有至少一个指状物，指状物的顶部限定第一晶片传运平面。下室具有至少一个最低晶片支撑件，至少一个最低晶片支撑件限定第二晶片传运平面，其中，第一晶片传运平面和第二晶片传运平面之间的高度不大于传送臂的最大竖直行程，传送臂被配置为从第一晶片传运平面和第二晶片传运平面传送晶片。
具有来自侧壁特征处理

[发明专利]周边啮合电极载架以及包含所述载架的总成-CN200980125831.9有效
发明人： 杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-26 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：根据本公开的一种实施方式，提供了一种包含多部件电极和周边啮合电极载架的总成。所述周边啮合电极载架包含托架和多个往复电极支座。所述多部件电极位于所述托架的所述电极安装孔里。所述电极的所述垫板包含多个形成于其周边的安装凹口。所述往复电极支座可以往复进出所述安装凹口。范围较宽和较窄的其它实施方式是可以预料的。
周边啮合电极以及包含述载架总成

[发明专利]背面安装电极载架和结合该载架的组件-CN200980126144.9有效
发明人： 杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-26 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/38 文献下载
摘要：提供一种载架组件，包括背面安装电极载架和电极安装硬件。该背面安装电极载架包括电极容纳孔，其转而包括构造为限制设在该孔中的电极的横向移动的侧壁结构。该电极容纳孔进一步包括一个或多个侧壁突出部，其支撑设在该孔中的电极的重量。该电极安装硬件构造为从该载架的背面啮合设在该电极容纳孔中的电极，并且促使该电极抵靠该侧壁突出部以便限制在该电极容纳孔中的电极的轴向移动。还考虑范围更广和更窄的额外实施方式。
背面安装电极结合组件

[发明专利]粘合的硅电极的清洁-CN200880010263.3有效
发明人：杜安·奥特卡;杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;斯特芬·惠藤;洪·希赫;方言 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-03-27 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：清洁等离子体处理室元件的方法，包括用清洁溶液接触该硅表面，同时避免该清洁溶液对该元件的其他表面或区域造成的损害。一种待清洁的示例性等离子体处理室元件是弹性体粘合电极组件，其具有暴露于等离子体的硅表面的硅构件、支撑构件和该硅表面和该支撑构件之间的粘合材料。
粘合电极清洁

[发明专利]用于等离子体处理装置的组合喷淋头电极组件的清洁硬件套件-CN200880008159.0有效
发明人： 杰森·奥古斯蒂诺;查尔斯·瑞星 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-03-12 - 公布日： 2010-01-20 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：清洁硅电极组件表面的装置，其控制或消除对该电极组件粘合材料可能的化学侵蚀，并避免在酸处理、喷淋清洗、吹干、烘烤、装袋过程中用手接触待处理部件。该装置的方面包括一个套件，该套件包括固定电极组件的电极载台、允许接触该电极组件的处理支架、将该电极组件夹持于该电极载台的星形板、在该电极的酸清洗过程中向该电极组件的背侧供应氮气的氮气吹扫板、将水供应到该电极正表面的水漂洗板、供应氮气以干燥该电极组件的吹干板以及在将干净的电极组件装袋之前的烘烤过程中支撑该电极组件的烘烤支架。
用于等离子体处理装置组合喷淋电极组件清洁硬件套件

[发明专利]为延长电极寿命具有气流修改的喷头电极总成-CN200780046900.8有效
发明人： 杰森·奥古斯蒂诺;安东尼·德拉列拉;艾伦·K·龙尼;金在贤;拉金德尔·德辛德萨;王云昆;沙鲁巴·J·乌拉尔;安东尼·J·诺雷尔;基思·科门丹特;小威廉姆·M·丹蒂 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2007-12-17 - 公布日： 2009-10-21 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：提供一种用于等离子处理设备的喷头电极总成。该喷头电极总成包括第一构件，贴附于第二构件。该第一和第二构件具有流体连通的第一和第二气体通道。当工艺气体流过这些气体通道，在该第一和第二气体通道产生总的压降。在该第二气体通道的该总的压降的部分大于在该第一气体通道的该总的压降的部分。
延长电极寿命具有气流修改喷头总成

[发明专利]具有减少微粒特性的上电极背衬构件-CN200780038609.6有效
发明人：安东尼·德拉列拉;阿兰·K·龙尼;金在贤;杰森·奥古斯蒂诺;拉金德尔·德辛德萨;王云昆;沙鲁巴·J·乌拉尔;安东尼·J·诺雷尔;基思·科门丹特;小威廉姆·丹堤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2007-10-16 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：等离子处理装置的元件包括具有气体通道的背衬构件，该背衬构件连接于具有气体通道的上电极。为了抵消该金属背衬构件和上电极间的热膨胀系数的差异，气体通道的位置和大小被调整为在室温下是没有对齐的，而在升高的处理温度下是大体上同心的。因为热膨胀，该弹性体粘合材料中会产生不一致的切变应力。应用可变厚度的弹性体粘合材料或使用包含多个块的背衬构件可调节切变应力。
具有减少微粒特性电极构件

[发明专利]用于湿法清洁等离子处理装置的电极组件的方法和装置-CN200780038553.4有效
发明人：施洪;尹遥波;杰森·奥古斯蒂诺;凯瑟琳·周;阿芒·阿沃扬 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2007-10-10 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：提供用于对电极组件的背板或包括背板和电极板的电极组件进行清洁的方法。该方法可以被用于清洁各种材料制成的背板和电极组件，例如硅电极板以及石墨和铝背板。该背板和电极组件可以是新的、使用过的或翻新的。还提供在这些方法中使用的冲洗夹具。
用于湿法清洁等离子处理装置电极组件方法

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