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[发明专利]调节室部件-CN201810413115.1在审
发明人：阿米尔·A·亚西尔;石洪;约翰·多尔蒂;杜安·奥特卡;许林;阿芒·阿沃扬;克利夫·拉克鲁瓦;吉里什·洪迪 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2018-05-03 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明涉及调节室部件。提供了一种用于调节处理室的部件的装置。提供了一种保持兆频超声波调节溶液的罐。支架在罐被兆频超声波调节溶液填充时保持浸入兆频超声波调节溶液中的部件。兆频超声波调节溶液入口系统将兆频超声波调节溶液输送到罐。兆频超声波换能器头包括至少一个兆频超声波换能器，以向兆频超声波调节溶液提供兆频超声波能量，其中将兆频超声波能量通过兆频超声波调节溶液输送到部件。兆频超声波调节溶液排放系统在将部件保持在兆频超声波调节溶液中的位置上方的位置处从罐中排出兆频超声波调节溶液。致动器使兆频超声波换能器头移动通过罐。
超声波调节超声波换能器兆频超声波能量溶液输送室部件溶液排放系统部件保持溶液入口溶液填充浸入位置处致动器排出支架移动

[发明专利]气体喷射器微粒去除方法和装置-CN201410305531.1有效
发明人：克利福·埃里克·拉克鲁瓦;阿芒·阿沃扬 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2014-06-30 - 公布日： 2014-12-31 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：一种超声波清洁工具，其具有器件保持夹具、超声波浴以及清洁流体循环系统。超声波浴具有声场换能器，并且在结构上被配置成使器件保持夹具与超声波浴中的声场换能器进行超声波传播。器件保持夹具包括第一端板、第二端板、第一器件固定部件、第二器件固定部件以及多个压缩螺柱。第一器件固定部件从第一端板凸出，并且在结构上被配置成在收缩位置和伸展位置之间可重复转换。第二器件固定部件从第二端板凸出。器件保持夹具的压缩螺柱从第一端板跨至第二端板，并被分隔开以在诸压缩螺柱之间形成多个超声波传输窗。这些超声波传输窗共同地使位于器件保持夹具内的器件的绝大部分与超声波浴的声场换能器进行基本无阻的超声波传播。清洁流体循环系统具有清洁流体、清洁流体供给储液器、去离子水供给以及压缩干燥空气供给，它们流体连接至器件保持夹具。
气体喷射器微粒去除方法装置

[发明专利]周边啮合电极载架以及包含所述载架的总成-CN200980125831.9有效
发明人：杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-26 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：根据本公开的一种实施方式，提供了一种包含多部件电极和周边啮合电极载架的总成。所述周边啮合电极载架包含托架和多个往复电极支座。所述多部件电极位于所述托架的所述电极安装孔里。所述电极的所述垫板包含多个形成于其周边的安装凹口。所述往复电极支座可以往复进出所述安装凹口。范围较宽和较窄的其它实施方式是可以预料的。
周边啮合电极以及包含述载架总成

[发明专利]整修多部件电极的方法-CN200980125834.2有效
发明人： 阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-23 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种整修多部件电极的方法，所述多部件电极包含连接在导电垫板上的硅电极。所述方法包括：(i)去除多部件电极上的金属离子，所用方法为将多部件电极在基本上无醇的并且包含硫酸、过氧化氢和水的磷酸氢二钠(DSP)溶液中浸泡，接着用去离子水清洗所述多部件电极；(ii)去除所述多部件电极上的金属离子后，将所述多部件电极抛光；并且(iii)去除所述多部件电极硅表面的杂质，所用方法为用包含氢氟酸、硝酸、醋酸和水的混合酸溶液处理所述已抛光的多部件电极，接着用去离子水清洗所述经处理的多部件电极。范围更宽和更窄的其它实施方式是可以预料的。
整修部件电极方法

[发明专利]背面安装电极载架和结合该载架的组件-CN200980126144.9有效
发明人：杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-26 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/38 文献下载
摘要：提供一种载架组件，包括背面安装电极载架和电极安装硬件。该背面安装电极载架包括电极容纳孔，其转而包括构造为限制设在该孔中的电极的横向移动的侧壁结构。该电极容纳孔进一步包括一个或多个侧壁突出部，其支撑设在该孔中的电极的重量。该电极安装硬件构造为从该载架的背面啮合设在该电极容纳孔中的电极，并且促使该电极抵靠该侧壁突出部以便限制在该电极容纳孔中的电极的轴向移动。还考虑范围更广和更窄的额外实施方式。
背面安装电极结合组件

[发明专利]利用KELVIN探针分析检查静电卡盘的方法-CN200980107037.1有效
发明人： 阿芒·阿沃扬;石洪;约翰·多尔蒂 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-02-26 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：提供一种检查静电卡盘(ESC)的方法。该ESC具有用于半导体晶片的介电支撑表面。该介电支撑表面利用Kelvin探针扫描以获得表面电势映射。该表面电势映射对比基准Kelvin探针表面电势映射以确定该ESC是否通过检查。
利用 kelvin 探针分析检查静电卡盘方法

[发明专利]从电极组件上清洁表面金属污染物的方法-CN200880010414.5有效
发明人：洪·希赫;尹遥波;顺·杰克逊·吴;阿芒·阿沃扬;约翰·E·多尔蒂;琳达·蒋 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-03-27 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：清洁电容耦合等离子体反应器电极并减少表面粗糙度，以便清洁过的电极满足表面污染物规范并提高产量的系统而有效的方法。预清洁该清洁过程中使用的工具有助于防止待清洁电极的污染。
电极组件清洁表面金属污染物方法

[发明专利]粘合的硅电极的清洁-CN200880010263.3有效
发明人：杜安·奥特卡;杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;斯特芬·惠藤;洪·希赫;方言 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-03-27 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：清洁等离子体处理室元件的方法，包括用清洁溶液接触该硅表面，同时避免该清洁溶液对该元件的其他表面或区域造成的损害。一种待清洁的示例性等离子体处理室元件是弹性体粘合电极组件，其具有暴露于等离子体的硅表面的硅构件、支撑构件和该硅表面和该支撑构件之间的粘合材料。
粘合电极清洁

[发明专利]用于湿法清洁等离子处理装置的电极组件的方法和装置-CN200780038553.4有效
发明人：施洪;尹遥波;杰森·奥古斯蒂诺;凯瑟琳·周;阿芒·阿沃扬 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2007-10-10 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：提供用于对电极组件的背板或包括背板和电极板的电极组件进行清洁的方法。该方法可以被用于清洁各种材料制成的背板和电极组件，例如硅电极板以及石墨和铝背板。该背板和电极组件可以是新的、使用过的或翻新的。还提供在这些方法中使用的冲洗夹具。
用于湿法清洁等离子处理装置电极组件方法

[发明专利]利用V－I探针识别的等离子体蚀刻终点检测方法-CN200580010472.4无效
发明人： 阿芒·阿沃扬;弗朗索瓦·钱德拉塞克尔·达萨帕;布赖恩·麦克米林 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2005-03-30 - 公布日： 2007-07-11 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明披露了一种等离子体加工控制系统，包括：V－I探针，其用于有效检测等离子体加工室，其中该探针能够响应于射频(RF)电源(例如，约2MHz、约27MHz、或者约60MHz)而提供电参数；处理器，其耦合至和/或包括有能够提供用于每个电参数的谐波的可商购的探针产品；以及控制器，其耦接至处理器上，该处理器能够选择至少一种电参数和至少一种用于等离子体加工应用终点检测的相应谐波。电参数可以包括电压、相位、电流，而等离子体加工应用可以是介电蚀刻。根据本发明实施例的系统可以尤其适于在生产环境中介电蚀刻。
利用探针识别等离子体蚀刻终点检测方法

[发明专利]用于对一等离子体处理系统进行工具匹配及故障查找的方法-CN200480037347.8有效
发明人：赛义德·加法尔·加法利安－特黑兰尼;阿芒·阿沃扬 -专利权人：蓝姆研究公司
申请日： 2004-11-09 - 公布日： 2007-01-10 - 主分类号： G01R27/26 文献下载
摘要：测试一具有一接地腔室及一连接至一底部电极的RF电源馈线的等离子体处理系统。在大气中测量所述底部电极与所述接地腔室之间的一第一电容。将消耗性硬件部件安装到所述腔室中。在所述接地腔室包含所安装的所有消耗性硬件部件情况下在真空下测量所述底部电极与所述接地腔室之间的一第二电容。将所述第一电容测量值及所述第二电容测量值分别与一第一参考值及一第二参考值相比较，以识别及确定所述等离子体处理系统中的任何缺陷。所述第一及第二参考值分别代表一无缺陷腔室在大气中的电容及一包含所安装的所有消耗性硬件部件的无缺陷腔室在真空中的电容。
用于等离子体处理系统进行工具匹配故障查找方法

[发明专利]用于对一等离子处理系统进行工具匹配和故障排除的方法-CN03824681.3有效
发明人： 阿芒·阿沃扬;赛义德·加法尔·加法利安－德黑兰尼 -专利权人：蓝姆研究公司
申请日： 2003-09-26 - 公布日： 2005-11-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明揭示一种测试一包括一腔室、一射频功率源以及一匹配网络的等离子处理系统的方法。从所述射频功率源向所述腔室生成一射频功率信号，但不触发所述腔室内的任何等离子。在影响所述腔室的其它参数均保持恒定的情况下，对所述腔室收到的所述射频功率信号的电压、所述射频功率信号的电流以及所述射频功率信号的相位进行测量。基于所述电压、电流和相位计算出代表所述腔室阻抗的一个数值。将所述数值与一个参考值加以对比，从而确定所述等离子处理系统内的任何缺陷。所述参考值代表一无缺陷腔室的阻抗。
用于一等离子处理系统进行工具匹配故障排除方法

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