专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种雪崩光电探测器结构-CN202222645062.0有效
  • 弭伟;杨志茂;王斌;罗丽园 - 天津英孚瑞半导体科技有限公司
  • 2022-10-09 - 2023-01-13 - H01L31/107
  • 本实用新型公开了一种雪崩光电探测器结构,包括自下而上依次设置的N金属电极、n型InP衬底、n型InP缓冲层、n型DBR反射区域、n型InP漂移层、n型InGaAsP带宽过渡层一、本征型In0.53Ga0.47As吸收层、n型InGaAsP带宽过渡层二、n型InP电荷层、本征型InP盖层和SiN薄膜一。相比于传统的InP SACM(separate‑absorption‑charge‑multiplication)APD,本实用新型的雪崩光电探测器具有2个漂移区域,其中,In0.53Ga0.47As吸收层为第一个漂移区域,n型InP漂移层为第二个漂移区域,2个漂移区域通过InGaAsP带宽过渡层连接,避免载流子在界面处堆积,传统的InP APD只有InGaAs吸收层一个漂移区域。
  • 一种雪崩光电探测器结构
  • [发明专利]一种InGaAs焦平面红外探测器的制备方法-CN202211022239.X在审
  • 弭伟;杨志茂;王斌;陈新荣 - 北京英孚瑞半导体科技有限公司
  • 2022-08-25 - 2022-11-29 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种InGaAs焦平面红外探测器的制备方法,其光吸收层为In0.53Ga0.47As吸收层,空穴在光吸收层中为多数载流子,光生空穴的产生速度为其介质弛豫速度,在飞秒量级,可以忽略。光生电子在In0.53Ga0.47As吸收层中通过扩散和漂移运动至N型InP漂移层;同时在本发明的探测器,只有电子一种载流子控制实际的输运速度,相比于传统的PIN型InP焦平面探测器,本发明的探测器不受制于速度较慢的空穴,因此,其响应速度大幅度提高。在In0.53Ga0.47As吸收层的Zn扩散掺杂浓度从上往下逐步降低,因此其能带从上往下逐步降低,这将辅助电子的扩散,提高扩散速度。
  • 一种ingaas平面红外探测器制备方法

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