专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]集成型无源组件和其制造方法-CN201810282079.X有效
  • 张勇舜;李德章;陈建桦 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2018-04-02 - 2022-06-21 - H01L23/498
  • 一种集成型无源组件包括电容器、第一钝化层、电感器、绝缘层和外部接点。所述第一钝化层包围所述电容器。所述电感器在所述第一钝化层上并电连接到所述电容器。所述电感器包括多个导电柱。所述绝缘层在所述第一钝化层上并包围所述导电柱中的每一个。所述绝缘层包括邻近于所述第一钝化层的第一表面、与所述第一表面相对的第二表面和延伸于所述第一表面与所述第二表面之间的侧表面。所述导电柱中的每一个的宽度与所述导电柱中的每一个的高度的比是约1:7。所述外部接点电连接到所述电感器并接触所述绝缘层的所述第二表面和所述绝缘层的所述侧表面。
  • 集成无源组件制造方法
  • [发明专利]半导体设备封装和其制造方法-CN201911033667.0在审
  • 张勇舜;李德章 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2019-10-28 - 2020-12-01 - H01L23/31
  • 本发明提供一种半导体设备封装,其包含第一介电层、导电焊垫和电触头。所述第一介电层具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面。所述导电焊垫安置于所述第一介电层内。所述导电焊垫包含第一导电层和屏障。所述第一导电层与所述第一介电层的所述第二表面相邻。所述第一导电层具有面向所述第一介电层的所述第一表面的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面。所述第一导电层的所述第二表面从所述第一介电层暴露。所述屏障层安置于所述第一导电层的所述第一表面上。所述电触头安置于所述导电焊垫的所述第一导电层的所述第二表面上。
  • 半导体设备封装制造方法
  • [发明专利]半导体封装装置及其制造方法-CN201910105794.0在审
  • 张勇舜;李德章 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2019-02-01 - 2020-04-21 - H01L23/498
  • 本发明提供一种半导体封装装置,其包含透明载体、第一图案化导电层、第二图案化导电层及第一绝缘层。所述透明载体具有第一表面、与所述第一表面相对的第二表面及在所述第一表面与所述第二表面之间延伸的第三表面。所述第一图案化导电层设置在所述透明载体的所述第一表面上。所述第一图案化导电层具有与所述透明载体的所述第三表面共面的第一表面。所述第二图案化导电层设置在所述透明载体的所述第一表面上且与所述第一图案化导电层电隔离。所述第一绝缘层设置在所述透明载体上且覆盖所述第一图案化导电层。
  • 半导体封装装置及其制造方法
  • [发明专利]半导体装置-CN201610602399.X有效
  • 张勇舜;陈建桦;李德章 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2016-07-28 - 2019-08-30 - H01L23/522
  • 一种半导体装置,其包含衬底、至少一个集成无源装置、第一重布层、第二重布层,和导电导通孔。所述至少一个集成无源装置包含邻近于所述衬底的第一表面安置的至少一个电容器。所述第一重布层邻近于所述衬底的所述第一表面安置。所述第二重布层邻近于所述衬底的第二表面安置。所述导电导通孔延伸通过所述衬底,且电连接所述第一重布层与所述第二重布层。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN201410239582.9有效
  • 陈建桦;李德章;张勇舜;李宝男 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2014-05-30 - 2018-07-27 - H01L23/522
  • 本发明涉及一种半导体装置,所述半导体装置包括衬底、第一晶种层、第一图案化金属层、第一电介质层以及第一金属层。所述衬底具有第一表面,且所述第一晶种层位于所述第一表面上。所述第一图案化金属层位于所述第一晶种层上且具有第一厚度。所述第一图案化金属层包含所述第一图案化金属层的第一部分以及所述第一图案化金属层的第二部分。所述第一电介质层沉积于所述第一图案化金属层的所述第一部分上。所述第一金属层沉积于所述第一电介质层上且具有第二厚度,其中所述第一厚度大于所述第二厚度,其中所述第一图案化金属层的所述第一部分、所述第一电介质层以及所述第一金属层形成电容器,所述第一图案化金属层的所述第一部分为所述电容器的下电极,且所述第一图案化金属层的所述第二部分为电感器。
  • 半导体装置及其制造方法

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