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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]超临界处理装置-CN201910968081.7有效
发明人：李在晟;崔海圆;崔基勋;科里阿金;许瓒宁;金度宪;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-10-12 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的一实施例提供一种超临界处理装置，包括：器皿，具备在中央形成有第一流体孔的上器皿和在中央形成有第二流体孔的下器皿；以及空间部，在所述上器皿与所述下器皿之间布置基板，在所述上器皿的下部设置有第一引导部，所述第一引导部形成为从所述第一流体孔越向周边侧向下倾斜。
临界处理装置

[发明专利]基板清洁组合物、基板处理方法、以及基板处理设备-CN201811075544.9有效
发明人：崔海圆;姜基文;崔基勋;A·科里阿金;许瓒宁;李在晟;林权泽;金勇勲;李相昊 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种无水基板清洁组合物，基板处理方法和基板处理设备。所述无水基板清洁组合物包括含氟刻蚀化合物、溶解所述刻蚀化合物的溶剂、以及作为含磷化合物的粘结剂。
清洁组合处理方法以及设备

[发明专利]用于处理基板的装置-CN201910852522.7有效
发明人： 崔基勋;许瓒宁;金度宪;崔海圆;李在晟;A·科里阿金;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-09-10 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的装置包括：显影室，其通过供应显影溶液对基板执行显影工艺；超临界室，其通过供应超临界流体来处理基板；和传送室，其具有传送单元，该传送单元在显影室与超临界室之间传送基板W。
用于处理装置

[发明专利]基板清洁组合物、基板清洁方法和基板处理装置-CN201910962253.X有效
发明人：崔海园;崔基勋;李在晟;许瓒宁;A·科里阿金;金度宪;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-10-11 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：提供了一种用于清洁基板的组合物。根据一个实施方式，用于清洁基板的组合物包含有机溶剂，该有机溶剂针对聚苯乙烯胶乳的汉森溶解度参数为5以上至12以下。
清洁组合方法处理装置

[发明专利]用于处理基板的装置-CN201910350495.3有效
发明人：李在晟;崔基勋;崔海圆;A·科里阿金;许瓒宁;金度宪;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-04-28 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的装置，其包括在内部具有处理空间的腔室、在所述处理空间中支承所述基板的基板支承单元、以及安装在所述腔室中并调节所述处理空间中的温度的温度调节单元。所述温度调节单元包括加热所述处理空间的加热构件、以及冷却所述处理空间的冷却构件。所述冷却构件位于比所述加热构件更靠近所述腔室的中心轴线。
用于处理装置

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201710386836.3有效
发明人： 崔基勋;金袗圭;朱润钟;韩旻成;姜秉万 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2017-05-26 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开了一种液体处理装置和一种液体处理方法。该液体处理装置包括：提供用于加工基板的空间的室；设置在该室中以支撑基板的支撑单元；喷射单元，其具有喷嘴以用于向由支撑单元支撑的基板供应清洁介质；以及辅助喷射单元，其具有辅助喷嘴以用于向由支撑单元支撑的基板供应防污染液体。
处理装置方法

[发明专利]基板处理设备-CN202010698255.5在审
发明人：许瓒宁;崔基勋;姜基文;金度宪;李在晟 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-07-20 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的设备包括：处理腔室，在处理腔室中限定有处理空间；支撑单元，用于在处理空间中支撑基板；流体供应单元，用于将超临界流体供应到处理空间；以及控制器，其构造成控制流体供应单元，其中流体供应单元被构造成将超临界流体以第一密度或高于第一密度的第二密度选择性地供应至处理空间中。因此，当使用超临界流体干燥基板时，可以提高基板的干燥效率。
处理设备

[发明专利]处理基板的方法-CN202010672057.1在审
发明人：金度宪;崔基勋;许瓒宁;姜基文 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：公开了一种处理基板的方法。在一个实施例中，将超临界流体供应至腔室中的处理空间，从而处理所述处理空间中的基板。在排放所述处理空间的情况下，将所述超临界流体供应到所述处理空间。当排放所述处理空间时供应的所述超临界流体的温度，高于供应到所述处理空间用于处理所述基板的所述超临界流体的温度。
处理方法

[发明专利]喷嘴和包括该喷嘴的基板处理设备-CN201610615161.0有效
发明人：吴世勋;崔基勋;金袗圭 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2016-07-29 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：公开的是一种用于将流体供应到基板的喷嘴，所述喷嘴包括主体，所述主体具有液体排出管线和气体排出管线，液体流过所述液体排出管线，所述气体排出管线围绕所述液体排出管线，且气体流过所述气体排出管线，其中，所述主体包括多个液体排出孔以及气体排出孔，所述多个液体排出孔排出流过所述液体排出管线的液体，所述气体排出孔排出流过所述气体排出管线的气体。
喷嘴包括处理设备

[发明专利]用于处理基板的方法-CN201910653248.0在审
发明人：崔海园;A·科里阿金;郑址洙;崔基勋;李在晟;许瓒宁;金度宪 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2020-01-31 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种基板处理方法包括：通过将显影流体涂覆到经过曝光工艺和后烘工艺的基板而对所述基板执行显影工艺；将冲洗流体涂覆到经过所述显影工艺的所述基板；以及将涂覆有所述冲洗流体的所述基板移动到高压腔室且通过使用超临界流体处理所述基板。
基板涂覆冲洗流体显影工艺超临界流体处理高压腔室基板处理基板移动曝光工艺显影流体后烘

[发明专利]基板处置装置和基板处置方法-CN201810659255.7在审
发明人：崔海圆;崔基勋;姜基文;许瓒宁;A·科里阿金;李在晟 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-06-25 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明涉及基板处置装置和基板处置方法。基板处置装置包括第一处理室，其构造为向在基板上执行曝光处理之后被运送到第一处理室中的基板供给显影液，第二处理室，其构造为通过超临界流体处置基板，进给机械手，其构造为将基板从第一处理室递送到第二处理室；以及控制器，其构造为控制进给机械手，使得在由第一处理室供给的显影液驻留在基板上的状态下，基板被传送到第二处理室。
基板第一处理室处置装置机械手显影液进给超临界流体基板供给曝光处理控制器驻留运送

[发明专利]检查单元、检查方法和包括检查单元的基板处理设备-CN201610056572.0有效
发明人：梁根华;朱润钟;崔基勋;金光燮 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2016-01-27 - 公布日： 2018-11-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了检查单元、检查方法和包括所述检查单元的基板处理设备。基板处理设备包括：处理单元、喷嘴单元以及检查单元，其检查所述处理液体是否从所述处理液体喷嘴被正常地排放。所述喷嘴还包括喷嘴驱动器，所述喷嘴驱动器将所述处理液体喷嘴从过程位置和检查位置移动，在所述过程位置处，所述基板由所述处理单元处理，在所述检查位置处，所述处理液体喷嘴由所述检查单元检查。所述检查单元包括：透明材料的板；摄影构件，其设置在所述板下方；光源构件，其将光照射到从所述处理液体喷嘴朝在所述检查位置处的所述板排放的所述处理液体的路径上；以及确定构件，其从由所述摄影构件拍摄的图像确定所述处理液体是否被正常地排放。
检查单元方法包括处理设备

[发明专利]喷嘴、包括喷嘴的基板处理装置和基板处理方法-CN201610366103.9在审
发明人： 崔基勋;朱润钟;姜秉万 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2016-05-27 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开了一种向基板供应处理液的喷嘴，该喷嘴包括：主体，具有在其内部的通道，处理液在通道内流动，以及具有排出孔，排出孔与通道连通并且处理液从排出孔排出；以及压电元件，对流过主体的处理液加压，以便将处理液以液滴状态通过排出孔排出，其中通过排出孔排出的液滴的平均直径大于等于5微米且小于15微米。
喷嘴包括处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和方法-CN201510750418.9在审
发明人： 崔基勋;郑仁一;金性洙;朱润钟 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2015-11-06 - 公布日： 2016-05-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板处理装置和方法。所述方法包括：将清洁颗粒供给到基板以清洁基板。所述清洁颗粒是固体颗粒。所述固体颗粒对基板提供了一冲击波。
处理装置方法

[发明专利]用于处理基板的设备及方法-CN201510388839.1在审
发明人：金兑根;权五珍;崔基勋 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2015-07-03 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思的实施例提供了一种用于处理基板的设备及方法。所述设备包括：基板支撑单元，所述基板支撑单元用于支撑基板；以及液体供应单元，所述液体供应单元将处理液供应到基板支撑单元所支撑的基板上。所述液体供应单元包括：将处理液排放到基板上的喷嘴；将处理液供应到喷嘴的液体供应管线；安装在液体供应管线上的混合构件；在混合构件内形成的混合空间；以及连接到混合构件以将气体供应到混合空间的气体供应管线。所述混合构件包括：壳体，所述壳体在其内部形成有混合空间；以及流入孔，所述流入孔与壳体相通以使通过所述流入孔供应的气体在混合空间内与处理液混合以形成纳米级气泡。这样，这些气泡可被提供到各个图案之间的纳米级空间内。
用于处理设备方法

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