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- [发明专利]处理系统-CN202010783345.4有效
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小林敏之;细川正己;河原启之;桥本光治;菊本宪幸;墨周武
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日本电产三协株式会社
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2020-08-06
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2022-07-01
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B65G47/90
- 一种处理系统，当搬运机器人搬运处理对象物时，即使载在处理对象物上的物体从处理对象物洒落，也可抑制洒落的物体在处理装置外部扩散。在处理系统中，手移动机构使载置有处理对象物的手在第一位置和第二位置之间移动，在该第一位置，手配置于处理装置的内部，在该第二位置，手配置于处理装置的外部。用于接收从处理对象物掉落的物体的接收部件至少配置于载置在配置于第二位置的手上的处理对象物的下侧。在处理系统中，当载置有处理对象物的状态的手在第一位置和第二位置之间移动时，使接收部件的一部分沿手的往复移动方向移动的接收部件移动机构使接收部件的一部分向处理装置的内部移动并配置在处理装置的内部。
- 处理系统
- [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201810141286.3有效
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墨周武;远藤亨
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株式会社斯库林集团
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2018-02-11
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2022-03-22
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H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够将从处理液产生的凝结固体烟雾高效排出。基板处理装置具备基板的保持部件、使保持部件以旋转轴为中心旋转的旋转机构、处理液供给机构、内侧保护件、设置于内侧保护件的外侧的外侧保护件、以及包含与流路连通的排气口并将该流路内的气体引导至外部的排气导管，流路的通风阻力在排气口侧比相对于旋转轴而言与排气口相反的一侧小，内侧保护件和外侧保护件设置为使得基板的上方的部分中的位于与内侧保护件的上端相比的上方并且位于比外侧保护件的上端相比的下方的部分的气体主要从基板的上方朝向排气口侧流动。
- 处理装置方法
- [发明专利]基板处理装置-CN202080020643.6在审
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河原启之;桥本光治;菊本宪幸;墨周武
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株式会社斯库林集团
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2020-02-26
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2021-10-26
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H01L21/02
- 在伴随多个搬送机构对基板向多个腔室的搬送的基板处理装置中，第一搬送部(4)承担未处理的基板(S)的向第一腔室(31)的搬入及处理后的基板(S)的从第二腔室(32)的搬出，另一方面，第二搬送部(34)承担基板(S)的从第一腔室(31)向第二腔室(32)的移送。相对于作为从第一腔室(31)向第二腔室(32)的基板(S)的搬送路径的移送区(Zt)，第一搬送部(4)配置于上方，第二搬送部(34)配置于下方。针对两个搬送部，排他性地允许进入移送区(Zt)，因此能够既避免相互的干扰，又使两个搬送部个别地动作。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN202110358019.3在审
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墨周武
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株式会社斯库林集团
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2021-04-01
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2021-10-12
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H01L21/67
- 本发明提供在利用处理流体在腔室内对基板进行处理的基板处理装置中，能够有效防止从密封构件混入的杂质污染基板的技术。腔室(100)内设置有从腔室外接收处理流体并将其导入处理空间的导入流路(17)，从开口部观察，导入流路在所述处理空间中比处理空间内的所述基板更靠近里侧的位置开口。在比处理空间内的基板更靠开口部侧的位置，处理空间的顶面与基板保持部(15)的上表面隔着间隔地彼此平行相向，形成使通过了基板上方的处理流体流通且流路截面形状恒定的上侧流路(181)。上侧流路与由盖部(14)、腔室和密封构件(16)包围形成且流路截面面积大于上侧流路的缓冲空间(182)相连接，缓冲空间连接有将处理流体向腔室外排出的排出流路(183)。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN202110365256.2在审
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墨周武;折坂昌幸
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株式会社斯库林集团
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2021-04-01
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2021-10-12
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H01L21/67
- 本发明提供一种在利用处理流体在腔室内对基板进行处理的基板处理装置中，能够有效防止杂质对基板的污染，并良好地进行处理的技术。在腔室(100)内设置有从腔室外接收处理流体并将其导入处理空间的导入流路(17)。导入流路经由截面形状与由处理空间(SP)的壁面与支撑托盘(15)之间的间隙形成的间隔空间的截面形状大致一致的流路(173)、(177)供给处理流体。通过了处理空间的处理流体排出至宽度大于或等于处理空间的缓冲空间(182)、(186)，进一步经由在宽度方向上的缓冲空间的两端部连接的排出流路(183)、(187)向腔室外排出。
- 处理装置
- [发明专利]衬底处理装置及衬底处理系统-CN202110119190.9在审
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墨周武
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株式会社斯库林集团
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2021-01-28
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2021-08-03
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H01J37/32
- 本申请案涉及一种衬底处理装置及衬底处理系统。在处理容器内处理衬底的衬底处理装置中，防止因部件滑擦引起的扬尘污染衬底，且将盖部确实地锁定在容器主体。因此，衬底处理系统(1)具备：处理容器主体(12)；盖部(13)，可堵塞处理容器主体的开口；移动部(14)，使盖部相对于处理容器主体相对移动，而将开口打开及关闭；以及锁定机构(16)，将盖部锁定在处理容器主体。锁定机构具有：臂部(161)，在处理容器主体及盖部中的一侧向另一侧延设，且当盖部位于从处理容器主体离开的离开位置时，超出与处理容器主体的间隙空间延伸至另一侧；以及卡止部(162)，与臂部中当盖部位于离开位置时位于超出间隙空间的位置的部位卡合，限制臂部的位移。
- 衬底处理装置系统
- [发明专利]基板处理装置-CN202010579434.7在审
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墨周武;佐藤雅伸;折坂昌幸;上原大贵
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株式会社斯库林集团
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2020-06-23
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2020-12-29
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H01L21/67
- 沿着处理对象的基板表面形成稳定的处理流体的层流，从而效率良好地处理基板。本发明是一种基板处理装置，利用处理流体处理基板的表面，其包括：支撑托盘，在平板的上表面设置有收容基板的凹部；收纳容器，形成有与支撑托盘的外形对应的形状且顶面为水平面的空洞，且能够将支撑托盘以水平姿势收纳于空洞内的内部空间；以及流体供给部，向空洞供给处理流体，收纳容器具有流路，所述流路接受从流体供给部供给的处理流体并从在空洞的侧壁面面向空洞而开口的排出口向空洞内沿水平方向排出处理流体，上下方向上的排出口的下端位置与收纳在空洞内的支撑托盘的上表面的位置相同或者比其更靠上方。
- 处理装置
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