专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置-CN202010579434.7在审
  • 墨周武;佐藤雅伸;折坂昌幸;上原大贵 - 株式会社斯库林集团
  • 2020-06-23 - 2020-12-29 - H01L21/67
  • 沿着处理对象的基板表面形成稳定的处理流体的层流,从而效率良好地处理基板。本发明是一种基板处理装置,利用处理流体处理基板的表面,其包括:支撑托盘,在平板的上表面设置有收容基板的凹部;收纳容器,形成有与支撑托盘的外形对应的形状且顶面为水平面的空洞,且能够将支撑托盘以水平姿势收纳于空洞内的内部空间;以及流体供给部,向空洞供给处理流体,收纳容器具有流路,所述流路接受从流体供给部供给的处理流体并从在空洞的侧壁面面向空洞而开口的排出口向空洞内沿水平方向排出处理流体,上下方向上的排出口的下端位置与收纳在空洞内的支撑托盘的上表面的位置相同或者比其更靠上方。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN202010579435.1在审
  • 墨周武;佐藤雅伸;折坂昌幸;上原大贵 - 株式会社斯库林集团
  • 2020-06-23 - 2020-12-29 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基板处理装置,其利用超临界状态的处理流体处理基板的表面,保护基板不受由流路内的处理流体的局部气化引起的压力变动的影响。在利用超临界状态的处理流体处理基板(S)的表面的基板处理装置(1)中,包括:腔室框体(10),在内部设置有能够收容基板的处理空间(SP)、以及从外部接受处理流体并将处理流体引导到处理空间的流路(17);以及流体供给部(57),将处理流体压送到流路中,且在流路中设置有多个使处理流体的流通方向变化的弯曲部。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201880091453.6在审
  • 折坂昌幸;佐藤雅伸;基村雅洋;光吉一郎 - 株式会社斯库林集团
  • 2018-11-22 - 2020-11-03 - H01L21/304
  • 基板处理装置在支承于升降部的基板W的下方与处理槽1的底面之间具有狭缝板(31)。21个狭缝(33)的与中央区域(ARC)的宽度(WD1)相比,第一外区域(AR1)以及第二外区域(AR2)中的宽度(WD2、WD3)被设为更大。因此,在从一对喷出管(7)供给的、在中央区域(ARC)沿基板(W)面上升的处理液的流动性强的液流从狭缝板(31)通过而向基板(W)侧上升时,其动量被削弱。因此,能够缓和基板(W)面附近的处理液的流动的差异,能够在基板(W)面内形成速度差很小的整流。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201410092445.7有效
  • 佐藤雅伸;屋敷启之 - 斯克林集团公司
  • 2014-03-13 - 2017-04-12 - H01L21/67
  • 在基板处理装置中,喷射头从保持在基板保持部上的基板的上方向配置在杯部的外侧的待机舱的上方的检查位置移动。在检查位置上,从光出射部向由喷射头向待机舱喷射的处理液照射面状光。然后,由拍摄部获取包含有在处理液上出现的亮点的检查图像,由判断部基于该检查图像来判断喷射头的喷射动作是否良好。由此,与通过从喷射头向基板上喷射处理液来对喷射动作进行检查的情况相比,通过排除由来自基板的反射光以及碰撞到基板上的处理液的飞沫和雾气等产生的影响,能够高精度地判断喷射头的喷射动作是否良好。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置以及喷出头待机方法-CN201410091539.2有效
  • 宗德皓太;屋敷启之;佐藤雅伸 - 斯克林集团公司
  • 2014-03-13 - 2017-04-12 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基板处理装置以及喷出头待机方法。在基板处理装置中,在喷出头待机时,将位于待机位置的喷出头的喷出面浸渍在贮存在贮存槽内的浸渍液中。由此,能够防止设置在喷出面上的多个喷出口以及与喷出口连通的处理液流路干燥。其结果为,能够抑制或者防止微小的喷出口堵塞。在再次利用喷出头对基板进行处理时,在排出贮存槽内的浸渍液之后,利用除液部去除附着于喷出面的浸渍液。由此,能够防止在向基板的上方移动喷出头时等,残留在喷出面上的浸渍液落到基板上并附着在基板上(所谓的滴液)。
  • 处理装置以及喷出待机方法
  • [发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201410097580.0有效
  • 宗德皓太;田中孝佳;佐藤雅伸 - 斯克林集团公司
  • 2014-03-17 - 2017-01-04 - H01L21/67
  • 本发明提供在不使向基板供给的保护液的流量增大的情况下就能够抑制基板损伤的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有:喷嘴移动单元,一边将液滴喷嘴和保护液喷嘴的位置关系保持为恒定,一边使液滴喷嘴及保护液喷嘴移动,以使喷射区域在基板的上表面内的位置在基板的上表面中心部和基板的上表面周缘部之间移动;变更控制单元,根据喷射区域在基板的上表面内的位置,变更控制着落位置和入射角度中的至少一方,在喷射区域的位置配置在基板的上表面中心部时,变更控制单元将着落位置及入射角度控制在第一状态,在喷射区域的位置配置在基板的上表面周缘部时,将着落位置及入射角度控制在与第一状态不同的第二状态。
  • 处理装置以及方法

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