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[发明专利]一种热模锻压力机的液压组合工作平台及热模锻压力机-CN202110686259.6有效
发明人： 周孟兴;张武军;鲍伟康;童柯淼;胡斌;董铭 -专利权人：浙江威力锻压机械有限公司
申请日： 2021-06-21 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B21J9/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种热模锻压力机的液压组合工作平台及热模锻压力机，液压组合工作平台包括上工作台板、下工作台板以及、液压缸以及控制组件。上工作台板上固定下模，上工作台板与下工作台板活动连接，下工作台板与压力机本体连接，液压缸设置在上工作台板与下工作台板之间。发生卡模时，液压缸带动上工作台板下降，使下模与上模分离。控制组件控制液压缸内的液体压力和流量。当上模与下模发生卡模时，只需要调节本发明中的控制组件，使液压缸处于液压卸荷状态，液压缸中的压力为零，液压缸带动上工作台板向下移动，固定在上工作台板上的下模即可在上工作台板的带动下与上模实现快速分离解模，操作简单，不会损坏模具。
一种锻压液压组合工作平台

[实用新型]一种热模锻压机高度调节及解模装置-CN202122954336.X有效
发明人： 周孟兴;董铭;张波;童柯淼;鲍伟康 -专利权人：浙江威力锻压机械有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： B21J13/03 文献下载
摘要：本实用新型涉及热模锻压技术领域，尤其涉及一种热模锻压机高度调节及解模装置。所述热模锻压机高度调节及解模装置包括：设置在平台上的底座，设置在底座上部的球头座，设置在球头座底端的活塞，设置在球头座上部的球头螺杆，套设在球头螺杆底端的蜗轮以及与球头螺杆连接的偏心调整杆。通过球头座与底座、活塞的结合设置，使高度调节及解模装置在完成对滑块高度调节的同时，也可以在滑块下方的锻压模具卡模时，通过活塞向下运动带动上方的球头座以及球头螺杆下落，以使滑块完成向上的相对运动，达到解模的目的。
一种锻压高度调节装置

[实用新型]一种热模锻压力机的液压组合工作平台及热模锻压力机-CN202121378927.0有效
发明人： 周孟兴;张武军;鲍伟康;童柯淼;胡斌;董铭 -专利权人：浙江威力锻压机械有限公司
申请日： 2021-06-21 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： B21J9/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种热模锻压力机的液压组合工作平台及热模锻压力机，液压组合工作平台包括上工作台板、下工作台板以及液压缸。上工作台板上固定下模。上工作台板与下工作台板活动连接，下工作台板与压力机本体连接。液压缸设置在上工作台板与下工作台板之间。液压缸带动上工作台板升高或者降低。当上模与下模发生卡模时，只需要调节本实用新型中液压缸的阀门，使液压缸处于液压卸荷状态，当液压缸中的压力为零时，液压缸向下移动，带动上工作台板向下移动，固定在上工作台板上的下模即可在上工作台板的带动下与上模实现快速分离解模。本实用新型的液压组合工作平台，能够快速解决卡模问题，并且操作简单，不会损坏模具。
一种锻压液压组合工作平台

[发明专利]用于改进蚀刻后晶圆内关键尺寸均匀性的烘烤方法及设备-CN201110341967.2有效
发明人：陈蕾;胡林;鲍晔;周孟兴 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2011-11-02 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于改进蚀刻后晶圆内关键尺寸均匀性的曝光后烘烤方法及设备。其中，所述的方法包括如下步骤涂覆光刻胶；光刻胶曝光；在光刻胶曝光后利用热板对晶圆进行烘烤；烘烤后的显影；以及在显影之后执行刻蚀；其中，所述热板包括不少于两个的加热环，在利用热板对晶圆进行曝光后烘烤的步骤中，所述加热环的设定温度不相同。本发明提出的新方法是应用一种新型的烘烤热板在晶圆内不同半径设置不同的曝光后烘烤温度以得到不同的光刻后关键尺寸。这种方法不会影响产率，并且完全可以应用现行的自动制程反馈控制系统。
用于改进蚀刻后晶圆内关键尺寸均匀烘烤方法设备

[发明专利]掩模板、曝光设备最佳焦距的监控方法-CN201210556659.6有效
发明人：谭露璐;赵新民;金乐群;周孟兴 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-12-20 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：一种掩模板、最佳焦距的监控方法，其中，所述掩模板包括基板；位于基板上的监控图形，所述监控图形包括正方形本体和位于正方形本体的四周侧壁的矩形凸起部，所述矩形凸起部为若干平行的光栅条。采用所述掩模板进行最佳焦距的监控时，提高了监控的精度。
模板曝光设备最佳焦距监控方法

[发明专利]一种能消除晶圆表面彩纹的光刻工艺方法-CN201210081780.8有效
发明人：胡林;陈蕾;鲍晔;周孟兴 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-03-26 - 公布日： 2017-06-23 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种能消除晶圆表面彩纹的光刻工艺方法，具体包含步骤1、在旋转机带动载片台及晶圆一同旋转时，向晶圆的表面持续涂覆稀释剂；步骤2、在旋转机带动载片台及晶圆一同旋转时，向晶圆的表面涂覆光刻胶；步骤3、光刻胶成膜；步骤4、洗边，利用光阻去除溶剂清洗晶圆边缘位置处的光刻胶；步骤5、旋干残留在晶圆边缘位置处的光阻去除溶剂。本发明方法通过利用旋转机的不同旋转速度带动晶圆旋转，并在各个不同转速阶段持续对晶圆表面涂覆稀释剂，达到预先对晶圆表面进行清洗的作用，从而减少光刻胶涂覆过程中彩纹的产生并降低返工率。
一种消除表面光刻工艺方法

[发明专利]降低光刻胶图形缺陷的方法及形成光刻胶图形的设备-CN201210303978.6有效
发明人：胡林;王彩虹;陈蕾;鲍晔;周孟兴 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-08-23 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本申请公开了一种降低光刻胶图形缺陷的方法，应用于涂胶/显影机，包括判断所述涂胶/显影机中运行第一光刻胶之前，是否运行过第二光刻胶；统计所述第二光刻胶结束运行后，所述第一光刻胶开始运行前，所述涂胶/显影机中处理过的晶圆数量；根据所统计的处理过的晶圆数量，控制所述涂胶/显影机的工作。利用本申请所提供的方法，可以避免所述第二光刻胶运行过程中所产生的废气，对所述第一光刻胶的运行带来的不利影响，进而解决所述第一光刻胶在所述第二光刻胶之后运行，所述第一光刻胶形成的光刻胶图形间隙中，出现光刻胶残留互联的现象，影响后续刻蚀工艺的正常进行的问题。
降低光刻图形缺陷方法形成设备

[发明专利]光阻管路及光阻涂布设备-CN201610885970.3在审
发明人：凌意明;周孟兴;韩玉龙;王琦 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2016-10-10 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种光阻管路，包括：存储箱、光阻喷嘴和延长管，所述存储箱存储光阻溶液，所述光阻喷嘴的一端连接所述存储箱，所述光阻喷嘴喷出光阻溶液，所述延长管具有相互连接的滞存部和排出部，所述滞存部远离所述排出部的一端连接所述光阻喷嘴，所述滞存部滞存光阻溶液。本发明提供的光阻管路及光阻涂布设备，通过延长管具有的滞存部滞存光阻溶液，为光阻溶液提供一个较为湿润的环境，从而防止光阻溶液在光阻喷嘴产生结晶，降低了由于解决结晶问题而导致的光阻损耗，进而降低了生产成本，提高了生产效率。
管路光阻涂布设

[发明专利]套刻工艺控制方法-CN201410099790.3在审
发明人：金乐群;赵新民;周孟兴 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2014-03-18 - 公布日： 2015-09-23 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开一种套刻工艺控制方法，该方法包含以下步骤：将显影后检测获取的显影后套刻误差结果直接发送至自动工艺控制系统；自动工艺控制系统根据显影后套刻误差结果输出工艺控制的优化设置以改善工艺；将蚀刻后检测获取的套准偏移数据发送至自动工艺控制系统；自动工艺控制系统根据该结果对工艺设置作进一步优化。本发明在完成显影后检测后直接将误差结果发送给自动工艺控制系统，实现在一个批次产品在显影后检测完成后马上就可以给套刻控制提供快速的反馈报告，解决反馈时间延迟过长的问题。使套刻控制更稳定，减少套刻工艺的返工率。
刻工控制方法

[实用新型]机械压力机的调模机构-CN201420145508.6有效
发明人：董铭;周孟兴 -专利权人：浙江威力锻压机械有限公司
申请日： 2014-03-28 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： B21J13/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种机械压力机的调模机构。为克服现有机械压力机的调模机构负荷小、调模量小的缺陷，本实用新型采用的技术方案包括连杆、滑块、连接在滑块下方的上工作台，所述连杆的下部套有一底部带进油口的油缸，该油缸与连杆通过一升降组件连接，位于油缸内的连杆底部设有销轴，销轴上设有一挡块，该挡块的外壁与油缸的内壁相适应，所述的滑块安装在油缸的底部；所述油缸通过升降组件沿连杆长度方向上下平移，以实现上工作台的上下平移。其优点是：油缸和滑块之间的接触面积大，能够承受的力大，可用于大负荷操作；压力油通过进油口进入到油缸内，推动油缸向下移动，填充入的压力油高度即上工作台的位移，调模量大。
机械压力机机构

[发明专利]一种用于光刻工艺的溶剂清洗池-CN201210162976.X有效
发明人：胡林;陈蕾;鲍晔;周孟兴 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-05-24 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于光刻工艺的溶剂清洗池，该溶剂清洗池安装在光阻涂覆机构的一侧；特点是，该溶剂清洗池内依次分隔设置有若干个单独的溶剂清洗单元；每个溶剂清洗单元的底部分别通过管道吐出稀释剂；每个溶剂清洗单元的顶部分别设置有通孔，用于放置光阻喷嘴位于原始位置。所述的每个溶剂清洗单元根据放置其中的光阻喷嘴所吐出的光阻类型，以相应的流速和频率由管道吐出与所述光阻类型相对应的稀释剂。本发明为每个光阻喷嘴设置单独的溶剂清洗单元，并且对于每种类型的光阻采用相应的稀释剂以及稀释剂吐出速率和频率，能有效避免不同光阻之间的相互影响，提高溶剂清洗池工作效率以及晶圆的涂覆质量。
一种用于光刻工艺溶剂清洗

[发明专利]一种热板和用于该热板的晶圆自定位装置及方法-CN201210081772.3有效
发明人：陈蕾;胡林;鲍晔;周孟兴 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-03-26 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明涉及一种热板和用于该热板的晶圆自定位装置及方法，通过设置至少三个可转动的挡片，来替代原先热板上的若干限位垫圈，在热板上的中心位置围成一个圆形的限位空间；而当晶圆的传送位置有偏差而没有进入该限位空间之内时，通过使该些挡片转动至与热板表面基本垂直，可以将晶圆推送到正确的加热位置。因此，本发明能够避免因为晶圆传送的惯性漂移，而造成热板上的晶圆倾斜状况的发生，有效避免晶圆的返工，减少低良率风险。
一种用于定位装置方法

[实用新型]可调分级式气垫缸-CN201320074444.0有效
发明人：姚岳宝;周孟兴 -专利权人：浙江博仑高精机械有限公司
申请日： 2013-02-04 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： B21J9/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可调分级式气垫缸，包括相互连接在一起的多个汽缸，每个汽缸连接有一通气管，这些通气管都与多通阀连接，多通阀上连接有分气站，分气站上具有进气口；在位于首位的汽缸顶部具有盖板，位于末位的汽缸底部具有底板，每个所述汽缸上穿设有立柱，且每个立柱穿过汽缸内的活塞，各个立柱通过螺栓串接在一起，位于首位的汽缸内的活塞连接有顶杆。本实用新型采用上述结构后，能改变气垫缸顶出力的大小，行程的高低，从而改变锻压机的吨位，能满足多种金属制品的加工。
可调分级气垫

[实用新型]用于压力机的制动机构-CN201320074443.6有效
发明人：姚岳宝;周孟兴 -专利权人：浙江博仑高精机械有限公司
申请日： 2013-02-04 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： B30B15/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于压力机的制动机构，包括偏心套、弹簧座和皮带，所述偏心套内安装有偏心轴，该偏心轴上设置有手柄，在偏心套的外壁上固接有固定轴；所述弹簧座上设置有弹簧，所述固定轴穿过该弹簧座；所述皮带的一端固定在固定轴上，另一端绕过锻压机上的飞轮与弹簧座连接。本实用新型安装在锻压机上后，能实现锻压机单次制动和连续制动之间的转换，使操作工人工作更方便。
用于压力机制动机构

[发明专利]可调分级式气垫缸-CN201310051857.1在审
发明人：姚岳宝;周孟兴 -专利权人：浙江博仑高精机械有限公司
申请日： 2013-02-04 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： B21J9/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种可调分级式气垫缸，包括相互连接在一起的多个汽缸，每个汽缸连接有一通气管，这些通气管都与多通阀连接，多通阀上连接有分气站，分气站上具有进气口；在位于首位的汽缸顶部具有盖板，位于末位的汽缸底部具有底板，每个所述汽缸上穿设有立柱，且每个立柱穿过汽缸内的活塞，各个立柱通过螺栓串接在一起，位于首位的汽缸内的活塞连接有顶杆。本发明采用上述结构后，能改变气垫缸顶出力的大小，行程的高低，从而改变锻压机的吨位，能满足多种金属制品的加工。
可调分级气垫

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