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[实用新型]具有升降式冷却缓冲的线性电浆制程机构-CN202320761294.4有效
发明人：李原吉;刘品均;杨峻杰;林忠炫;赖青华;林岱蔚;纪宏鹏;卢志铭;杨正暐 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请为一种具有升降式冷却缓冲的线性电浆制程机构，线性电浆制程机构包括：一传输模组、一镀膜腔体及一缓冲腔体。传输模组沿一水平方向移动待镀物，将待镀物输入至镀膜腔体及缓冲腔体进行处理，传输模组具有一第一退让单元及一第二退让单元。缓冲腔体具有一位于传输模组下方的第一升降单元，第一退让单元及第二退让单元可挪移空间，供第一升降单元承接待镀物下表面，并向下位移至下冷却区进行缓冲处理。借此，本申请可达到提高整体生产线作业效率的目的，以及给予待镀物足够的冷却缓冲时间。
具有升降冷却缓冲线性电浆制程机构

[实用新型]具有冷却缓冲腔的线性电浆制程机构-CN202320759905.1有效
发明人：李原吉;刘品均;杨峻杰;林忠炫;赖青华;林岱蔚;纪宏鹏;卢志铭;杨正暐 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请为一种具有冷却缓冲腔的线性电浆制程机构，线性电浆制程机构包括一输送单元、一镀膜腔体及一缓冲腔体。输送单元沿一水平的传输方向移动一待镀物，将待镀物沿传输方向输入至镀膜腔体内以进行镀膜处理，而至少一缓冲腔体与镀膜腔体连接设置，输送单元将待镀物沿传输方向输入缓冲腔体内进行缓冲处理。缓冲腔体具有一转送区、一上冷却区以及一第一升降单元，第一升降单元可于上冷却区及转送区垂直升降移动，前述待镀物通过第一升降单元于转送区及上冷却区两者间移动。借此，本申请可达到有效缓冲待镀物及增加生产线效率之目的。
具有冷却缓冲线性电浆制程机构

[实用新型]电浆制程系统的基板夹持拉撑机构-CN202221704290.4有效
发明人：李原吉;刘品均;杨峻杰;蔡明展;卢志铭 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2022-07-04 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型为一种电浆制程系统的基板夹持拉撑机构，其设于真空电浆制程腔体内，本实用新型包括加工平台、夹持装置及拉撑装置。加工平台用以承放待制程基板，加工平台边缘设有水平位移区；夹持装置设于水平位移区，夹持装置具有相互枢接的上夹持件及下夹持件，下夹持件相对加工平台于初始位置及拉撑位置之间水平位移，上夹持件相对初始位置以及拉撑位置而分别具有开启状态以及夹持状态；拉撑装置设于夹持装置远离待制程基板一侧，拉撑装置具有一与夹持装置连接的配重件，配重件利用垂直方向的悬吊，常态将夹持装置往拉撑位置的方向迫紧。
电浆制程系统夹持机构

[实用新型]电浆制程系统的载具全吸附式机构-CN202221357325.1有效
发明人：李原吉;刘品均;杨峻杰;蔡明展;卢志铭 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2022-06-01 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型提供一种电浆制程系统的载具全吸附式机构，其设于一真空电浆制程腔体内并用于对一待制程基板进行电浆制程，真空电浆制程腔体内设有一第一电极，载具全吸附式机构包括一第二电极板及一吸附件。第二电极板对应第一电极设置，第二电极板与第一电极之间形成一电浆制程空间，第二电极板相邻电浆制程空间的一侧具有一表面；吸附件设于表面，吸附件吸附待制程基板以使待制程基板固定于第二电极板上。借此，本实用新型具备使待制程基板不翘曲的优点。
电浆制程系统载具全吸附机构

[发明专利]利用电浆蚀刻去除晶圆缺陷的再加工处理设备-CN202011475087.X在审
发明人：李原吉;刘品均;蔡明展 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2020-12-15 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种利用电浆蚀刻去除晶圆缺陷的再加工处理设备，用以对一晶圆进行电浆蚀刻，包括一真空腔体、一第一电极、一第二电极、一智能控制模组、一蚀刻气体模组及一监测模组。第一电极与第二电极对向设置于真空腔体内，蚀刻气体模组与监测模组分别与智能控制模组电性连接，蚀刻气体模组用以将蚀刻气体供应至第一电极与第二电极之间，监测模组用以监测蚀刻过程中的一特征参数；其中，智能控制模组能够根据特征参数所产生的变化，来控制蚀刻气体模组停止供应蚀刻气体。借此，本发明能够智能判断停止蚀刻的触发时点，具有提升再加工作业的效率。
利用蚀刻去除缺陷再加处理设备

[发明专利]立式连续真空工艺设备的载具-CN202010918939.1在审
发明人：李原吉;刘品均;陈松醮;杨峻杰;蔡明展 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本发明提供一种立式连续真空工艺设备的载具，其用以夹固一基板，基板具有一上端、一下端，载具包括一本体、一第一夹具、一活动座以及一第二夹具。本体贯穿设置一中空部；第一夹具展开或闭合地枢摆设置于本体，用以夹持于基板的上端；活动座可垂直地设置于本体；第二夹具枢摆设置于活动座，用以夹持于基板的下端；借此，当第一夹具与第二夹具于展开状态时，中空部能够承接基板，于第一夹具与第二夹具于闭合状态时，将基板往下拉撑，借以保持基板的平直度，避免因蚀刻作业而变形。
立式连续真空工艺设备

[发明专利]提高靶材利用率的磁性靶材-CN201810391263.8有效
发明人：李原吉;刘品均;杨峻杰;陈松醮;蔡明展;林子平 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2018-04-27 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁性靶材，所述磁性靶材包含背板、靶材单元及磁性单元。靶材单元设置在背板的一面，靶材单元包含内侧靶材、内环靶材以及外环靶材，内环靶材为上窄下宽的梯形，而内环靶材的两侧分别具有第一导磁面及第二导磁面，内侧靶材与第一导磁面相邻设置并与内环靶材之间形成倾斜的内侧导磁通道，外环靶材与第二导磁面相邻设置并与内环靶材之间形成倾斜的外侧导磁通道，磁性单元远离靶材单元设置在背板的另一面。因此，通过倾斜的内侧导磁通道与外侧导磁通道避免磁力线被弱化以及磁场干扰问题，达到有效引导电浆集中溅镀内环靶材的效果。
提高利用率磁性

[发明专利]连续式的镀膜装置-CN201810010994.3有效
发明人：李原吉;刘品均;杨峻杰;陈松醮;蔡明展;林子平 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2018-01-05 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种连续式的镀膜装置，包含：机体、设在机体的载盘模块、气孔板及活动式导电模块。机体具有中空状的镀膜腔体，载盘模块移动设于镀膜腔体底侧，载盘模块包含母载盘、子载盘及固设件，母载盘用来容置子载盘及固设件，且子载盘透过固设件的设置与母载盘间隔形成一隔绝空间，且隔绝空间延伸至容置凹槽的侧边，形成沉积缺口，使子载盘与母载盘的间隔距离为2毫米至5毫米，其中，子载盘用来承载待处理基材，以避免待处理基材溅镀到周围，而导致母载盘与子载盘产生短路，进而提升待处理基材的加工效率。
连续镀膜装置

[发明专利]非连续型磁性溅镀靶材装置-CN201810270288.2在审
发明人：李原吉;刘品均;杨峻杰;陈松醮;蔡明展;林子平 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种非连续型磁性溅镀靶材装置，其包含：基板以及靶材单元，靶材单元设置于基板，靶材单元具有长条状的内侧靶材、内环靶材及外环靶材，内环靶材设于内侧靶材与外环靶材之间，其中，内环靶材具有两对应设置的内环长边及连接两内环长边的两内环短边，两内环长边具有内环切断接缝，内环切断接缝的两侧形成对应连接的两内环断面；据此，使内环靶材呈不连续环状结构，以改善应力变形翘曲的问题。
内环靶材长边溅镀靶材非连续基板接缝单元设置环状结构应力变形不连续长条状短边翘曲

[发明专利]连续镀膜设备-CN201611036611.7在审
发明人： 刘品均;杨峻杰;陈松醮;蔡明展;林子平 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2016-11-23 - 公布日： 2018-05-29 - 主分类号： C23G5/00 文献下载
摘要：本发明公开一种连续镀膜设备，包含有依序设置的一载入腔室、一电浆清洁腔室以及一镀膜腔室，用以对一基板进行清洁，该电浆清洁腔室包含有一承载件、一电极、多个辅助电极以及一电源供应件，该承载件用以承载该基板，该电极设置于该基板远离该承载件的一侧，该些辅助电极设置于该电极相邻于该承载件的一侧且各具有一放电端，该些放电端分别对应于该基板的一侧边，该电源供应件电性连接于该电极与该些辅助电极，借由使该些放电端对应于该基板的该侧边，可以对该侧边进行电浆清洁，以去除铜绿、氧化铜等氧化物，进而提升该侧边的附着力并降低阻抗。
基板承载件辅助电极电极放电端侧边电浆连续镀膜设备电源供应清洁腔室附着力铜绿电极设置电性连接镀膜腔室清洁氧化铜氧化物腔室去除阻抗载入承载

[实用新型]一体式干蚀刻清洁设备-CN201720072923.7有效
发明人： 刘品均;杨峻杰;陈松醮;蔡明展;林子平 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2017-01-19 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种一体式干蚀刻清洁设备，是用以对一基材进行蚀刻，并清洁去除该基材进行蚀刻后产生的一充填物，该一体式干蚀刻清洁设备包含有一传输模块、一蚀刻模块以及一湿式清洁模块，该传输模块用以加载、载出该基材，该蚀刻模块连接该传输模块并对该基材进行蚀刻，而产生该充填物，该湿式清洁模块连接该蚀刻模块与该传输模块并对该基材进行清洁以去除该充填物。如此，在蚀刻完后，直接将该基材运送至该湿式清洁模块清洗去除掉该充填物，而可防止该充填物直接运出该蚀刻模块而对工艺造成污染的问题。
体式蚀刻清洁设备

[发明专利]多电极蚀刻装置-CN201410748238.2在审
发明人： 刘品均;陈松醮;蔡明展;林子平;杨峻杰 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2014-12-09 - 公布日： 2016-07-06 - 主分类号： H05K5/06 文献下载
摘要：一种多电极蚀刻装置，其包含多个等离子体蚀刻电极、多个承载单元以及多个电力输出模块，该些等离子体蚀刻电极各包含一第一蚀刻侧以及一相对该第一蚀刻侧的第二蚀刻侧，该些承载单元平行设置于各该等离子体蚀刻电极的两侧并承载对应的印刷电路板，各该电力输出模块包含一电力提供单元以及一与该电力提供单元电性连接的调整单元，各该电力输出模块分别与对应的该等离子体蚀刻电极电性连接，并依据对应的该等离子体蚀刻电极以该调整单元调整该电力提供单元的一输出电力。藉由各该电力输出模块的设置而得以针对不同的等离子体蚀刻电极调整该输出电力，提升工艺的稳定性。
电极蚀刻装置

[发明专利]用于印刷电路板的等离子体蚀刻装置-CN201410538409.9在审
发明人： 刘品均;陈松醮;蔡明展;林子平;杨峻杰 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2014-10-13 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：一种用于印刷电路板的等离子体蚀刻装置，其针对至少一印刷电路板进行蚀刻工艺，该等离子体蚀刻装置包含一腔体、至少一等离子体蚀刻电极、至少一气流吸附板以及至少一固定组件，该气流吸附板包含一基板、一贯通该基板的抽气孔以及一设置于该基板邻近该等离子体蚀刻电极一侧的吸附部，该等离子体蚀刻电极、该至少一气流吸附板以及该至少一固定组件均设置于该腔体内，该固定组件设置于该等离子体蚀刻电极与该气流吸附板之间并固定对应的该印刷电路板，使该印刷电路板藉由该吸附部稳定吸附于该气流吸附板上，藉以使该印刷电路板能够在稳定的状况下进行等离子体蚀刻工艺。
用于印刷电路板等离子体蚀刻装置

[发明专利]印刷电路板的平坦化方法-CN201410347268.2在审
发明人： 刘品均;陈松醮;蔡明展;林子平;林忠炫 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2014-07-21 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： H05K3/26 文献下载
摘要：一种印刷电路板的平坦化方法，该印刷电路板包含一基板、多个图案化设置于该基板上的导线以及一覆盖于该基板以及该些导线上的介电层，该印刷电路板的平坦化方法包含以下步骤：利用一等离子体对该印刷电路板的该介电层进行一干式蚀刻工艺，将覆盖于该些导线上的该介电层移除，使该些导线露出；续对该介电层与该些导线进行一化学机械研磨工艺，使该些导线与该介电层形成一光滑平面，完成该印刷电路板的平坦化。本发明藉由该干式蚀刻工艺先行将覆盖于该些导线上的该介电层移除，并配合化学机械研磨工艺，以避免该印刷电路板因外加压力而造成变形。
印刷电路板平坦方法

[发明专利]直立式基板传送装置-CN201310512833.1在审
发明人： 刘品均;曹承育;黄正忠 -专利权人：英属开曼群岛商精曜有限公司
申请日： 2013-10-25 - 公布日： 2015-04-29 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：一种直立式基板传送装置，其包含有一输送机构、一推进机构以及一动力源。该输送机构用来输送一基板。该输送机构包含有一滚轮以及一限位件。该推进机构设置于该输送机构的旁侧。该推进机构包含有一基座、至少一夹持单元、一轨道以及推杆。该夹持单元设置于该基座上，用来抓取该基板。该轨道设置于该基座上。该推杆以可滑行方式设置于该轨道内，其是用来推动该基板以沿着该滚轮移动。该动力源电连接于该输送机构与该推进机构。该动力源是驱动该夹持单元以抓取及松脱该基板，且该动力源另驱动该滚轮旋转及该推杆滑行以移动该基板。
立式传送装置

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