专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]显示装置-CN202010523879.3有效
  • 冈田训明;吉田圭介 - 夏普株式会社
  • 2020-06-10 - 2023-05-02 - G02F1/1362
  • 根据本发明实施方式的显示装置的有源矩阵基板在各像素中具有:TFT、实质上覆盖TFT的绝缘层、由透明导电材料形成并电连接于TFT的像素电极、位于TFT与像素电极之间的彩色滤光片以及中间层电极,该中间层电极由透明导电材料形成,且至少一部分位于绝缘层与彩色滤光片之间,并将TFT的漏极电极与像素电极电连接。在彩色滤光片中所形成的接触孔中,像素电极与中间层电极连接。从显示面法线方向观察时,接触孔与TFT的栅极电极至少部分重叠。
  • 显示装置
  • [发明专利]头戴式显示器用显示装置和头戴式显示器-CN202010237982.1有效
  • 冈田训明;加藤浩巳;吉田圭介 - 夏普株式会社
  • 2020-03-30 - 2022-04-15 - G02B27/01
  • 本发明提供一种在使设置在间隔物的配置位置的遮光部难以从视觉上被辨认的同时提高亮度,并抑制耗电量的增加的头戴式显示器用显示装置和头戴式显示器。头戴式显示器(HMD)用显示装置(10)包括并列配置的第一显示面板(20A)与第二显示面板(20B),第一显示面板(20A)和第二显示面板(20B)分别具有表面内被划分成显示区域(A1)和非显示区域(A2)的一对基板(21、22)和介于基板(21、22)之间的柱状间隔物(25),并且在基板(21)中设有与间隔物(25)重叠的间隔物遮光部(55),间隔物遮光部(55)在显示区域(A1)中的配置位置在第一显示面板(20A)与第二显示面板(20B)中不一致。
  • 头戴式显示器用显示装置显示器
  • [发明专利]液晶显示装置-CN201811134318.3有效
  • 冈田训明;内田诚一 - 夏普株式会社
  • 2018-09-27 - 2021-11-02 - G02F1/1339
  • 本发明的课题在于使具有氧化物半导体TFT的液晶显示装置的开口率提高,且抑制纱窗效应。液晶显示装置具有第一基板、第二基板、液晶层、及多个柱状间隔物。像素排列是包含红色、绿色及蓝色像素列的条纹排列。第一基板具有设于各像素中、具有氧化物半导体层的TFT。第二基板具有彩色滤光片层及遮光层。遮光层具有沿列方向延伸的多个第一遮光部和沿行方向延伸的多个第二遮光部。各柱状间隔物以与多个第二遮光部的任一个重叠的方式配置。红色、绿色及蓝色像素列中的至少一个沿列方向交替具有存在多个第二遮光部的任一个的第一像素边界和不存在多个第二遮光部的任一个的第二像素边界,多个第二遮光部配置成锯齿状。
  • 液晶显示装置
  • [发明专利]薄膜晶体管基板和显示面板-CN201780012574.2有效
  • 内田诚一;冈田训明;上田直树;佐佐木贵启 - 夏普株式会社
  • 2017-02-17 - 2021-09-21 - H01L29/786
  • 阵列基板(11b)具备:栅极配线(19);TFT(17),其具有栅极电极(17a)、沟道部(17d)、源极部(17b)及漏极部(17c),栅极电极(17a)包括栅极配线(19)的一部分,沟道部(17d)包括氧化物半导体膜(24),源极部(17b)连接到沟道部(17d)的一端侧,漏极部(17c)连接到沟道部(17d)的另一端侧,且包括与沟道部(17d)相比电阻较低的氧化物半导体膜(24);像素电极(18),其连接到漏极部(17c);像素PX,其具有TFT(17)和像素电极(18);以及第2层间绝缘膜(27),其与像素电极(18)和漏极部(17c)重叠并且在不与栅极电极(17a)重叠的位置形成有第2开口部(27a)。
  • 薄膜晶体管显示面板
  • [发明专利]半导体装置和半导体装置的制造方法-CN201680068499.7有效
  • 内田诚一;冈田训明 - 夏普株式会社
  • 2016-11-14 - 2020-10-30 - H01L29/786
  • 半导体装置(1001)具备:薄膜晶体管(101),其具有氧化物半导体层(16),氧化物半导体层(16)包含沟道区域和分别配置在沟道区域的两侧的源极接触区域和漏极接触区域;绝缘层,其配置为覆盖氧化物半导体层(16),具有将漏极接触区域露出的接触孔(CH);以及透明电极(24),其在接触孔(CH)内与漏极接触区域接触,当从基板的法线方向观看时,漏极接触区域的至少一部分(R)与栅极电极(12)重叠,在沿沟道宽度方向横切漏极接触区域的至少一部分(R)的任意的截面中,氧化物半导体层(16)的宽度比栅极电极(12)的宽度大,并且栅极电极(12)隔着栅极绝缘层由氧化物半导体层(16)覆盖。
  • 半导体装置制造方法
  • [发明专利]显示装置-CN201580069666.5有效
  • 内田诚一;冈田训明;上田直树 - 夏普株式会社
  • 2015-12-11 - 2020-10-23 - G02F1/1335
  • 本发明的显示装置(100A)的第一基板(10)具有TFT(2),该TFT(2)设于各像素中,且具有氧化物半导体层。第二基板(20)具有彩色滤光片层(22)及遮光层(21)。彩色滤光片层(22)中所含的第一彩色滤光片、第二彩色滤光片及第三彩色滤光片中的至少一个为,对波长450nm以下的可见光的平均透射率为0.2%以下。遮光层在彩色滤光片的像素中,(a)具有薄膜晶体管遮光部(21t),其沿着沟道长度方向(DL)延伸,且具有氧化物半导体层的沿着沟道宽度方向(DW)的长度以下的宽度;或者(b)具有薄膜晶体管遮光部,其沿着沟道宽度方向延伸,且具有氧化物半导体层的沿着沟道长度方向的长度以下的宽度;或者(c)不具有薄膜晶体管遮光部。
  • 显示装置
  • [发明专利]输入系统-CN201280058289.1无效
  • 冈田训明;藤原恒夫;三上谦一郎;芝直树 - 夏普株式会社
  • 2012-11-29 - 2014-07-30 - G06F3/042
  • 本发明提供具备全平面的坐标输入装置和发光笔的、即使手等接近或者接触装置表面也不被误识别的输入系统。本发明的一方式的输入系统(50)具备笔输入装置(40)和发光的笔(3),笔输入装置(40)具有:透明导光板(1),其能使笔(3)接触表面,且能使笔(3)的光耦合并在内部传播;以及摄像单元(10、20),其在相互不同的部位捕捉在透明导光板(1)内传播的光束的一部分光束。笔(3)的接触坐标位置基于各摄像单元拍摄的像而求得。
  • 输入系统
  • [发明专利]多重记录方式的全息记录再现装置及其方法-CN200810088318.4无效
  • 冈田训明;长坂由起子 - 夏普株式会社
  • 2008-03-26 - 2008-10-01 - G03H1/26
  • 本发明涉及一种多重记录方式的全息记录再现装置及其方法,该全息记录再现装置(100A)包含角度旋转镜(16)、矩形开口(12)和介质驱动部(38A),将参考光(RL)和信号光(SL)的干涉条纹记录到全息记录介质(30),并再现全息记录介质(30)记录的全息图。角度旋转镜(16)使参考光(RL)对全息记录介质(30)的入射角变化,以便在全息记录介质(30)的同一区域多重记录数据。矩形开口(12)遮蔽来自与再现的全息图相邻的全息图的再现光。介质驱动部(38A)驱动全息记录介质(30),使得入射到全息记录介质(30)的信号光(SL)和参考光(RL)的入射角度。
  • 多重记录方式全息再现装置及其方法

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