专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种敞车车门密封锁紧机构-CN202022141125.X有效
  • 于横;温鑫;李殿臣;李军;赵利锋;云峰;孟汉宙;张树稳;李全生;李晨宇;温辰;毛志华;张小伟;党继东;王晨;李泽霖 - 于横
  • 2020-09-26 - 2021-04-20 - B61D3/00
  • 本实用新型公开了一种敞车车门密封锁紧机构,包括滑轨,所述滑轨的侧面滑动设置有滑块,所述滑块的侧面设有压板,压板与滑轨长度方向垂直的侧面设有螺纹孔,且螺纹孔的内部螺纹活动穿插有定位杆,且定位杆远离滑轨一端的侧面设有与螺纹孔配合的螺纹,滑轨与定位杆对应的侧面设有均匀分布的定位槽,压板的侧面设有助推件,助推件包括固定在压板侧面的减震器,且减震器沿滑轨的长度方向伸缩。该敞车车门密封锁紧机构,结构简单,安装方便,可以调节,能够对侧门进行快速锁紧,并且可以辅助打开侧门,具有一定的缓冲效果,能够避免初始阶段侧门打开过快导致物料对操作人员造成伤害,操作安全性高,使用方便。
  • 一种敞车车门密封机构
  • [发明专利]一种PECVD镀膜的气体控制方法以及设备-CN201710665452.5有效
  • 袁中存;党继东 - 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
  • 2017-08-07 - 2020-03-03 - C23C16/52
  • 本发明涉及太阳能电池制造技术领域,尤其是涉及一种PECVD镀膜的气体控制方法以及设备。该方法包括如下步骤:将硅烷供气管路、氨气供气管路和笑气供气管路分别连接于PECVD的反应腔,并在每种供气管路上配置有一气体流量控制器;根据每层待镀的膜层结构设定硅烷、氨气和笑气三种气体的流量参数;气体流量控制器分别按照所设定的流量参数控制输入对应的气体至PECVD的反应腔中。该方法通过气体流量控制器既能实现定量控制气体的流量,又能实现变量控制气体的流量,而且在镀膜时分别向PECVD的反应腔中通入氨气、硅烷和笑气三种气体,因此该方法生产的膜层结构具有较好的光学特性。
  • 一种pecvd镀膜气体控制方法以及设备
  • [发明专利]一种硅电池片的标记方法-CN201710812469.9有效
  • 刘恩华;杨冰;袁中存;党继东 - 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司
  • 2017-09-11 - 2019-11-15 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种硅电池片的标记方法,包括如下步骤;设计出N2种不同类型的便于标记的石墨舟卡点;在每个硅电池片的所对应的电池片仓位周边加工有N1数量个安装孔;且每个安装孔内安装有一个所述便于标记的石墨舟卡点;将石墨舟在进行镀膜工艺;将识别得到的当前所述硅电池片的电池片仓位周边的且按照安装孔周向位置分布顺序排列的N1数量个安装孔所对应的卡点类型所代表的阿拉伯数字,依次再按照从数学计数单位一端至另一端的数位顺序进行排列,进而得到当前所述硅电池片的一个N2进制表示的N1位数的编号数字;将所述编号数字作为当前所述硅电池片的标记编号。该硅电池片的标记方法,为硅电池片进行问题排查和优化分析提供了帮助。
  • 一种电池标记方法
  • [发明专利]一种控制掺杂曲线一致性的方法-CN201710741576.7有效
  • 刘志强;费正洪;党继东 - 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司
  • 2017-08-25 - 2019-09-20 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种控制掺杂曲线一致性的方法,属于光伏技术领域。该方法包括进舟步、升温步、氧化步、分步沉积、升温推结步、降温退火步、出舟步,其中,分步沉积为,在炉尾到炉口存在温度梯度的情况下,通入氮气、氧气、掺杂源气体进行预沉积;其扩散工艺采用分步多次沉积的方法,增加硅片表面掺杂源的掺杂均匀性,并且通过设计沉积步温度,使各温区温度从炉尾到炉口依次增加,形成温度梯度,增加了炉口区域的掺杂源在硅中的固溶度,补偿了炉口区域掺杂源掺杂过少的问题,保证了表面浓度的一致性及各区域掺杂源掺杂量的一致性,进而保证硅片结深一致性;通过该方法使扩散工艺的掺杂曲线更一致,电性能参数更加一致,提升了组件的CTM。
  • 一种控制掺杂曲线一致性方法
  • [发明专利]一种氮化硅薄膜的沉积方法-CN201610933466.6有效
  • 袁中存;党继东 - 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司
  • 2016-10-24 - 2019-05-24 - H01L21/02
  • 本发明公开了一种氮化硅薄膜的沉积方法,本发明的方法采用等离子体增强化学气相沉积设备进行氮化硅薄膜的沉积,沉积过程中,硅片依次经过进料腔、预热腔、工艺腔、冷却腔和出料腔,进料腔、预热腔和工艺腔的温度均分别随时间而升高,记进料腔的最低温度、进料腔的最高温度、预热腔的最低温度、预热腔的最高温度、工艺腔的最低温度、工艺腔的最高温度分别为T1、T1’、T2、T2’、T3和T3’,且200℃≤T1’≤250℃,T2=T1’,硅片离开预热腔的温度与硅片进入工艺腔的温度相同,且硅片进入工艺腔后工艺腔升温至T3’。本发明的方法降低了功率输出及硅片的隐裂几率,提升了氢钝化效果,得到的太阳能电池的EFF相对于现有技术中的产品提高了0.08%,Uoc和Isc上也均有提升。
  • 一种氮化薄膜沉积方法
  • [发明专利]一种晶体硅片的刻蚀方法-CN201610910558.2有效
  • 沈波涛;党继东 - 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司
  • 2016-10-19 - 2018-09-21 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种晶体硅片的刻蚀方法,包括如下步骤:(1)将制绒、扩散后的晶体硅片的N面的杂质玻璃层去除;(2)将晶体硅片的N面进行氧化;(3)在上述二氧化硅氧化层上形成水膜;(4)刻蚀硅片边缘和P面,使P、N面绝缘;(5)水洗;(6)碱洗;(7)水洗;(8)酸洗;(9)水洗;风干。本发明在采用药液刻蚀之前采用了先去除PSG、再重新制备氧化层的工序,不仅可以将硅片表面的非有效磷氧化,而且还会将绒面尖峰区域与正常区域差异化,从而在碱洗时将尖峰区域平坦化,并在后续的酸洗中将氧化膜及连带的非活性磷去除,彻底去除硅片表面非活性磷的目的,降低表面复合,提升电池片的电性能,显然具有积极的现实意义。
  • 一种晶体硅片刻蚀方法
  • [发明专利]一种晶体硅太阳能电池的磷扩散方法-CN201610207469.1有效
  • 杨健;党继东 - 盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司
  • 2016-04-05 - 2018-08-07 - H01L21/223
  • 本发明公开了一种晶体硅太阳能电池的磷扩散方法,包括如下步骤:(1)将扩散炉升温至760~780℃;进舟;(2)调温至780~790℃;(3)通入携磷源气体及干氧,进行低温扩散;(4)停止通入携磷源气体及干氧,将炉内温度升高至820~840℃,推进,(5)进行恒温推进;(6)将扩散炉内温度降低到700~750℃,进行降温扩散;(7)降温出舟。本发明开将退火步与二次扩散步结合,避免了现有技术中因退火而引起的表面掺杂溶度二次降低且杂质分布宽的问题;不仅使杂质分布符合浅结及窄杂质需求,而且还增加了产量,提高了光电转换效率。
  • 一种晶体太阳能电池扩散方法

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