专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种便携式止血带消毒装置-CN202210187458.7有效
  • 王亚兰;张扬;任敏;朱丹;孙满云 - 中国人民解放军陆军军医大学第二附属医院
  • 2022-02-28 - 2023-07-25 - A61L2/18
  • 本发明涉及医用消毒装置技术领域。公开了一种便携式止血带消毒装置,包括载物块,载物块上设有若干用于放置止血带的圆形槽;载物块的底部设有底槽,且底槽与所有圆形槽相通,底槽内转动连接有用于封堵所有圆形槽的圆盘;还包括随圆盘转动而用于将圆形槽内的消毒液排出的排液机构和随圆盘转动而用于将圆形槽内的止血带排出的输出机构。本方案主要解决了目前对止血带的消毒方式会导致止血带与其他止血带相贴的部分不能被很好的消毒处理,进而造成止血带消毒不充分、不全面的问题;以及不能对止血带实现消毒烘干一体化的问题。
  • 一种便携式止血带消毒装置
  • [发明专利]漂移区电场优化的屏蔽栅MOSFET-CN202310459151.2在审
  • 任敏;张淑萍;陶霖;李东野;周通;李泽宏;张波 - 电子科技大学
  • 2023-04-25 - 2023-07-21 - H01L29/423
  • 本发明涉及功率半导体技术,具体涉及一种漂移区电场优化的屏蔽栅MOSFET,包括漏极金属,重掺杂第一导电类型半导体衬底,第一导电类型半导体漂移区,第二导电类型半导体阱区,重掺杂第二导电类型半导体欧姆接触区,重掺杂第一导电类型半导体源区,屏蔽栅多晶硅电极,栅多晶硅电极,屏蔽栅介质层,隔离介质层,栅极介质层,栅源间介质层,源极金属。本发明提出一种漂移区电场优化的屏蔽栅MOSFET,在屏蔽栅中引入不同掺杂类型或不同掺杂浓度的多晶硅区域,当器件处于反向耐压状态时,其屏蔽栅多晶硅电极的电势分布从远离控制栅极到靠近控制栅的方向依次减小,从而优化了器件漂移区的纵向电场分布。
  • 漂移电场优化屏蔽mosfet
  • [发明专利]线控转向系统、基于线控转向系统的转向控制方法和装置-CN202310511633.8在审
  • 张明轩;任敏;张佳雯;戴渌爻 - 经纬恒润(天津)研究开发有限公司
  • 2023-05-08 - 2023-07-14 - B62D5/00
  • 本申请公开了一种线控转向系统、基于线控转向系统的转向控制方法和装置。基于线控转向系统的转向控制方法包括:接收转向控制输入,转向控制输入包括控制车辆的方向盘转动角度的输入;响应于转向控制输入,获取当前车辆的目标转向控制模式和车辆的转向运行信息,其中,目标转向控制模式基于用户对转向控制模式的控制输入确定;根据目标转向控制模式对应的角度转换关系、方向盘转动角度和转向运行信息,生成目标转向控制信息;根据目标转向控制信息,控制转向轮转动,使目标对象转动至目标转向角度。根据本申请实施例,能够支持多种转向控制模式,提高驾驶员控制车辆转向的灵活性,保障车辆行驶安全。
  • 转向系统基于控制方法装置
  • [发明专利]一种横纵向功率MOSFET器件及制造方法-CN202310459362.6在审
  • 任敏;张淑萍;郭霄;陶霖;李东野;李泽宏;张波 - 电子科技大学
  • 2023-04-25 - 2023-07-11 - H01L29/06
  • 本发明涉及功率半导体技术,具体涉及一种横纵向功率MOSFET器件,包括漏极金属,重掺杂第一导电类型半导体衬底,轻掺杂第二导电类型半导体外延层,绝缘介质埋层,重掺杂第一导电类型半导体垂直沉片,栅极介质层,栅多晶硅电极,第二导电类型半导体体区,第一导电类型半导体漂移区,重掺杂第一导电类型半导体源区,重掺杂第二导电类型半导体欧姆接触区,介质层,源极金属。本发明通过在器件内部漂移区下方,垂直沉片的两侧引入绝缘介质埋层结构,有效地抑制重掺杂垂直沉片对器件内部漂移区的不良影响,使得器件的耐压和导通特性更加稳定。
  • 一种纵向功率mosfet器件制造方法

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