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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图案修正方法、光掩模及其制造方法以及修正膜形成装置-CN201710177126.X有效
发明人： 中山宪治 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2017-03-23 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供图案修正方法、光掩模及其制造方法以及修正膜形成装置。提供一种技术，在利用激光CVD法修正在光掩模的转印用图案中产生的缺陷时，能够利用比以往更抑制了透过率分布的偏差的修正膜来修正转印用图案的缺陷。图案修正方法是对于在基板的主表面上形成有转印用图案的光掩模的转印用图案形成修正膜的方法，其具有：确定形成修正膜的对象区域的区域确定工序；和在原料气体的气氛中在对象区域内照射激光而形成修正膜的成膜工序，在成膜工序中，通过在对象区域内照射从激光振荡器射出的激光而形成规定尺寸的单位修正膜，并且，在对象区域内使多个单位修正膜各自的一部分彼此重合来形成具有规定膜厚的修正膜。
图案修正方法光掩模及其制造以及形成装置

[发明专利]灰色调掩模的缺陷校正方法-CN200610092202.9无效
发明人： 中山宪治 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2004-04-01 - 公布日： 2006-11-29 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种灰色调掩模的缺陷校正方法。用于对灰色调掩模的灰色调部的缺陷进行校正，该灰色调掩模具有遮光部(1)、透光部(2)、以及成为形成了在使用灰色调掩模的曝光机的极限分辨率以下的遮光图形(3a、3b)的区域并以通过减少透过该区域的光的透光量来选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚为目的的灰色调部(3)，其特征在于：当上述灰色调部发生黑缺陷时，通过对上述黑缺陷的全部区域或一部分区域或者包含黑缺陷的区域进行蚀刻来减少膜厚，以形成使上述灰色调部可达到与正常的灰色调部同等的灰色调效果的膜厚。由此可比较容易地对灰色调部进行高精度的校正。
色调缺陷校正方法

[发明专利]灰色调掩模的缺陷校正方法-CN200410033705.X有效
发明人： 中山宪治 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2004-04-08 - 公布日： 2004-10-13 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种灰色调掩模的缺陷校正方法。该灰色调掩模具有：灰色调部，是对透光量进行了调整的区域，其目的是通过减少透过该区域的光的透光量可选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚；遮光部和透光部，其特征在于，包括：对在上述灰色调部(3)中发生的缺陷进行校正的工序(图1(3))；对上述校正后的灰色调部的图像实施模糊处理，生成转印图像的工序；以及根据上述转印图像评价上述校正后的灰色调部的工序(图1(4)、(4″)。由此，在进行正常图形和所有校正图形的判定的情况下，可容易地对灰色调部在用户的曝光和转印处理中是否发生问题进行判定(检查，保证)和校正。
色调缺陷校正方法

[发明专利]灰色调掩模的缺陷校正方法-CN200410030984.4无效
发明人： 中山宪治 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2004-04-01 - 公布日： 2004-10-06 - 主分类号： G02F1/136 文献下载
摘要：本发明提供一种灰色调掩模的缺陷校正方法。用于对灰色调掩模的灰色调部的缺陷进行校正，该灰色调掩模具有遮光部(1)、透光部(2)、以及成为形成了在使用灰色调掩模的曝光机的极限分辨率以下的遮光图形(3a、3b)的区域并以通过减少透过该区域的光的透光量来选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚为目的的灰色调部(3)，其特征在于：当上述灰色调部发生黑缺陷时，通过对上述黑缺陷的全部区域或一部分区域或者包含黑缺陷的区域进行蚀刻来减少膜厚，以形成使上述灰色调部可达到与正常的灰色调部同等的灰色调效果的膜厚。由此可比较容易地对灰色调部进行高精度的校正。
色调缺陷校正方法

[发明专利]灰调掩模中灰调部的缺陷修正方法-CN02108248.0有效
发明人： 中山宪治 -专利权人：保谷株式会社
申请日： 2002-03-28 - 公布日： 2003-10-15 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种对于用现有的修正方法实际上很难修正的灰调部中的缺陷，可容易地修正的修正方法。例如，在包含白缺陷的区域中形成修正膜8之后，用与正常图形具有相同的灰调效果的形状及/或排列除去上述修正膜8的一部分，形成与正常图形3a、3b的宽度和位置不同的修正图形3a’、3b’。
灰调掩模中灰调部缺陷修正方法

[发明专利]灰调掩模的缺陷检查方法及缺陷检查装置-CN02108249.9有效
发明人： 中山宪治 -专利权人：保谷株式会社
申请日： 2002-03-28 - 公布日： 2003-03-12 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供一种针对具有遮光部、透射部和灰调部的灰调掩模，可以实现一次检查的缺陷检查方法及缺陷检查装置。采用通过互相比较掩模内形成的同一图形来检测缺陷的比较检查方法，作为根据图形的不同而出现的信息的阈值，除了设有普通的遮光部及透射部的缺陷抽出阈值之外，还新设灰调部专用的缺陷抽出阈值，并且识别正在检查遮光部及透射部、灰调部中哪个区域，正在检查遮光部或透射部时，使用遮光部、透射部用缺陷抽出阈值进行普通缺陷的检查，正在检查灰调部时，使用灰调部专用的缺陷抽出阈值进行灰调部的缺陷检查。
灰调掩模缺陷检查方法装置

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