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[发明专利]基板处理系统-CN201710749543.7有效
发明人： 严用铎;张锡弼;许贤康 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2017-08-28 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理系统，更详细而言，涉及一种利用等离子而进行基板处理的基板处理系统。本发明公开了一种基板处理方法，其特征在于，包括：多个基板处理模块(100)，形成密闭的处理空间(S)，在多个基板装载于托盘(20)的状态下执行基板处理；运送模块(200)，设置有运送机器人(210)，与所述多个基板处理模块(100)相结合，分别将托盘(20)运出或导入于所述基板处理模块(100)；基板交换模块(300)，结合于所述运送模块(200)，在所述基板处理模块(100)中完成基板处理的基板(10)从托盘(20)卸载，并将要进行基板处理的基板装载于托盘(20)。所述基板交换模块(300)包括：托盘运出部(310)，为了托盘(20)的外部运出而依靠运送机器人(210)传递。
处理系统

[发明专利]基板运送模块以及包括该模块的基板处理系统-CN201810726381.X在审
发明人： 严用铎;许贤康 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2018-07-04 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板运送模块，在多个基板安装在托盘的状态下执行基板处理的基板处理模块中将待执行基板处理的多个基板装载到托盘，包括：托盘安装部，安装有直角四边形托盘，所述托盘是以n×m行列的基板排列(n为2以上的自然数，m为2以上的自然数)装载多个基板；基板装载部，设置在所述托盘安装部的一侧，从载体导出待执行基板处理的多个基板并以n×k行列的基板排列(k为2以上的自然数)布置多个基板；第一基板运送部，具有多个第一基板运送工具，所述第一基板运送工具拾取位于所述基板装载部上的n×k行列的基板排列中一列的n个基板，运送至所述托盘安装部上的托盘。
托盘多个基板托盘安装部第一基板基板处理基板排列基板装载部基板运送运送工具行列装载基板处理模块基板处理系统运送直角四边形导出基板拾取

[发明专利]基板处理装置-CN201610184901.X有效
发明人： 严用铎;朴海允;李政玟 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2016-03-29 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置，更详细地说，涉及对基板进行蚀刻、蒸镀等基板处理的基板处理装置。本发明公开一种基板处理装置，包括腔室主体，上侧是开口的；基板支撑部，设置于所述腔室主体而支撑基板；顶板，设置于所述腔室主体的开口而形成密闭的处理空间，所述顶板底面形成气体喷射流路；辅助板，与所述顶板的底面结合而形成所述气体喷射流路，所述辅助板形成多个气体扩散孔而通过所述气体喷射流路向下侧喷射气体；喷头部，设置于所述辅助板的下侧，所述喷头部形成多个工艺气体喷射孔而向处理空间喷射工艺气体；所述喷头部，被形成于所述辅助板的所述气体扩散孔所喷射的气体清洗，将所述气体扩散孔喷射的气体喷射到处理空间。
处理装置

[实用新型]基板处理装置-CN201520728339.3有效
发明人： 严用铎;张锡弼 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2015-09-18 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板处理装置，更详细地说，利用等离子在基板表面形成多个凹凸的基板处理装置。本实用新型公开了基板处理装置，其包括：工序腔室，形成密闭的内部空间并且电气性接地所述工序腔室；基板支撑部，以与所述工序腔室电气性绝缘的状态来进行设置并施加一个以上的RF电源，并且支撑安装一个以上的基板的托架；气体喷射部，设置在所述内部空间的上侧来喷射用于执行基板处理的气体；盖部，从所述基板支撑部间隔距离地覆盖所述一个以上的基板来进行配置，并且形成多个开口部以使流入由所述气体喷射部喷射的气体，并且接地所述盖部。
处理装置

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201110167606.0有效
发明人：金成昊;金春植;严用铎;吴贤泽;朴亨根 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2011-06-21 - 公布日： 2011-12-21 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置。本发明的实施例涉及的基板处理装置包括：加载/卸载单元；工艺单元，进行基板处理工艺；样品加载单元，配置在所述加载/卸载单元和所述工艺单元之间；搬运部件，在所述工艺单元和所述样品加载单元之间移送基板；所述搬运部件设于所述工艺单元和所述样品加载单元内，而且，依次配置所述加载/卸载单元、所述样品加载单元以及所述工艺单元。
处理装置方法

[发明专利]真空处理装置-CN200910143330.5有效
发明人：车勋;金亨俊;严用铎;李珠熙;韩在柄;曹生贤;尹大根 -专利权人： IPS有限公司
申请日： 2006-01-17 - 公布日： 2009-12-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本文公开了一种真空处理装置，其用于在基片上进行蚀刻处理或喷镀处理，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃上，半导体晶片上，等等，其包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖可分离地相互连接形成一真空处理空间；一对下部水平移动单元，该下部水平移动单元分别安装在下盖的各侧；一对上部水平移动单元，该各上部水平移动单元在各自的下部移动单元上和上盖连接，以水平方向移动上盖使其从下盖分离；升降单元通过下部水平移动单元支撑并安装在其上，升降单元从下盖分离上盖或通过提升或降低上部水平移动单元使上盖和下盖连接。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200710188367.0有效
发明人：车勋;金亨俊;严用铎;李珠熙;韩在柄;曹生贤;尹大根 -专利权人： IPS有限公司
申请日： 2006-01-17 - 公布日： 2008-06-04 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本文公开了一种真空处理装置，其用于在基片上进行蚀刻处理或喷镀处理，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃上，半导体晶片上，等等，其包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖可分离地相互连接形成一真空处理空间；一对下部水平移动单元，该下部水平移动单元分别安装在下盖的各侧；一对上部水平移动单元，该各上部水平移动单元在各自的下部移动单元上可旋转地和上盖连接，以水平方向移动上盖使其从下盖分离；升降单元通过下部水平移动单元支撑并安装在其上，升降单元从下盖分离上盖或通过提升或降低上部水平移动单元使上盖和下盖连接。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200710188366.6有效
发明人：车勋;金亨俊;严用铎;李珠熙;韩在柄;曹生贤;尹大根 -专利权人： IPS有限公司
申请日： 2006-01-17 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本文公开了一种真空处理装置，其用于在基片上进行蚀刻处理或喷镀处理，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃上，半导体晶片上，等等，其包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖彼此相互连接，用上盖和下盖之间形成的空隙组成真空处理空间，一腔体密封单元通过密封或解封空隙来密封和解封真空处理单元；以及一空隙保持单元用来维持空隙，该空隙保持单元安装在上盖和下盖上。
真空处理装置

[发明专利]用于真空处理装置的静电吸盘、具有该静电吸盘的真空处理装置、及其制造方法-CN200610002077.8有效
发明人：车勋;严用铎 -专利权人： IPS有限公司
申请日： 2006-01-24 - 公布日： 2007-06-06 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种用于真空处理装置的静电吸盘，其包括：一个具有突起的主基板；一个形成于该主基板上的绝缘层；一个用于通过施加电能产生静电力的形成于该绝缘层上的静电层；以及一个形成于该静电层上的介电层。这些突起可以具有各种形状，并且制造方法被简化和稳定化。此外，该静电吸盘有利于适应于大型基板。
用于真空处理装置静电吸盘具有及其制造方法

[发明专利]真空处理装置-CN200610001041.8有效
发明人：车勋;金亨俊;严用铎;李珠熙;韩在柄;曹生贤;尹大根 -专利权人： IPS有限公司
申请日： 2006-01-17 - 公布日： 2006-08-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本文公开了一种真空处理装置，其用于在基片上进行蚀刻处理或喷镀处理，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃上，半导体晶片上，等等，其包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖可分离地相互连接形成一真空处理空间；一对下部水平移动单元，该下部水平移动单元分别安装在下盖的各侧；一对上部水平移动单元，该各上部水平移动单元在各自的下部移动件上可旋转地和上盖连接，以水平方向移动上盖使其从下盖分离；升降单元通过下部水平移动单元支撑并安装在其上，升降单元从下盖分离上盖或通过提升或降低上部水平移动单元使上盖和下盖连接。
真空处理装置

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