专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]喷墨装置和喷墨装置对齐方法-CN202211148359.4在审
  • 李政玟;金炳铉;韩东铉 - 三星显示有限公司
  • 2022-09-21 - 2023-06-27 - B41J2/01
  • 提供一种喷墨装置和喷墨装置对齐方法。喷墨装置包括:头部单元,包括多个子头部单元;至少一个喷墨头,与各个所述子头部单元结合;头部单元对齐部,与各个所述子头部单元结合,包括使各个所述子头部单元在第一旋转方向上移动的第一电机、配置在所述第一电机上且在平面上使各个所述子头部单元在作为各个所述子头部单元的长度方向的第一方向上移动的第二电机以及控制各个所述子头部单元的移动位置的控制部;以及喷墨头对齐部,与所述喷墨头结合,包括使所述喷墨头在第二旋转方向上移动的第一调整部件以及在平面上使所述喷墨头在作为所述喷墨头的长度方向的第二方向上移动的第二调整部件。
  • 喷墨装置对齐方法
  • [发明专利]显示装置的制造装置及显示装置的制造方法-CN202210547683.7在审
  • 金东祐;李政玟;崔明吉 - 三星显示有限公司
  • 2022-05-18 - 2022-11-29 - H05K13/04
  • 本发明公开一种显示装置的制造装置及显示装置的制造方法。本发明包括:工作台,安置第一部件及第二部件;以及加压部,从所述工作台隔开而布置,并且对所述第一部件或所述第二部件进行加压,其中,所述加压部包括:接触部,布置为与所述工作台面对,并且与所述第一部件或所述第二部件接触;第一施力部,与所述接触部连接,并且使所述接触部进行线性运动;以及第二施力部,与所述接触部连接,并且与所述第一施力部隔开而布置,以在与所述第一施力部不同的部分使所述接触部进行线性运动,其中,所述第一施力部和所述第二施力部中的至少一个的操作根据所述接触部对所述第一部件及所述第二部件中的一个施加的力而被控制。
  • 显示装置制造装置方法
  • [发明专利]组装装置-CN202111586197.8在审
  • 朴钟勳;金东祐;李政玟;崔明吉 - 三星显示有限公司
  • 2021-12-22 - 2022-07-01 - B23P19/00
  • 本申请涉及一种组装装置,该组装装置可以包括:主模块,包括第一平台和联接到第一平台的功能单元的头部,并且制造显示模块;辅助模块,包括第二平台和联接到第二平台的功能单元的标准部,并且联接到主模块;以及分配模块,联接到主模块并传送显示模块。头部可以包括上头部部分和下头部部分,下头部部分联接到上头部部分的下表面。下头部部分可根据显示模块的制造工艺而改变。
  • 组装装置
  • [发明专利]显示装置制造用工作台对准装置及方法-CN202010030822.X在审
  • 尹敏瑕;李政玟;崔明吉;崔忠植 - 三星显示有限公司
  • 2020-01-13 - 2020-08-04 - H05K3/00
  • 本公开涉及显示装置制造用工作台对准装置及方法。根据本公开的显示装置制造用工作台对准装置包括:第一工作台,固定并支承柔性电路基板(FPCB);第二工作台,从第一工作台间隔开,第二工作台的一端与第一工作台的一端彼此相邻而面对,固定并支承面板;影像获取部,通过拍摄柔性电路基板(FPCB)及面板而获取影像信息;以及控制部,从影像获取部接收柔性电路基板(FPCB)与面板的影像信息而算出对准误差,根据算出的对准误差控制第一工作台与第二工作台的移动及旋转,第一工作台的旋转中心点位于第一工作台的相邻面上,第二工作台的旋转中心点位于第二工作台的相邻面上。
  • 显示装置制造用工对准装置方法
  • [发明专利]基板处理装置-CN201610184901.X有效
  • 严用铎;朴海允;李政玟 - 圆益IPS股份有限公司
  • 2016-03-29 - 2018-01-02 - H01J37/32
  • 本发明涉及基板处理装置,更详细地说,涉及对基板进行蚀刻、蒸镀等基板处理的基板处理装置。本发明公开一种基板处理装置,包括腔室主体,上侧是开口的;基板支撑部,设置于所述腔室主体而支撑基板;顶板,设置于所述腔室主体的开口而形成密闭的处理空间,所述顶板底面形成气体喷射流路;辅助板,与所述顶板的底面结合而形成所述气体喷射流路,所述辅助板形成多个气体扩散孔而通过所述气体喷射流路向下侧喷射气体;喷头部,设置于所述辅助板的下侧,所述喷头部形成多个工艺气体喷射孔而向处理空间喷射工艺气体;所述喷头部,被形成于所述辅助板的所述气体扩散孔所喷射的气体清洗,将所述气体扩散孔喷射的气体喷射到处理空间。
  • 处理装置

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