专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种固相烧结碳化硅制品及其制备方法-CN202111302454.0有效
  • 闫永杰;赵瑞康 - 南通三责精密陶瓷有限公司
  • 2021-11-04 - 2023-03-03 - C04B35/565
  • 本申请涉及工程陶瓷材料领域,具体公开了一种固相烧结碳化硅制品及其制备方法。一种固相烧结碳化硅制品的制备方法,包括如下步骤:原料研磨:将微米级碳化硅粉末与含硼烧结助剂混合并湿法研磨,得到浆料;喷雾造粒:向浆料中加入水溶性炭黑和粘结剂,搅拌均匀,经过喷雾造粒,得到碳化硅造粒粉体;混料;陈腐:将混料得到的湿粉经过陈腐,得到陈腐料;后处理:将陈腐料经过练泥、挤出、干燥、热处理即可。本申请的制备方法制备的碳化硅制品可用作换热管、辊棒、方梁、微反应管等,其具有制品烧结密度高、抗压强度大、韧性高的优点;另外,本申请的制备方法具有生产成本低、生产效率高的优点。
  • 一种烧结碳化硅制品及其制备方法
  • [发明专利]基底诱导化学气相沉积吸波SiC陶瓷的制备方法-CN202211483210.1在审
  • 薛继梅;刘玉强;侯泽鑫;高源;杨帆 - 西北工业大学
  • 2022-11-24 - 2023-02-28 - C04B35/565
  • 本发明涉及一种基底诱导化学气相沉积吸波SiC陶瓷的制备方法,以多孔莫来石为基底,沉积SiC陶瓷,制备具有层状结构的多孔莫来石/BN/SiC复相陶瓷。由于化学气相渗透(CVI)工艺制备的BN陶瓷晶化程度较低,热处理可改变其晶化程度和微结构,对化学气相沉积(CVD)SiC陶瓷的形核与长大过程起诱导作用,进而调控多孔莫来石/BN/SiC复相陶瓷的微结构和介电性能。通过控制莫来石/BN复相陶瓷的热处理温度和时间,优化多孔莫来石/BN/SiC复相陶瓷的微结构、晶化程度和元素组成,制备微结构和介电性能可调的莫来石/BN/SiC复相陶瓷,获得优异的电磁波吸收性能。该方法为基底诱导化学气相沉积硅基陶瓷的制备与性能调控提供了制备方法,有潜力用于制备承载吸波一体化陶瓷基复合材料。
  • 基底诱导化学沉积sic陶瓷制备方法
  • [发明专利]一种一步调控碳化硅膜孔结构和表面性质的方法-CN202210025969.9有效
  • 邢卫红;仲兆祥;江倩;王雅欣;谢雨伶;徐南平 - 南京工业大学
  • 2022-01-11 - 2023-02-03 - C04B35/565
  • 本发明涉及一种一步调控碳化硅膜孔结构和表面性质的方法,该方法首先将SiC粉体与烧结助剂充分混合,然后通过控制成型压力和烧结条件协同调控SiC膜的孔结构和表面润湿性质。通过控制SiC氧化生成SiO2量,促进其与烧结助剂原位反应生成颈部连接,既可降低SiC膜烧结温度又可提高碳化硅膜强度和耐腐蚀性能。成型压力和烧结温度的调控有效控制了SiC膜的烧结程度,是一种一步调控SiC膜孔结构和表面性质的简易方法。所制备的SiC膜孔隙率在13%~48%可调、孔径在0.17μm~1μm可调,SiC膜的动态水初始接触角在12.01°‑66.8°、水下油接触角在120.3°‑155.1°可调;所制备的SiC膜具有高抗弯曲强度和纯水渗透性能,在油水分离和乳液制备领域具有广泛的应用前景。
  • 一种一步调控碳化硅结构表面性质方法

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