[发明专利]改进的图形发生器无效
| 申请号: | 99803477.0 | 申请日: | 1999-03-02 |
| 公开(公告)号: | CN1292103A | 公开(公告)日: | 2001-04-18 |
| 发明(设计)人: | 托布约姆·桑德斯特罗姆 | 申请(专利权)人: | 微激光系统公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/207;G02B26/06;//G03F1/00H01L21/027 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
| 地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 改进 图形 发生器 | ||
1.一种用来在对光辐射敏感的工件上产生诸如光掩模、显示屏或微光学器件之类的图形的装置,它包含
用来发射波长范围从EUV到IR的光源,
适合于被所述辐射照明的具有多个调制元件(象素)的空间光调制器(SLM),
在工件上产生调制器图象的投影系统,
电子数据处理和发送系统,它接收待要写入的图形的数字表述、将所述图形转换成调制器信号、以及将所述信号馈送到调制器,
用来彼此相关地定位所述工件和/或投影系统的精密机械系统,
控制工件位置、到调制器的信号馈送、以及辐射的强度,使所述图形印制在工件上的电子控制系统,
其中驱动信号和调制元件被用来产生多于二个最好是多于三个的多个调制状态。
2.根据权利要求1的装置,其中调制元件对辐射的下列性质中的至少一个进行调制:
·强度
·相位
·复振幅
·方向
·极化
·波前平坦度
·频率
其中施加在辐射场上的调制具有至少3个最好是至少4个不同的状态。
3.根据权利要求2的装置,它具有对辐射的状态有选择性的滤波器,从而将空间调制器表面上的调制转换成工件上的强度图象。
4.根据权利要求1的装置,其中在从输入图形表述到调制器电压的转换中,使用补偿线性化函数,以便修正调制器电压对工件上的曝光的非线性响应。
5.根据权利要求4的装置,其中线性化函数基于理论模拟。
6.根据权利要求4的装置,其中线性化函数基于响应的实验测试。
7.根据权利要求4-6中的任何一个的装置,其中所述响应是诸如被显影的卤化银乳胶的光吸收或烧蚀工艺造成的单位表面区的材料的清除之类的表面元件曝光的物理或化学结果。
8.根据权利要求4的装置,其中所期望的响应被计算成数字数值,且线性化函数被存储在产生用来产生调制器驱动电压的新的修正了的数字数值的查寻表中。
9.根据权利要求8的装置,其中调制器电压由数模转换器产生。
10.根据权利要求4的装置,其中所期望的响应被计算成数字数值,且此数值被用来为各个调制元件从几个独立产生的电压中选择一个,且其中所述电压被设定成包含线性化函数。
11.根据前述各个权利要求中的任何一个的装置,其中至少二个调制器电压信号被馈送到单个调制器元件,而调制器元件响应于这些信号的组合,从而被驱动到比各个信号中的可能电压数值的数目更多的状态,例如4个二元信号产生调制器元件的16个不同的状态。
12.根据前述各个权利要求中的任何一个的装置,包含具有用于修正调制器元件之间的不同响应的查寻表。
13.根据权利要求12的装置,其中在测量至少二个不同的调制器元件的响应函数的校正步骤的过程中产生查寻表。
14.根据权利要求12的装置,其中所述查寻表存储下列类型调制器元件数据中的至少一种:
·偏离电压
·灵敏度因子
·多项式响应函数。
15.根据权利要求12的装置,其中调制元件的修正被用作对调制元件所期望状态的数字表述的数字运算。
16.根据权利要求12的装置,其中调制元件的修正被对模拟驱动信号的模拟运算使用。
17.根据权利要求1-16中任何一个的装置,其中空间调制器是具有对调制元件的时间复用数值负载和在各个元件存储负载数值的调制元件组成的二维阵列。
18.根据权利要求1-16中任何一个的装置,其中调制器制作在矩阵寻址的有源电路上。
19.根据权利要求1-16中任何一个的装置,其中调制器制作在半导体芯片顶部。
20.根据权利要求1-16中任何一个的装置,其中调制器包含液晶。
21.根据权利要求1-16中任何一个的装置,其中调制器具有粘弹性层。
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