[其他]半导体陶瓷的组成无效

专利信息
申请号: 87106154 申请日: 1987-09-02
公开(公告)号: CN87106154A 公开(公告)日: 1988-03-16
发明(设计)人: 小野秀一;板垣秋一;矢作正博 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: H01B3/12 分类号: H01B3/12;C04B35/00
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 肖掬昌,杜有文
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 陶瓷 组成
【说明书】:

发明涉及半导体陶瓷电容器用的半导体陶瓷的组成,更具体地说,本发明涉及的半导体陶瓷的组成,适用于制造边界绝缘型半导体陶瓷电容器。

用作无源电子电路元件的半导体陶瓷电容器一般分成两类型,即边界层型和表面层型。边界层型半导体陶瓷电容器包括一种边界绝缘型电容器,而表面层型半导体陶瓷电容器包括一种阻挡层型电容器和一种还原再氧化型电容器。

然而,业已发现普通的半导体电容器具有下列缺点:

边界绝缘型半导体电容器的电容量和介质强度相对地有所降低。阻挡层型的频率特性变劣,介质损耗(tanδ)有所增加,介质强度有所降低。还原再氧化型电容器的频率特性变劣,温度特性和介质损耗有所增加。这些缺点的起因,是由于能够提供避免上述缺点的半导体陶瓷电容器的半导体陶瓷组成至今仍未研制出来。

鉴于先有技术的上述缺点而作出了本发明。

因此,本发明的一个目的是提供半导体降瓷电容器用的一种半导体陶瓷的组成,它使该电容器不仅提高介电常数和呈现出满意的频率特性和温度特性,而且也能降低介质损耗。

本发明的另一个目的是要为能够改进电容器的绝缘电阻的半导体陶瓷电容器提供一种半导体陶瓷的组成。

本发明再有一个目的是要为半导体陶瓷电容器提供一种半导体陶瓷的组成,这种半导体陶瓷电容器能够易以制造,并呈现上述的优点。

本发明的再一个目的是要为边界绝缘型半导体陶瓷电容器提供一种半导体陶瓷的组成,它使得这种半导体陶瓷电容器不仅能提高介电常数和呈现出令人满意的频率特性和温度特性,而且也降低介质损耗。

本发明还有另一个目的是要为能改进该电容器的绝缘电阻的边界绝缘型半导体陶瓷电容器提供一种半导体陶瓷的组成。

本发明又再一个目的是要为能易于制造并能呈现上述优点的边界绝缘型半导体陶瓷电容器提供一种半导体陶瓷的组成。

本发明还再有一个目的是要为能改进该电容器的绝缘电阻和直流击穿电压的边界绝缘型半导体陶瓷电容器提供一种半导体陶瓷的组成。

根据本发明,为半导体陶瓷电容器提供了的一种半导体陶瓷的组成。这个组成包括基本组分SrTiO3和含CaTiO3、Y和Nb的次要组分。CaTiO3按组成计算占0.1至2.0克分子%,而Y和Nb分别存在于按组成计算占0.1至0.4克分子%的Y2O3和Nb2O5基体中。

根据本发明,又提供了半导体陶瓷电容器用的一种半导体陶瓷的组成,它包括基本组分SrTiO3和含CaTiO3、BaTiO3、Y和Nb的次要组分。构成基本组分的SrTiO3包括其克分子比值是0.970至1.000比1.000的SrO和TiO2。构成一部分次要组分的CaTiO3,其分量相对于代表SrO分量的1.000、0.990、0.980和0.970克分子分别占0.1至20.0、1.0至20.0、5.0至20.0和10.0至20.0。也构成一部分次要组分的BaTiO3,按组成计算,它占0.05至3.0克分子%。构成其余次要组分的Y和Nb分别存在于按组成计算占0.1至1.0克分子%和0.1至0.4克分子%的Y2O3和Nb2O5基体中。

本发明针对半导体陶瓷电容器,特别是一种包括基本组分SrTiO3和含CaTiO3、Y和Nb的次要组分的边界绝缘型半导体陶瓷电容器用的半导体陶瓷的组成。这里使用的术语“次要组分”是指本质组分在数量上少于也是本质的基本组分。构成一部分次要组分的CaTiO3按组成计算占0.1至2.0克分子%,而构成其余次要分量的Y和Nb分别存在于按组成计算占0.1至0.4克分子%的Y2O3和Nb2O5基体中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/87106154/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top