[其他]导电图的制造方法及其操作无效
| 申请号: | 87105952 | 申请日: | 1987-12-23 |
| 公开(公告)号: | CN87105952A | 公开(公告)日: | 1988-07-27 |
| 发明(设计)人: | 间濑晃 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号: | H05K3/100 | 分类号: | H05K3/100 |
| 代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 曹济洪,许新根 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 导电 制造 方法 及其 操作 | ||
1、一种在基底上制造电极图案的方法,其特征在于,该方法包括:
用第一导电膜以电路的电极图案形式涂覆所述基底;以及
用第二导电膜叠复在所述第一导电膜上来涂覆所述基底,所述第二导电膜是设计成起所述电路的完整图案的作用,即使这对所述第一导电膜来说不是这样的。
2、根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第一和第二导电膜的所述涂覆步骤后,分别都有烘烤步骤。
3、根据权利要求2所述的方法,其特征在于,烘烤温度是随着时间而改变的。
4、根据权利要求2所述的方法,其特征在于,该方法还包括一压制步骤,以使包括所述第一和第二导电膜的双层图案的上表面平坦。
5、一种制造在基底上包括IC电路片的电路的方法,该方法包括:
在所述基底上形成一导电图;
将胶合剂涂在所述基底表面的准备在上面安装所述IC电路片的部分上;以及
将所述IC电路片安装在所述表面部分上,以其电极垫与所述图案的相应的电极垫相接触,
所述方法的特征在于,所述胶合剂混合有金属微粒。
6、根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述金属微粒是银粒。
7、根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述图案的所述相应垫是增厚的。
8、根据权利要求7所述的方法,其特征在于,一导电层是形成在所述图案的要与所述IC电路片的垫相接触的部分上,以便构成所述增厚的垫。
9、根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述IC电路片的各垫的面积是小于所述图案的相应的垫的面积。
10、一种在液晶器件的玻璃基底上制造电极图案的方法,其特征在于,该方法包括:
用第一导电膜以电路的电极图案形式涂覆所述基底;
烘烤所述第一导电膜;
用第二导电膜叠复在所述第一导电膜上来涂覆所述基底,所述第二导电膜是设计成起所述电路的完整图案的作用,即使这对所述第一导电膜来说不是这样的,
烘烤所述第一和第二导电膜;
压第二导电膜的上表面,以使所述上表面平坦;以及
安装一用以激励所述液晶器件的IC电路片,以其垫与所述图案的相应的垫相接触,IC垫的底表面涂有金凸缘。
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