[其他]导电图的制造方法及其操作无效

专利信息
申请号: 87105952 申请日: 1987-12-23
公开(公告)号: CN87105952A 公开(公告)日: 1988-07-27
发明(设计)人: 间濑晃 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H05K3/100 分类号: H05K3/100
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 曹济洪,许新根
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 导电 制造 方法 及其 操作
【权利要求书】:

1、一种在基底上制造电极图案的方法,其特征在于,该方法包括:

用第一导电膜以电路的电极图案形式涂覆所述基底;以及

用第二导电膜叠复在所述第一导电膜上来涂覆所述基底,所述第二导电膜是设计成起所述电路的完整图案的作用,即使这对所述第一导电膜来说不是这样的。

2、根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第一和第二导电膜的所述涂覆步骤后,分别都有烘烤步骤。

3、根据权利要求2所述的方法,其特征在于,烘烤温度是随着时间而改变的。

4、根据权利要求2所述的方法,其特征在于,该方法还包括一压制步骤,以使包括所述第一和第二导电膜的双层图案的上表面平坦。

5、一种制造在基底上包括IC电路片的电路的方法,该方法包括:

在所述基底上形成一导电图;

将胶合剂涂在所述基底表面的准备在上面安装所述IC电路片的部分上;以及

将所述IC电路片安装在所述表面部分上,以其电极垫与所述图案的相应的电极垫相接触,

所述方法的特征在于,所述胶合剂混合有金属微粒。

6、根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述金属微粒是银粒。

7、根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述图案的所述相应垫是增厚的。

8、根据权利要求7所述的方法,其特征在于,一导电层是形成在所述图案的要与所述IC电路片的垫相接触的部分上,以便构成所述增厚的垫。

9、根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述IC电路片的各垫的面积是小于所述图案的相应的垫的面积。

10、一种在液晶器件的玻璃基底上制造电极图案的方法,其特征在于,该方法包括:

用第一导电膜以电路的电极图案形式涂覆所述基底;

烘烤所述第一导电膜;

用第二导电膜叠复在所述第一导电膜上来涂覆所述基底,所述第二导电膜是设计成起所述电路的完整图案的作用,即使这对所述第一导电膜来说不是这样的,

烘烤所述第一和第二导电膜;

压第二导电膜的上表面,以使所述上表面平坦;以及

安装一用以激励所述液晶器件的IC电路片,以其垫与所述图案的相应的垫相接触,IC垫的底表面涂有金凸缘。

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