[实用新型]一种钙钛矿薄膜钝化装置

说明书

本实用新型提供了一种钙钛矿薄膜钝化装置，该钙钛矿薄膜钝化装置包括：控制器，以及在第一方向上相对设置的升降组件和承载组件，升降组件包括压力元件和第一加热元件；固体膜层放置在升降组件面向承载组件的一端，待处理钙钛矿薄膜放置在承载组件面向升降组件的一侧，待处理钙钛矿薄膜所在平面与固体膜层所在平面平行，且在第一方向上固体膜层的正投影与待处理钙钛矿薄膜的正投影存在交叠；通过控制升降组件在第一方向上往返运动，使固体膜层与待处理钙钛矿薄膜相接触，同时升降组件对固体膜层加压加热，使固体膜层与待处理钙钛矿薄膜发生固‑固反应，从而实现对大面积钙钛矿薄膜的有效钝化，避免造成大面积钙钛矿薄膜不均匀和原料浪费的问题。

技术领域

本实用新型涉及薄膜钝化技术领域，更具体地说，涉及一种钙钛矿薄膜钝化装置。

背景技术

卤化物钙钛矿材料凭借其优异的光电性质和可溶液制备等优点而受到研究者的青睐，在光伏、发光二极管以及X-射线检测器等方面具有广阔的应用前景。在钙钛矿器件中，钙钛矿薄膜的质量对于整个钙钛矿器件的性能具有至关重要的作用，因此如何制备出高质量的钙钛矿薄膜成为研究钙钛矿器件的关键一环。

采用溶液法制备的钙钛矿薄膜通常存在着较高的缺陷密度，尤其是在钙钛矿薄膜的表面和晶界处，从而降低整个钙钛矿器件的性能和稳定性；尽管研究者们开发了多种对钙钛矿薄膜缺陷进行钝化的方法，但是这些钝化方法基本上是基于旋涂法实现的，采用旋涂法不仅会造成大面积钙钛矿薄膜不均匀和原料的浪费，还只能应用于钝化小面积的钙钛矿薄膜，无法满足未来钙钛矿产业化的需求，因此如何实现对大面积钙钛矿薄膜的有效钝化仍然是本技术人员亟待解决的技术问题。

实用新型内容

有鉴于此，为解决上述问题，本实用新型提供一种钙钛矿薄膜钝化装置，技术方案如下：

一种钙钛矿薄膜钝化装置，所述钙钛矿薄膜钝化装置包括：控制器，以及在第一方向上相对设置的升降组件和承载组件，所述升降组件包括压力元件和第一加热元件；

所述升降组件面向所述承载组件的一端设置有固体膜层，所述第一方向与所述固体膜层所在平面垂直；

所述承载组件面向所述升降组件的一侧放置有待处理钙钛矿薄膜，所述待处理钙钛矿薄膜所在平面与所述固体膜层所在平面平行，在所述第一方向上所述固体膜层的正投影与所述待处理钙钛矿薄膜的正投影存在交叠；

所述控制器用于控制所述升降组件在所述第一方向上往返运动；

所述压力元件用于产生压力，所述第一加热元件用于对所述固体膜层加热。

优选的，在上述钙钛矿薄膜钝化装置中，所述承载组件包括：

位于所述待处理钙钛矿薄膜背离所述升降组件一侧的第二加热元件。

优选的，在上述钙钛矿薄膜钝化装置中，所述第二加热元件包括：

加热块和温度控制单元，所述温度控制单元用于控制所述加热块的加热温度。

优选的，在上述钙钛矿薄膜钝化装置中，所述压力元件为升降气缸，所述升降组件还包括：

在所述第一方向上相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板所在平面与所述第二基板所在平面平行，且所述第一基板所在平面和所述第二基板所在平面分别与所述第一方向垂直；

所述升降气缸的两端分别与所述第一基板和所述第二基板连接；

多个升降气缸导轨，所述升降气缸导轨沿所述第一方向延伸，所述升降气缸导轨的两端分别与所述第一基板和所述第二基板连接；

所述第一加热元件位于所述第一基板上。

优选的，在上述钙钛矿薄膜钝化装置中，所述第一基板包括：

位于所述第一基板面向所述固体膜层一侧的真空吸附孔。