[实用新型]一种钙钛矿薄膜钝化装置

权利要求书

1.一种钙钛矿薄膜钝化装置，其特征在于，所述钙钛矿薄膜钝化装置包括：控制器，以及在第一方向上相对设置的升降组件和承载组件，所述升降组件包括压力元件和第一加热元件；

所述升降组件面向所述承载组件的一端设置有固体膜层，所述第一方向与所述固体膜层所在平面垂直；

所述承载组件面向所述升降组件的一侧放置有待处理钙钛矿薄膜，所述待处理钙钛矿薄膜所在平面与所述固体膜层所在平面平行，在所述第一方向上所述固体膜层的正投影与所述待处理钙钛矿薄膜的正投影存在交叠；

所述控制器用于控制所述升降组件在所述第一方向上往返运动；

所述压力元件用于产生压力，所述第一加热元件用于对所述固体膜层加热。

2.根据权利要求1所述的钙钛矿薄膜钝化装置，其特征在于，所述承载组件包括：

位于所述待处理钙钛矿薄膜背离所述升降组件一侧的第二加热元件。

3.根据权利要求2所述的钙钛矿薄膜钝化装置，其特征在于，所述第二加热元件包括：

加热块和温度控制单元，所述温度控制单元用于控制所述加热块的加热温度。

4.根据权利要求1所述的钙钛矿薄膜钝化装置，其特征在于，所述压力元件为升降气缸，所述升降组件还包括：

在所述第一方向上相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板所在平面与所述第二基板所在平面平行，且所述第一基板所在平面和所述第二基板所在平面分别与所述第一方向垂直；

所述升降气缸的两端分别与所述第一基板和所述第二基板连接；

多个升降气缸导轨，所述升降气缸导轨沿所述第一方向延伸，所述升降气缸导轨的两端分别与所述第一基板和所述第二基板连接；

所述第一加热元件位于所述第一基板上。

5.根据权利要求4所述的钙钛矿薄膜钝化装置，其特征在于，所述第一基板包括：

位于所述第一基板面向所述固体膜层一侧的真空吸附孔。

6.根据权利要求5所述的钙钛矿薄膜钝化装置，其特征在于，所述钙钛矿薄膜钝化装置还包括：

位于所述第一基板设置有所述真空吸附孔一侧的固体膜层承载基底；

所述固体膜层位于所述固体膜层承载基底背离所述第一基板的一侧。

7.根据权利要求5所述的钙钛矿薄膜钝化装置，其特征在于，所述真空吸附孔的个数的取值范围为4-8个。

8.根据权利要求5所述的钙钛矿薄膜钝化装置，其特征在于，所述真空吸附孔与负压泵连接。

9.根据权利要求1所述的钙钛矿薄膜钝化装置，其特征在于，所述承载组件为传送组件。

10.根据权利要求9所述的钙钛矿薄膜钝化装置，其特征在于，所述传送组件包括：传送带和多个辊轴。