[实用新型]一种硅片清洗机台有效
| 申请号： | 202320164201.X | 申请日： | 2023-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN218975405U | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 师伟;张翠芸;苏江涛 | 申请（专利权）人： | 西安中晶半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/677;B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司： | 宁波海曙甬睿专利代理事务所(普通合伙) 33330 | 代理人： | 郭红 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市国家*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 机台 | ||
1.一种硅片清洗机台，包括台池(2)和安装架(8)，其特征在于：所述台池(2)内部的一侧设置有浸泡腔(201)，且浸泡腔(201)的一侧设置有清洗腔(202)，所述浸泡腔(201)的内部转动安装有第一传送链(11)，且清洗腔(202)的内部转动安装有第二传送链(12)，所述台池(2)的正面与背面固定安装有多组安装座(701)，且安装座(701)的内侧固定安装有超声波振动棒(7)，所述第二传送链(12)的一侧转动安装有第三传送链(13)，所述安装架(8)的内部转动安装有第四传送链(14)，所述台池(2)和安装架(8)的正面固定安装有驱动电机(3)，所述安装架(8)的顶部固定安装有烘干罩(9)，且烘干罩(9)的顶部固定安装有烘干机(901)，所述台池(2)的底部固定安装有控制箱(4)。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机台，其特征在于：所述台池(2)底部的另一侧固定安装有排水管(1501)，且台池(2)底部的一侧固定安装有加水管(15)，加水管(15)和排水管(1501)的底部固定安装有电磁阀(1502)。
3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机台，其特征在于：所述控制箱(4)的内部固定安装有PLC控制器(16)，且PLC控制器(16)的一侧固定安装有变频器(1601)。
4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机台，其特征在于：所述浸泡腔(201)的一侧滑动安装有隔离板(6)，且台池(2)的背部固定安装有电动推杆(10)。
5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机台，其特征在于：所述控制箱(4)的正面活动安装有密封门(5)，且密封门(5)正面的一侧固定安装有安全锁(501)。
6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机台，其特征在于：所述台池(2)底部的两侧固定安装有支撑架(1)，且支撑架(1)的底部固定安装有脚板(101)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安中晶半导体材料有限公司，未经西安中晶半导体材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202320164201.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种牛舍照明设备
- 下一篇：一种印刷包装纸表面清理装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
