[发明专利]一种半导体光催化剂用氧化亚铜封闭式干燥装置

说明书

本发明公开了一种半导体光催化剂用氧化亚铜封闭式干燥装置，涉及氧化亚铜干燥领域，包括干燥装置主体，所述干燥装置主体的顶部固定安装有空气过滤装置，所述干燥装置主体的内部活动安装有撑顶装置，所述撑顶装置的顶部固定连接有耐高温承载片，所述撑顶装置的一端活动连接有电动缸。本发明，在干燥装置主体内部设置有撑顶装置和耐高温承载片，通过撑顶组件来推动耐高温承载片发生形变，使耐高温承载片发生波浪式的形变，可以保证最上方的氧化亚铜与最下方的氧化亚铜分离开，以此来解决氧化亚铜大量堆积在一起的问题，并且整体的形变较为平缓，能够规避因氧化亚铜中水分不断减少加上空气流动而产生较多粉尘的问题。

技术领域

本发明涉及氧化亚铜干燥技术领域，具体为一种半导体光催化剂用氧化亚铜封闭式干燥装置。

背景技术

在众多半导体光催化剂中，二氧化钛、纳米氧化亚铜因其氧化能力强、催化活性高、稳定性好等优势一直处于光催化研究的核心地位，氧化亚铜为一价铜的氧化物，呈鲜红色粉末状固体，几乎不溶于水，在使用前需要将其中的水分用干燥装置处理，干燥器是指一种通过加热使物料中的湿分（一般指水分或其他可挥发性液体成分）汽化逸出，以获得规定湿含量的固体物料的机械设备，是一种实现物料干燥过程的机械设备。

现有技术中，如中国专利号为：CN114413598A的“一种用于催化剂的干燥装置”，包括主体，主体的下表面固定连接有支撑柱，主体外壁的上表面开设有放置槽，主体的表面固定连接有U形支撑板，左右两个U形支撑板的相对面固定连接有同一个防护套圈。

但现有技术中，在烘干氧化亚铜的时候，由于氧化亚铜为呈粉末状的固体，因此位于烘干装置内部的氧化亚铜会处在堆积的状态，而目前普通的烘干装置主要是通过翻滚来改变内部氧化亚铜的状态，如果装置的转动速度过快，随着氧化亚铜中水分的不断减少，加上内部空气的流动，就会产生较多的粉尘，但是如果转速较慢，氧化亚铜就无法被充分的翻动，致使原本底部氧化亚铜还处在底部，顶部的氧化亚铜依然无法与烘干装置接触，仍会出现氧化亚铜堆积的情况，原料长时间堆积在一起就会导致水分无法快速蒸发的问题，并且底部物料受热程度高，顶部物料受热程度小，还会出现部分物料被过度加热的情况，因此需要对装置的转动速度进行精确地控制，才能够获得较好的干燥效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种半导体光催化剂用氧化亚铜封闭式干燥装置，以解决上述背景技术提出的原料长时间堆积在一起就会导致水分无法快速蒸发的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种半导体光催化剂用氧化亚铜封闭式干燥装置，包括干燥装置主体，所述干燥装置主体的顶部固定安装有空气过滤装置，所述干燥装置主体的内部活动安装有撑顶装置，所述撑顶装置的顶部固定连接有耐高温承载片，所述撑顶装置的一端活动连接有电动缸；所述撑顶装置包括撑顶组件、传动组件和支撑组件，所述支撑组件的一端活动连接有接触块，所述接触块活动连接在耐高温承载片的下表面，所述支撑组件的另一端转动连接在传动组件的一端，所述传动组件的外壁上固定连接有固定框架，所述固定框架的边缘处固定连接在干燥装置主体的内壁上，所述撑顶组件的底部滑动连接在干燥装置主体的底部，所述撑顶组件与传动组件之间啮合连接；所述撑顶组件包括第一滑块、第二滑块、第一倾斜支撑杆和第二倾斜支撑杆，所述第一滑块和第二滑块的上表面固定安装有两个转接凸块，所述第一倾斜支撑杆和第二倾斜支撑杆的一端分别转动连接在第一滑块上一个转接凸块和第二滑块上一个转接凸块的外壁上，所述第一倾斜支撑杆和第二倾斜支撑杆另一端均转动连接有传动块，所述传动块的顶部固定连接有第一垂直齿板，所述第一滑块与第二滑块交错设置。

优选的，所述第二滑块上另一个转接凸块转动连接有第三倾斜支撑杆，所述第三倾斜支撑杆的另一端转动连接有第二垂直齿板。

优选的，所述第二垂直齿板的底部转动连接有第四倾斜支撑杆，所述第四倾斜支撑杆的另一端转动连接在第一滑块上另一个转接凸块上。