[发明专利]集成电路版图图形绘制方法、装置、设备以及介质

权利要求书

1.一种集成电路版图图形绘制方法，其特征在于，包括：

在显示有集成电路版图图形绘制界面的情况下，响应于用户对集成电路版图图形绘制界面的第一输入，确定目标版图区域；

识别所述目标版图区域中的集成电路版图图形；

根据预设拟合规则、版图连通性约束和所述目标版图区域中版图图形参数，确定所述集成电路版图图形的拟合点；

基于所述拟合点，在所述目标版图区域中对所述集成电路版图图形进行拟合，得到目标拟合图形。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一输入包括：对集成电路版图图形绘制界面绘制选择框或瞄准框。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述响应于用户对集成电路版图图形绘制界面的第一输入，确定目标版图区域，包括：

响应于用户对集成电路版图图形绘制界面的第一输入，在所述集成电路版图图形绘制界面显示目标框；其中，所述目标框包括所述选择框或所述瞄准框；

基于所述目标框，确定第一版图区域；

基于所述第一版图区域，确定目标版图区域。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述基于所述第一版图区域，确定目标版图区域，具体包括：

接收用户对所述第一版图区域进行调整的第二输入；

响应于所述第二输入，确定目标版图区域。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在集成电路版图图形绘制界面中具有至少两个目标框存在重合区域时，所述基于所述第一版图区域，确定目标版图区域，包括：

将所述至少两个目标框按预设融合方式进行融合，得到第一目标框；

将所述第一目标框内的界面区域确定为目标版图区域。

6.根据权利要求1-5任一所述的方法，其特征在于，所述根据预设拟合规则、版图连通性约束和所述目标版图区域中版图图形参数，确定所述集成电路版图图形的拟合点，包括：

根据如下至少一项确定拟合点：

根据目标版图区域中集成电路版图图形之间的相对位置确定拟合点；

根据目标版图区域中集成电路版图图形与目标版图区域的相对位置确定拟合点；

对于指定参数为第一指定值的版图图形，根据目标版图区域中集成电路版图图形之间的相对位置确定拟合点；对于指定参数为第二指定值的版图图形，根据目标版图区域中集成电路版图图形与目标版图区域的相对位置确定拟合点；

根据目标版图区域的输入方向，以及目标版图区域中集成电路版图图形与目标版图区域的相对位置确定拟合点。

7.根据权利要求6述的方法，其特征在于，确定所述集成电路版图图形的拟合点，还包括：

根据预设拟合规则，设置拟合点处连接线的线头和通孔的相对位置；其中，所述连接线的线头和所述通孔是拟合时添加产生的。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一指定值和所述第二指定值通过响应于用户的设置操作确定，或者在对所述集成电路版图图形进行拟合，得到目标拟合图形后生成。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

确定所述第一输入的输入方向；

所述基于所述拟合点，在所述目标版图区域中对所述集成电路版图图形进行拟合，得到目标拟合图形，包括：

根据所述输入方向和所述拟合点，在所述目标版图区域中对所述集成电路版图图形进行拟合，得到目标拟合图形。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述基于所述拟合点，在所述目标版图区域中对所述集成电路版图图形进行拟合，得到目标拟合图形，包括：

在目标版图区域，基于所述拟合点，在所述目标版图区域中添加预设图形或者修改原图形；

基于所述预设图形或者修改原图形对所述集成电路版图图形进行拟合，得到目标拟合图形。