[发明专利]基板处理装置在审

专利信息
申请号: 202310118747.6 申请日: 2023-01-31
公开(公告)号: CN116581054A 公开(公告)日: 2023-08-11
发明(设计)人: 门部雅人;似鸟弘弥;佐藤薰;乡右近清彦 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,包括:

运入运出部,其具有供容纳有基板的容器被运入运出的第一侧面、以及与上述第一侧面相反侧的第二侧面;

基板输送部,其沿与上述第二侧面正交的第一水平方向延伸;以及

多个批量处理部,其沿上述基板输送部的长度方向相邻,

上述多个批量处理部分别具有:

处理容器,其容纳多个上述基板而进行处理;

气体供给单元,其向上述处理容器内供给气体;以及

排气单元,其对上述处理容器内的气体进行排气,

在上述排气单元的上方,设置用于进行上述多个批量处理部的维护的第一维护区域。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,

在上述基板输送部的上方,设置用于进行上述多个批量处理部的维护的第二维护区域。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中,

上述排气单元的上表面为与上述基板输送部的上表面相同高度,

该基板处理装置在与上述第一水平方向正交的第二水平方向中与另一基板处理装置相邻配置,

上述另一基板处理装置具有与该基板处理装置相同的构成,

通过该基板处理装置的上述第一维护区域和上述另一基板处理装置的上述第二维护区域,形成共用的维护区域,或者通过该基板处理装置的上述第二维护区域和上述另一基板处理装置的上述第一维护区域,形成共用的维护区域。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置,其中,

具有栅栏,该栅栏安装于上述排气单元,并且延伸至比上述排气单元的上表面靠上方。

5.根据权利要求2或3所述的基板处理装置,其中,

具有安装于上述基板输送部的脚手架,

上述第二维护区域设于上述基板输送部以及上述脚手架的上方。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置,其中,

上述脚手架具有:

支承部件;

垫板,其被上述支承部件支承;以及

栅栏,其安装于上述支承部件,并且位于比上述垫板靠上方。

7.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中,

上述多个批量处理部分别具有设于上述处理容器的周围的加热器,

上述共用的维护区域的上述第二水平方向中的长度为上述加热器能够通过的长度。

8.根据权利要求6所述的基板处理装置,其中,

上述多个批量处理部分别具有设于上述处理容器的周围的加热器,

上述基板输送部的上表面的与上述第一水平方向正交的第二水平方向中的长度和上述垫板的上述第二水平方向中的长度的合计为上述加热器能够通过的长度。

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