[实用新型]碳化硅衬底片用抛光研磨垫

权利要求书

1.碳化硅衬底片用抛光研磨垫，包括第一抛光层（1）和第二抛光层（2），第一抛光层（1）粘在第二抛光层（2）上；其特征在于，所述第一抛光层（1）的研磨面上均布有凸起单元，凸起单元包括若干个呈圆周间隔设置的第一凸起（101），且第一凸起（101）形成的圆内设置有若干个呈圆周间隔设置的第二凸起（102）；第一凸起（101）与第二凸起（102）高度相同。

2.如权利要求1所述的碳化硅衬底片用抛光研磨垫，其特征在于，所述第一凸起（101）呈多边形结构，第二凸起（102）呈弧形。

3.如权利要求1所述的碳化硅衬底片用抛光研磨垫，其特征在于，所述第二抛光层（2）粘在第一抛光层（1）上的一面设置有横竖交叉的沟槽（201），沟槽（201）之间由若干个区域（202）隔开。

4.如权利要求3所述的碳化硅衬底片用抛光研磨垫，其特征在于，所述区域（202）呈圆形，且其中一个区域（202）设置在第二抛光层（2）的中心处，其余区域（202）绕中心处的区域（202）均匀地间隔一圈。

5.如权利要求1所述的碳化硅衬底片用抛光研磨垫，其特征在于，所述第一凸起（101）和第二凸起（102）的高度为0.1-5mm。

6.如权利要求1所述的碳化硅衬底片用抛光研磨垫，其特征在于，所述第一抛光层（1）的硬度 P1为42D≤P1≤60D。

7.如权利要求6所述的碳化硅衬底片用抛光研磨垫，其特征在于，所述第二抛光层（2）的硬度P2为43C≤P1≤65C，且P2≤P1≤60D。

8.如权利要求1所述的碳化硅衬底片用抛光研磨垫，其特征在于，所述第一抛光层（1）采用聚氨酯制成。

9.如权利要求1所述的碳化硅衬底片用抛光研磨垫，其特征在于，所述第二抛光层（2）采用无纺布纤维制成。