[实用新型]集成电路制造设备及其真空管道组件

权利要求书

1.一种集成电路制造设备的真空管道组件，其特征在于，包括：

第一管路，所述第一管路的底端为封堵结构；

第二管路；以及

中间连接管，所述第一管路及所述第二管路均竖直设置，所述中间连接管的进气口与所述第一管路的侧壁连接，所述中间连接管的出气口与所述第二管路连接，所述中间连接管的进气口与所述第一管路的底端隔离设置，所述中间连接管由进气口至出气口方向倾斜向上设置。

2.根据权利要求1所述的集成电路制造设备的真空管道组件，其特征在于，所述第一管路与所述中间连接管之间的夹角为40°-50°，所述中间连接管与所述第二管路之间的夹角为130°-140°。

3.根据权利要求2所述的集成电路制造设备的真空管道组件，其特征在于，所述第一管路与所述中间连接管之间的夹角为45°，所述中间连接管与所述第二管路之间的夹角为135°。

4.根据权利要求1所述的集成电路制造设备的真空管道组件，其特征在于，所述中间连接管与所述第二管路连接位置的顶端光滑过渡。

5.根据权利要求1所述的集成电路制造设备的真空管道组件，其特征在于，所述第一管路包括由上至下联通设置的第一管段和第二管段，所述第二管段的底端为所述封堵结构，所述中间连接管与所述第一管段连接，所述第一管段和所述第二管段可拆卸连接。

6.根据权利要求1所述的集成电路制造设备的真空管道组件，其特征在于，所述第一管路的侧壁设有底压测试接口。

7.根据权利要求1所述的集成电路制造设备的真空管道组件，其特征在于，所述第一管路、所述第二管路和所述中间连接管焊接连接或为一体成型结构。

8.一种集成电路制造设备，其特征在于，包括如权利要求1-7中任一项所述的真空管道组件。

9.根据权利要求8所述的集成电路制造设备，其特征在于，还包括干泵，所述干泵通过柔性管与所述第二管路的出气口连接，所述第一管路的底端高于所述干泵设置。

10.根据权利要求8所述的集成电路制造设备，其特征在于，所述真空管道组件为至少一个，一个反应腔连接一个或多个所述真空管道组件，当一个所述反应腔连接多个所述真空管道组件时，多个所述真空管道组件并联设置。