[实用新型]一种半导体设备真空检测仪器

说明书

本实用新型公开了一种半导体设备真空检测仪器，涉及半导体设备真空检测技术领域，具体为包括工作台，工作台的上表面设置有氦质谱检漏仪，固定块的上表面通过第一环形架设置有旋转接头，旋转接头的另一端设置有密封垫，固定块的上表面通过铰接块设置有转轴，工作台的上表面开设有滑槽，工作台的上表面位于滑槽的内侧壁滑动连接有滑动夹持块，滑动夹持块的上表面通过第二环形架设置有夹持块，工作台的上表面的后侧设置有支撑架，滑动块的下表面设置有喷头，滑动块的一侧面设置有与喷头贯通的氦气连接管，滑动块的下表面设置有激光测距仪，该装置具有便于与待检测半导体设备进行连接和便于自动检测的有益效果。

技术领域

本实用新型涉及半导体设备真空检测技术领域，具体为一种半导体设备真空检测仪器。

背景技术

半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，半导体是指一种导电性可受控制，范围可从绝缘体至导体之间的材料，无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的，今日大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联，常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，而硅更是各种半导体材料中，在商业应用上最具有影响力的一种，许多半导体设备要求高真空,比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备，在高真空环境下,洁净度高、水蒸气很少，一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体,在低漏率真空条件下,这些气体不易外泄,设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物,保证工艺人员的安全，但是随着生产设备数量的增加,以及新工艺对设备要求的提高,真空故障随之增加，因此需要设计一种半导体设备真空检测仪器。

在中国实用新型专利申请公开说明书CN205352621U中公开的一种半导体设备真空检测仪器，虽然，避免了外界的干扰，可以多次对设备进行检查，保证不会出现漏查的情况，克服了半导体设备真空疑难问题的及时检查难题，能很好的检查出半导体设备的泄露情况，保障了设备的正常使用与使用人员的安全，但是使用时检测设备与该装置不方便进行连接，从而使用时需要花费较长的时间将待检测半导体设备与装置进行连接，该装置的检测效果较差，无法自动进行检测，耗费人力和时间，检测效率较低，该一种半导体设备真空检测仪器，存在不便于与待检测半导体设备进行连接和不便于自动检测的缺点。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种半导体设备真空检测仪器，解决了上述背景技术中提出的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种半导体设备真空检测仪器，包括工作台，所述工作台的上表面设置有氦质谱检漏仪，所述氦质谱检漏仪的一侧面设置有抽气管，所述工作台的上表面设置有固定块，所述固定块的上表面通过第一环形架设置有旋转接头，所述旋转接头的一端设置有齿环，所述旋转接头的另一端设置有密封垫，所述固定块的上表面通过铰接块设置有转轴，所述转轴的一端设置有齿轮，所述转轴的另一端设置有蜗轮，所述固定块的内侧壁设置有第一伺服电机，所述工作台的上表面开设有滑槽，所述工作台的上表面位于滑槽的内侧壁滑动连接有滑动夹持块，所述滑动夹持块的上表面通过第二环形架设置有夹持块，所述工作台的上表面的后侧设置有支撑架，所述支撑架的一端设置有第二伺服电机，所述第二伺服电机的输出轴的一端设置有丝杆，所述丝杆的外表面传动连接有滑动块，所述滑动块的下表面设置有喷头，所述滑动块的一侧面设置有与喷头贯通的氦气连接管，所述滑动块的下表面设置有激光测距仪。

可选的，所述氦质谱检漏仪的外表面设置有显示屏，所述氦质谱检漏仪的前面设置有控制按钮。

可选的，所述抽气管的一端设置有旋转连接头，所述旋转接头的内部设置有密封垫。

可选的，所述齿轮的外表面与齿环的外表面啮合，所述第一伺服电机的输出轴的一端设置有蜗杆，所述蜗轮的外表面与蜗杆的外表面啮合。