[实用新型]一种半导体设备真空检测仪器

权利要求书

1.一种半导体设备真空检测仪器，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)的上表面设置有氦质谱检漏仪(2)，所述氦质谱检漏仪(2)的一侧面设置有抽气管(5)，所述工作台(1)的上表面设置有固定块(6)，所述固定块(6)的上表面通过第一环形架(7)设置有旋转接头(8)，所述旋转接头(8)的一端设置有齿环(9)，所述旋转接头(8)的另一端设置有密封垫(10)，所述固定块(6)的上表面通过铰接块设置有转轴(11)，所述转轴(11)的一端设置有齿轮(12)，所述转轴(11)的另一端设置有蜗轮(13)，所述固定块(6)的内侧壁设置有第一伺服电机(14)，所述工作台(1)的上表面开设有滑槽(16)，所述工作台(1)的上表面位于滑槽(16)的内侧壁滑动连接有滑动夹持块(18)，所述滑动夹持块(18)的上表面通过第二环形架(19)设置有夹持块(20)，所述工作台(1)的上表面的后侧设置有支撑架(21)，所述支撑架(21)的一端设置有第二伺服电机(22)，所述第二伺服电机(22)的输出轴的一端设置有丝杆(23)，所述丝杆(23)的外表面传动连接有滑动块(25)，所述滑动块(25)的下表面设置有喷头(26)，所述滑动块(25)的一侧面设置有与喷头(26)贯通的氦气连接管(28)，所述滑动块(25)的下表面设置有激光测距仪(27)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体设备真空检测仪器，其特征在于：所述氦质谱检漏仪(2)的外表面设置有显示屏(3)，所述氦质谱检漏仪(2)的前面设置有控制按钮(4)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体设备真空检测仪器，其特征在于：所述抽气管(5)的一端设置有旋转连接头，所述旋转接头(8)的内部设置有密封垫。

4.根据权利要求1所述的一种半导体设备真空检测仪器，其特征在于：所述齿轮(12)的外表面与齿环(9)的外表面啮合，所述第一伺服电机(14)的输出轴的一端设置有蜗杆(15)，所述蜗轮(13)的外表面与蜗杆(15)的外表面啮合。

5.根据权利要求1所述的一种半导体设备真空检测仪器，其特征在于：所述固定块(6)的一侧面设置有气缸(17)，所述气缸(17)的伸缩杆的一端与滑动夹持块(18)的一侧面固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种半导体设备真空检测仪器，其特征在于：所述支撑架(21)的一侧设置有导向杆(24)，所述滑动块(25)的内侧壁与导向杆(24)的外表面滑动连接。

7.根据权利要求1所述的一种半导体设备真空检测仪器，其特征在于：所述氦气连接管(28)的一端设置有流量控制阀，所述氦气连接管(28)的一端通过快接头与氦气罐固定连接。