[实用新型]用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置有效
申请号: | 202222319127.2 | 申请日: | 2022-09-01 |
公开(公告)号: | CN218525548U | 公开(公告)日: | 2023-02-24 |
发明(设计)人: | 顾仁宝;杨国江;张牧;李伟东;朱文健;余箫伟;魏韶华;孙潇男;徐国俊;靳普云;薛弘宇 | 申请(专利权)人: | 江苏凯威特斯半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 32471 | 代理人: | 张洪伟 |
地址: | 214000 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 除去 石英 表面 金属 离子 超纯水 溢流 装置 | ||
1.一种用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置,其特征在于:包括水槽(1)、带孔平台(2)、平台支撑(3)和溢流管道(4);其中水槽(1)、带孔平台(2)和平台支撑(3)均为PP材质;
所述带孔平台(2)用于放置倒扣的石英罩,且所述带孔平台(2)设置在水槽(1)内部,以使得水槽(1)内部在带孔平台(2)上侧形成蓄水腔(101);
所述平台支撑(3)设置在带孔平台(2)下表面并与水槽(1)内壁紧配,所述平台支撑(3)中设置暂存空间(301),所述暂存空间(301)通过带孔平台(2)与蓄水腔(101)相通;
其中,所述带孔平台(2)中部向上形成溢流凸起(201),以使得溢流凸起(201)与石英罩之间形成溢流空间(203);
所述溢流凸起(201)顶部中间设置有溢流口(202),所述溢流管道(4)从水槽(1)底部向上穿过平台支撑(3)与溢流口(202)相连。
2.根据权利要求1所述的用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置,其特征在于:所述水槽(1)上设置有进水管道(5),所述进水管道(5)上安装调节阀(6);
所述进水管道(5)与水槽(1)之间的连接接口位于石英罩上侧。
3.根据权利要求1所述的用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置,其特征在于:所述平台支撑(3)底部设置有排水管道(7),所述排水管道(7)上安装排水阀(8)。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的用于除去石英罩表面金属离子的超纯水溢流装置,其特征在于:所述水槽(1)顶部设置有槽盖(9),所述槽盖(9)顶部设置有把手。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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