[实用新型]一种光斑均匀的发光二极管

权利要求书

1.一种光斑均匀的发光二极管，其特征在于：所述发光二极管包括硅胶底座、透明封装支架、反射罩支架及发光芯片，所述透明封装支架设置在所述硅胶底座的上表面，所述反射罩支架设置在所述透明封装支架的外侧，所述硅胶底座设有凹槽，所述凹槽设有反光杯结构，所述凹槽的底部及反光杯结构均设有反光膜，所述透明封装支架与硅胶底座之间设有台阶封装结构，所述透明封装支架设有防爆结构及聚光凸镜球面，所述透明封装支架与硅胶底座之间设有散光涂层，所述硅胶底座设有散热结构，所述发光芯片设有阳极金属引脚及阴极金属引脚，所述阳极金属引脚及阴极金属引脚均设有若干个折断槽，所述折断槽的开槽深度小于所述阳极金属引脚及阴极金属引脚的半径径直，所述折断槽均设有弧形凹槽，所述凹槽与硅胶底座之间设有导热柱，所述导热柱设有导热填充料。

2.根据权利要求1所述的光斑均匀的发光二极管，其特征在于：所述硅胶底座还设有菲涅尔齿纹结构组，所述菲涅尔齿纹结构组设置在所述凹槽的边缘外侧，所述菲涅尔齿纹结构组由多个齿纹构成，所述齿纹与齿纹之间设有相等间距。

3.根据权利要求2所述的光斑均匀的发光二极管，其特征在于：所述反光膜的厚度为0.2-1mm，所述反光膜包括反光底膜及反光表膜，所述凹槽底部及反光杯结构均设有网状结构，所述网状结构的深度为0.2-0.5mm，所述反光底膜涂抹在所述网状结构内，所述反光表膜设置在所述反光底膜上方并覆盖在所述网状结构的上表面上。

4.根据权利要求3所述的光斑均匀的发光二极管，其特征在于：所述散热结构包括多个散热槽，多条所述散热槽设置在所述硅胶底座的外侧表面，所述散热槽的深度为0.5-2mm。

5.根据权利要求4所述的光斑均匀的发光二极管，其特征在于：所述散光涂层包括第一散光涂层及第二散光涂层，所述第二散光涂层设置在所述第一散光涂层上，所述第一散光涂层内设有若干个散射颗粒一，所述第二散光涂层内设有若干个散热颗粒二，所述发光芯片发出的光线由第一散光涂层穿入，经过散射颗粒一的第一次散射出多个角度光线，散射出的光线由第二散光涂层穿入，经过散射颗粒二的第二次散射出多个角度的光线后从透明封装支架的顶部射出不同角度的光线。

6.根据权利要求5所述的光斑均匀的发光二极管，其特征在于：所述防爆结构设置在所述透明封装支架的外侧，所述防爆结构包括防爆层一及防爆层二，所述防爆层一设有网状结构防爆丝，所述防爆层二设有蜂窝状结构防爆丝，所述反射罩支架设置在所述防爆层一的外侧。

7.根据权利要求6所述的光斑均匀的发光二极管，其特征在于：所述反射罩支架的厚度为0.5-2mmm。

8.根据权利要求7所述的光斑均匀的发光二极管，其特征在于：所述台阶封装结构包括台阶凹槽及台阶凸块，所述台阶凹槽设置在所述硅胶底座上，所述台阶凸块设置在所述透明封装支架的底部。

9.根据权利要求8所述的光斑均匀的发光二极管，其特征在于：所述聚光凸镜球面设置在所述透明封装支架的顶部，所述透明封装支架设有圆台形凹槽，所述圆台形凹槽内设有反光填充料一。

10.根据权利要求9所述的光斑均匀的发光二极管，其特征在于：所述圆台形凹槽的宽度为0.2-1mm，所述圆台形凹槽的深度大于2mm。