[发明专利]弹性波装置的制作方法、谐振器以及滤波器有效

专利信息
申请号: 202211733184.3 申请日: 2022-12-30
公开(公告)号: CN116073780B 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 曹家强;王华磊;杜波;倪建兴 申请(专利权)人: 锐石创芯(重庆)科技有限公司
主分类号: H03H3/02 分类号: H03H3/02;H03H9/13;H03H9/145
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 黄禹强
地址: 400700 重庆市*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 弹性 装置 制作方法 谐振器 以及 滤波器
【权利要求书】:

1.一种弹性波装置的制作方法,其特征在于,包括:

提供一压电晶圆,所述压电晶圆至少具有第一区域和第二区域;

在所述压电晶圆上形成具有第一镂空图案和第二镂空图案的第一光刻图形层,所述第一镂空图案位于所述第一区域,所述第二镂空图案位于所述第二区域,所述第一镂空图案以及所述第二镂空图案使得部分所述压电晶圆露出所述第一光刻图形层;

在所述第一光刻图形层上以及露出所述第一光刻图形层的所述压电晶圆上形成具有第一厚度的第一金属膜;

在所述第一金属膜上形成具有开窗的第二光刻图形层,所述开窗位于所述第二区域,使得位于所述第二区域内的所述第一金属膜露出所述第二光刻图形层;

在所述第二光刻图形层上以及露出所述第二光刻图形层的所述第一金属膜上形成具有第二厚度的第二金属膜;

剥离所述第一光刻图形层以及所述第二光刻图形层,以在所述第一区域形成具有第一厚度的第一电极图案,以及在所述第二区域形成具有第三厚度的第二电极图案,其中,所述第三厚度为所述第一厚度与所述第二厚度之和。

2.如权利要求1所述的弹性波装置的制作方法,其特征在于,所述在所述压电晶圆上形成具有第一镂空图案和第二镂空图案的第一光刻图形层,包括:

在所述压电晶圆上依次形成第一光刻胶层、支撑层以及第二光刻胶层;

在所述第二光刻胶层上形成第一光刻图形;

以所述第一光刻图形作为基础,在所述支撑层以及所述第一光刻胶层上形成第二光刻图形;

去除所述第二光刻胶层,形成由所述第一光刻胶层和所述支撑层构成的第一光刻图形层,其中,位于所述第一区域内的所述第二光刻图形形成第一镂空图案,位于所述第二区域内的所述第二光刻图形形成第二镂空图案。

3.如权利要求1所述的弹性波装置的制作方法,其特征在于,所述在所述第一金属膜上形成具有开窗的第二光刻图形层,包括:

在所述第一金属膜上形成所述第二光刻图形层;

在所述第二光刻图形层上形成所述开窗。

4.如权利要求2所述的弹性波装置的制作方法,其特征在于,所述第二光刻图形包括相间隔设置的多个光刻胶结构,所述光刻胶结构面对所述压电晶圆一端的宽度小于所述光刻胶结构背对所述压电晶圆一端的宽度。

5.如权利要求2所述的弹性波装置的制作方法,其特征在于,所述第一光刻胶层的厚度大于所述第三厚度。

6.如权利要求2所述的弹性波装置的制作方法,其特征在于,所述支撑层的厚度为30nm至100nm。

7.如权利要求2所述的弹性波装置的制作方法,其特征在于,所述第二光刻胶层的厚度小于所述第一光刻胶层的厚度。

8.如权利要求7所述的弹性波装置的制作方法,其特征在于,第二光刻胶层的厚度为200nm至500nm。

9.如权利要求1所述的弹性波装置的制作方法,其特征在于,第二光刻图形层的上表面高于位于第一光刻图形层上的第一金属膜的上表面。

10.如权利要求1所述的弹性波装置的制作方法,其特征在于,所述第一电极图案为谐振器的叉指换能器,所述第二电极图案为所述谐振器的反射栅。

11.如权利要求1所述的弹性波装置的制作方法,其特征在于,所述第一电极图案至少包括第一谐振器的叉指换能器,所述第二电极图案至少包括第二谐振器的叉指换能器。

12.一种谐振器,其特征在于,包括叉指换能器和位于所述叉指换能器两侧的反射栅,所述叉指换能器的电极厚度和所述反射栅的电极指厚度不同,所述叉指换能器和所述反射栅由权利要求1-9任一项所述的弹性波装置的制作方法所形成。

13.一种滤波器,其特征在于,包括由权利要求1-9任一项所述的弹性波装置的制作方法形成弹性波装置。

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