[发明专利]粉末镀膜设备

说明书

本申请公开了粉末镀膜设备。粉末镀膜设备包括反应器和混合器。反应器内具有反应腔，反应腔设置有进气口和抽气口。混合器内具有混合腔，混合腔设置有混合进口和混合出口，混合出口与进气口连通。其中，混合腔内设置有混气件，用于改变混合腔内的气体流动状态。通过上述方式，本申请能够提高粉末镀膜的质量。

技术领域

本申请涉及原子层沉积设备技术领域，特别是涉及粉末镀膜设备。

背景技术

原子层沉积粉末镀膜设备主要用于显示行业降低量子点的水气透过率和在锂电池行业提高阻锂离子电池中电极材料的性能。原子层沉积法粉末表面包覆设备其膜厚的均匀性及工艺可控性较好，性能优越，且膜厚可控制在纳米级别，对于微粉行业优势尤为突出。相关技术中的粉末镀膜设备，需要向反应腔内同时通入多种气体。但现有的粉末镀膜设备通入多种气体时，多种气体在反应腔内的分布不均匀，会导致粉末镀膜质量下降。

发明内容

本申请的实施例提供一种粉末镀膜设备，能够提高粉末镀膜的质量。

本申请实施例提供一种粉末镀膜设备。粉末镀膜设备包括反应器和混合器。反应器内具有反应腔，反应腔设置有进气口和抽气口。混合器内具有混合腔，混合腔设置有混合进口和混合出口，混合出口与进气口连通。其中，混合腔内设置有混气件，用于改变混合腔内的气体流动状态。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，通过在反应腔的进气孔之前设置混合器，使得气源能够先从混合进口通入混合腔。通过混合腔内的混气件改变气体的流动状态，将多种气体混合的较为均匀。混合后的气体能够从混合出口经进气口再进入到反应腔内。混合后的多种气体中的每种在反应腔内的分布较为均匀，能够使粉末镀膜的均匀性提高，提高了粉末镀膜的质量。

附图说明

图1是本申请粉末镀膜设备一实施例的结构示意图；

图2是图1中混气件一实施方式的结构示意图；

图3是图2中混气件气流方向的示意图；

图4是图1中混气件与进气件配合方式的结构示意图；

图5是图1中混气件另一实施方式的结构示意图；

图6是本申请粉末镀膜设备另一实施方式的结构示意图；

图7是图6中粉末镀膜设备的截面结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

相关技术中，粉末镀膜设备在工作过程中，会有多种气相原料或者流化气体等工艺气体通入到反应腔当中。通入到反应腔内的气体在粉末表面进行原子层沉积，从而对粉末表面进行镀膜，以达到改性、提高粉末性能的作用。但在多种工艺气体通入到反应腔内的过程中，反应腔每种气体的分布会更加靠近该气体通入的位置。工艺气体在反应腔内的分布并不均匀，会导致沉积效率偏低，以及粉末镀膜质量下降，良品率偏低。为了改善上述技术问题，本申请可以提供以下实施例。