[发明专利]粉末镀膜设备在审
申请号: | 202211401910.1 | 申请日: | 2022-11-09 |
公开(公告)号: | CN115710696A | 公开(公告)日: | 2023-02-24 |
发明(设计)人: | 陈志嵩;胡磊;左敏;赵昂璧;李翔 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 陈婷 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粉末 镀膜 设备 | ||
1.一种粉末镀膜设备,其特征在于,包括:
反应器,所述反应器内具有反应腔,所述反应腔设置有进气口和抽气口;
混合器,所述混合器内具有混合腔,所述混合腔设置有混合进口和混合出口,所述混合出口与所述进气口连通;
其中,所述混合腔内设置有混气件,用于改变所述混合腔内的气体流动状态。
2.根据权利要求1所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述混气件呈环状设置,所述混气件固定安装于所述混合腔内,其中,所述混气件上设置有至少两个通槽,至少两个所述通槽沿所述混气件周向间隔设置,所述通槽倾斜地贯穿所述混气件。
3.根据权利要求2所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
每个所述通槽所在的位置与所述混气件几何中心的连线与该所述通槽的延伸方向呈夹角设置。
4.根据权利要求1所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述混合进口设置有进气件,所述进气件上设置有至少两个进气孔,所述进气孔用于与气源管道连通,所述进气孔与所述混合进口连通,所述混气件安装于所述进气件。
5.根据权利要求4所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述进气孔沿圆周方向间隔设置,或者所述进气孔呈阵列设置;至少两个所述进气孔中的其中一个设置于所述混气件在所述进气件上投影的内围,其余所述进气孔设置于所述混气件在所述进气件上投影的外围。
6.根据权利要求5所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述进气孔倾斜贯穿所述进气件设置。
7.根据权利要求4所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述进气件盖设于所述混合进口将所述混合进口封闭,所述混气件将所述混合腔间隔为进气空间和混合空间,所述混气件上设置有至少两个通槽,所述通槽倾斜地贯穿所述混气件,所述通槽连通所述进气空间和所述混合空间;所述进气空间与投影位于所述混气件外围的所述进气孔连通,所述混合空间与所述混合出口连通。
8.根据权利要求1所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述混气件呈板状设置,所述混气件上设置有多个通孔,所述通孔倾斜贯穿混气件设置,或者所述通孔在所述混气件上阵列设置。
9.根据权利要求1所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述混气件转动安装于所述混合腔,所述混气件具有转轴和多个叶片,多个所述叶片以所述转轴为中心呈放射状设置。
10.根据权利要求1所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述反应器还包括气源管道,所述气源管道与进气口连通。
11.根据权利要求1所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述反应器的外周设置有运行管道,所述运行管道内设置有振动件,所述振动件用于在所述运行管道内通入的驱动气体的作用下沿着所述运行管道移动。
12.根据权利要求11所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述运行管道的一端与气源管道连通,另一端与所述混合进口连通。
13.根据权利要求1所述的粉末镀膜设备,其特征在于:
所述反应器呈筒状设置,所述进气口和所述抽气口位于所述反应器轴线方向的两端,其中,所述反应器的轴线方向与重力方向平行,且所述进气口位于所述抽气口下方。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的