[发明专利]一种用于立式氧化炉的硅片运动装置

说明书

本发明公开了一种用于立式氧化炉的硅片运动装置，包括保温安装架、沿立式氧化炉长度方向布置的升降导轨及滑设于升降导轨上的升降台，还包括承托座及用于带动保温安装架旋转的旋转机构，所述升降台上设有用于调节承托座水平的弹性调节机构，所述承托座设于弹性调节机构上，所述保温安装架可转动地设置在承托座上。本发明具有结构简单、能提高硅片温度均匀性的优点。

技术领域

本发明涉及半导体制备技术领域，具体涉及一种用于立式氧化炉的硅片运动装置。

背景技术

随着半导体装备产线的不断发展，市场对于硅片氧化、退火的设备需求越来越大，而传统的卧式氧化炉已经无法满足客户对于温度控制的精度及均匀性等方面的要求，同时卧式氧化炉设备自动化水平低，生产效率达不到8英寸硅片的氧化工艺需求，故现在一般采用立式氧化炉，市面上的立式氧化炉中硅片运动装置主要是带动硅片升降的垂直升降结构，在送入炉体工艺期间会出现保温安装架上硅片温度不均匀，质量不达标的情况。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种结构简单、能提高硅片温度均匀性的用于立式氧化炉的硅片运动装置。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：

一种用于立式氧化炉的硅片运动装置，包括保温安装架、沿立式氧化炉长度方向布置的升降导轨及滑设于升降导轨上的升降台，还包括承托座及用于带动保温安装架旋转的旋转机构，所述升降台上设有用于调节承托座水平的弹性调节机构，所述承托座设于弹性调节机构上，所述保温安装架可转动地设置在承托座上。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述弹性调节机构包括调节座及多组弹性调节组件，所述调节座设于升降台上，所述弹性调节组件包括调节杆及旋转调节件，所述调节杆一端活动穿设于调节座中，另一端与承托座连接，所述旋转调节件抵紧在调节座底部，并与调节杆螺纹连接，所述调节杆与调节座之间设有弹簧。

所述调节座中穿设有导向套，所述调节杆活动穿设于导向套中，所述旋转调节件抵紧在导向套底部。

所述旋转机构包括旋转轴、传动组件及驱动电机，所述驱动电机通过传动组件与旋转轴连接，所述旋转轴穿过承托座并向外延伸至与保温安装架连接，所述旋转轴与承托座可相对转动。

所述传动组件包括主动轮、从动轮及同步带，所述同步带绕设于主动轮及从动轮上，所述驱动电机与主动轮连接，所述从动轮与旋转轴连接。

所述旋转轴外转动套设有支撑套，所述承托座设于支撑套与保温安装架之间。

所述支撑套内设有冷却管路。

所述支撑套上设有用于安装驱动电机的电机安装座。

所述驱动电机上设有光电开关。

所述保温安装架及承托座上设有用于隔热的隔热板。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于：

本发明公开的用于立式氧化炉的硅片运动装置，升降台可沿升降导轨滑动，带动升降台上的弹性调节机构升降，从而带动承托座及保温安装架升降，舟架安装于保温安装架上，舟架随保温安装架升降；弹性调节机构可调节承托座水平，进而可以调节保温安装架及舟架水平，避免舟架倾斜导致机械手将硅片放至舟架上时撞片，且弹性调节机构在升降时能够对保温安装架及舟架起到一定程度上的缓冲作用；旋转机构带动保温安装架旋转，即保温安装架及舟架可在升降的同时进行旋转，结构简单，增强了炉内气流的流动，提高了硅片各处及硅片间气流场的均匀性，使硅片各处及硅片间温度更均匀，利于提高产品质量；保温安装架可转动地设置在承托座上，承托座不随保温安装架转动而转动，利于保持承托座水平，提高承托座稳定性。

附图说明

图1为本发明用于立式氧化炉的硅片运动装置的立体结构示意图。