[发明专利]一种电容器制作方法及电容器在审

专利信息
申请号: 202211320383.1 申请日: 2022-10-26
公开(公告)号: CN115631947A 公开(公告)日: 2023-01-20
发明(设计)人: 卢敏仪;罗旺;郭留阳;罗文裕 申请(专利权)人: 广州天极电子科技股份有限公司
主分类号: H01G4/30 分类号: H01G4/30;H01G4/38;H01G4/005;H01G4/08;H01G4/232;H01G13/00
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 贾瑞华
地址: 511400 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电容器 制作方法
【说明书】:

发明涉及一种电容器制备方法及电容器,涉及电容器领域,该方法包括:在绝缘基板的上表面和下表面分别沉积导电电极;获得绝缘基板上表面的第二导电电极和下表面的第三导电电极;在完成第二导电电极和第三导电电极刻蚀的绝缘基板的上表面和下表面分别沉积第一绝缘介质层和第二绝缘介质层;分别获得第一绝缘介质上的第一导电电极和第二绝缘介质层上的第四导电电极;在第一导电电极上覆盖第一薄膜层,在第四导电电极上覆盖第二薄膜层,获得初步结构的电容器;在初步结构的电容器的两端分别覆盖第一端电极和第二端电极。本发明降低了电容器的制备难度。

技术领域

本发明涉及电容器技术领域,特别是涉及一种电容器制作方法及电容器。

背景技术

传统的瓷介电容器中常使用的介电材料如陶瓷等,是易碎材料,容易受到机械应力的损坏,并且陶瓷层越薄,就越脆弱。并且随着技术的发展,电子部件的高密度安装化也在发展,因此对于电容器的尺寸要求也在缩小,导致电容器的制备工作难度增大。

发明内容

本发明的目的是提供一种电容器制作方法及电容器,降低了制备难度。

为实现上述目的,本发明提供了如下方案:

一种电容器制备方法,包括:

将绝缘基板研磨至设定厚度并进行抛光,获得处理后的绝缘基板;

在所述绝缘基板的上表面和下表面分别沉积导电电极;

对所述绝缘基板上表面沉积的导电电极和下表面沉积的导电电极进行刻蚀,分别获得所述绝缘基板上表面的第二导电电极和下表面的第三导电电极;

在完成所述第二导电电极和所述第三导电电极刻蚀的所述绝缘基板的上表面和下表面分别沉积第一绝缘介质层和第二绝缘介质层;

对所述第一绝缘介质层沉积的导电电极和所述第二绝缘介质层沉积的导电电极进行刻蚀,分别获得所述第一绝缘介质上的第一导电电极和所述第二绝缘介质层上的第四导电电极;

在所述第一导电电极上覆盖第一薄膜层,在所述第四导电电极上覆盖第二薄膜层,获得初步结构的电容器;

在所述初步结构的电容器的一端覆盖第一端电极,在所述初步结构的电容器的另一端覆盖第二端电极;所述第一端电极分别与所述第一导电电极和所述第四导电电极连接,所述第二端电极分别与所述第二导电电极和所述第三导电电极连接,或者所述第一端电极分别与所述第一导电电极和所述第三导电电极连接,所述第二端电极分别与所述第二导电电极和所述第四导电电极连接。

可选地,当所述第一端电极分别与所述第一导电电极和所述第四导电电极连接,所述第二端电极分别与所述第二导电电极和所述第三导电电极连接时,所述第一端电极与所述第二导电电极和所述第三导电电极的距离均为60μm,所述第二端电极与所述第一导电电极和所述第四导电电极的距离均为60μm。

可选地,所述绝缘基板的材料为光敏玻璃、钛酸锶、氮化铝或碳化硅。

可选地,所述第一薄膜层和所述第二薄膜层的材料为聚酰亚胺。

可选地,所述第一绝缘介质层和所述第二绝缘介质层的材料为氧化硅、氮化硅、氮化铝或者氧化铝。

可选地,所述设定厚度为250μm。

可选地,所述第一绝缘介质层和所述第二绝缘介质层的厚度为100nm。

本发明还公开了一种电容器,利用所述的电容器制备方法制备所述电容器,所述电容器包括:从上而下依次层叠设置的第一薄膜层、第一导电电极、第一绝缘介质层、第二导电电极、绝缘基板、第三导电电极、第二绝缘介质层、第四导电电极和第二薄膜层,所述电容器还包括第一端电极和第二端电极;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州天极电子科技股份有限公司,未经广州天极电子科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211320383.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top