[发明专利]集成电路版图图形的点对齐方法、系统、介质及电子设备

权利要求书

1.一种集成电路版图图形的点对齐方法，其特征在于，包括：

确定集成电路版图中待对齐的对象图形，其中，所述对象图形为多边形；

确定所述对象图形上的待对齐顶点以及所述待对齐顶点中预设顶点对应的对齐点，其中，所述待对齐顶点的数量少于所述对象图形的顶点总数；

计算所述预设顶点与所述对齐点的偏移向量，并按照所述偏移向量移动每一所述待对齐顶点，得到目标图形，其中，所述目标图形与所述对象图形的至少一条边线斜率不相同；

根据所述目标图形构建与所述对象图形的每一边线斜率相同的变形图形；

其中，所述根据所述目标图形构建与所述对象图形的每一边线斜率相同的变形图形的步骤包括：

计算所述对象图形每一边线的初始斜率；

在所述目标图形的每一顶点构建两条经过顶点且斜率与所述对象图形对应的顶点所在的两条边线的初始斜率相同的边线；

将每一构建的边线相交后所构成的最大图形确定为变形图形。

2.根据权利要求1所述的点对齐方法，其特征在于，所述目标图形的所有顶点均位于所述变形图形上。

3.根据权利要求1所述的点对齐方法，其特征在于，所述对象图形为待对齐的椭圆图形的外切矩形，所述确定集成电路版图中待对齐的对象图形的步骤之前，还包括：确定集成电路版图中待对齐的椭圆图形；

所述点对齐方法还包括；

以所述变形图形相邻的两条边为长轴和短轴、所述变形图形的中心点为圆心重新生成内切椭圆图形。

4.根据权利要求1所述的点对齐方法，其特征在于，所述待对齐顶点为多个时，所述预设顶点为第一个待对齐顶点。

5.一种集成电路版图图形的点对齐系统，其特征在于，包括：

图形确定模块，用于确定集成电路版图中待对齐的对象图形，其中，所述对象图形为多边形；

位置确定模块，用于确定所述对象图形上的待对齐顶点以及所述待对齐顶点中预设顶点对应的对齐点，其中，所述待对齐顶点的数量少于所述对象图形的顶点总数；

图形移动模块，用于计算所述预设顶点与所述对齐点的偏移向量，并按照所述偏移向量移动每一所述待对齐顶点，得到目标图形，其中，所述目标图形与所述对象图形的至少一条边线斜率不相同；

图形构建模块，用于根据所述目标图形构建与所述对象图形的每一边线斜率相同的变形图形；

其中，所述图形构建模块包括：

斜率计算单元，用于计算所述对象图形上每一边线的初始斜率；

边线构建单元，用于在所述目标图形的每一顶点构建两条经过顶点且斜率与所述对象图形对应的顶点所在的两条边线的初始斜率相同的边线；

图形确定单元，用于将每一构建的边线相交后所构成的最大图形确定为变形图形。

6.根据权利要求5所述的点对齐系统，其特征在于，所述目标图形的所有顶点均位于所述变形图形上。

7.根据权利要求5所述的点对齐系统，其特征在于，所述对象图形为待对齐的椭圆图形的外切矩形，所述图形确定模块还用于在确定集成电路版图中待对齐的对象图形之前，确定集成电路版图中待对齐的椭圆图形；

所述点对齐系统还包括：

图形生成模块，用于以所述变形图形相邻的两条边为长轴和短轴、所述变形图形的中心点为圆心重新生成内切椭圆图形。

8.根据权利要求5所述的点对齐系统，其特征在于，所述待对齐顶点为多个时，所述预设顶点为第一个待对齐顶点。

9.一种存储介质，其特征在于，所述存储介质中存储有计算机程序，所述计算机程序被设置为运行时执行权利要求1至4任一项所述的集成电路版图图形的点对齐方法。

10.一种电子设备，其特征在于，包括存储器和处理器，所述存储器中存储有计算机程序，所述处理器被设置为运行所述计算机程序以执行权利要求1至4任一项所述的集成电路版图图形的点对齐方法。