[发明专利]基于中国汉纳酵母降解展青霉素的用途

权利要求书

1.基于中国汉纳酵母降解展青霉素的用途，其特征在于，具体步骤如下：

(1)配制菌悬液：将中国汉纳酵母接入NYDB培养基中，在25～28℃、180rpm震荡条件下，培养20～24h，进行活化，得到活化后的菌液；取活化后的菌液涂布于NYDA固体培养基，培养温度25～28℃，时间48-72h；然后，挑选NYDA固体培养基生长的中国汉纳酵母单菌落接种到NYDB培养基中进行培养，培养后经离心得到菌体，并用无菌蒸馏水清洗数次，清洗后再次离心，收集菌体用无菌水稀释成1×10⁸cells/mL的菌悬液；

(2)取步骤(1)制备的菌悬液，接种于NYDB培养基中，再取展青霉素标准品溶液加入NYDB培养基中，在避光环境下，震荡培养，即可实现快速降解展青霉素的用途。

2.根据权利要求1所述的用途，其特征在于，步骤(1)中所述离心的转速为7000r/min，时间为10min，温度为4℃。

3.根据权利要求1所述的用途，其特征在于，步骤(1)中所述的NYDA培养基成分如下：以1000mL计，牛肉膏8g，酵母浸出物5g，葡萄糖10g，琼脂20g，余量为蒸馏水，115℃湿热灭菌15min。

4.根据权利要求1所述的用途，其特征在于，步骤(1)中所述的NYDB培养基成分如下：以1000mL计，酵母膏5g，葡萄糖10g，牛肉浸膏8g，余量为蒸馏水，pH自然，115℃灭菌15min。

5.根据权利要求1所述的用途，其特征在于，步骤(1)中所述单菌落接种到NYDB培养基中进行培养的温度为25℃～28℃，时间为48h。

6.根据权利要求1所述的用途，其特征在于，步骤(1)中所述用无菌蒸馏水清洗数次具体为2～3次。

7.根据权利要求1所述的用途，其特征在于，步骤(2)中所述菌悬液接种于NYDB培养基中的接种量为1％～2％；即菌悬液为NYDB培养基体积的1％～2％。

8.根据权利要求1所述的用途，其特征在于，步骤(2)中所述NYDB培养基中展青霉素标准品的终浓度为10μg/mL。

9.根据权利要求1所述的用途，其特征在于，步骤(2)中所述震荡培养的条件为：25℃，180rpm，时间12～30h。