[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

说明书

本公开提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够与处理张数无关地抑制在基板附着微粒。本公开的一个方式的基板处理装置具有：处理槽，其用于贮存处理液，基板浸在该处理液中；干燥槽，其配置于所述处理槽的上方，用于使所述基板干燥；气体供给部，其向所述干燥槽供给包含非活性气体和有机溶剂的蒸汽的混合气体；以及控制部，其控制所述气体供给部，其中，所述控制部将所述有机溶剂在向所述干燥槽供给的所述混合气体中所占的蒸气浓度维持为固定，并根据所述基板的状态来变更所述非活性气体的供给流量和所述有机溶剂的供给流量。

技术领域

本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法。

背景技术

专利文献1所记载的清洗干燥单元具有用于贮存冲洗液(例如纯水)的清洗槽、位于清洗槽的上部的干燥槽、保持基板的基板保持器具以及使基板保持器具进行升降的升降机构。基板保持器具将多张基板以立起姿势且沿水平方向排列的状态保持。升降机构使基板保持器具在清洗槽的槽内与干燥槽之间进行升降。将多张基板浸在贮存于清洗槽的槽内的冲洗液中，之后从冲洗液的液面提起并通过干燥槽进行干燥。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第6144236号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开提供一种能够与处理张数无关地抑制在基板附着微粒的技术。

用于解决问题的方案

本公开的一个方式的基板处理装置具有：处理槽，其用于贮存处理液，基板浸在该处理液中；干燥槽，其配置于所述处理槽的上方，用于使所述基板干燥；气体供给部，其向所述干燥槽供给包含非活性气体和有机溶剂的蒸气的混合气体；以及控制部，其控制所述气体供给部，其中，所述控制部将所述有机溶剂在向所述干燥槽供给的所述混合气体中所占的蒸气浓度维持为固定，并根据所述基板的状态来变更所述非活性气体的供给流量和所述有机溶剂的供给流量。

发明的效果

根据本公开，能够与处理张数无关地抑制在基板附着微粒。

附图说明

图1是示出基板处理装置的一例的图。

图2是示出基板处理装置的一例的图。

图3是示出基板保持器具的一例的截面图。

图4是示出表的一例的图。

图5是示出表的一例的图。

图6是示出表的一例的图。

图7是示出表的一例的图。

图8是示出表的一例的图。

图9是示出基板处理方法的一例的流程图。

图10是说明基板处理方法的一例的图。

图11是说明基板处理方法的一例的图。

图12是说明基板处理方法的一例的图。

图13是说明基板处理方法的一例的图。

图14是说明基板处理方法的另一例的图。

图15是说明微粒附着于基板的理由的图。

图16是说明微粒附着于基板的理由的图。

图17是示出附着于基板的微粒的数量的测定结果的图。

具体实施方式

下面，参照附图对本公开的非限定性的例示的实施方式进行说明。在附图中，对相同或对应的构件或部件标注相同或对应的附图标记，并且省略重复的说明。