[发明专利]涂布装置、液滴喷出检查方法在审
申请号: | 202211077702.0 | 申请日: | 2022-09-05 |
公开(公告)号: | CN115780171A | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 山崎贵弘;黒泽雅彦;冈部由孝;林俊宏 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子装置株式会社 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C11/10 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 贺财俊;刘芳 |
地址: | 日本神奈川县横浜市荣区笠间二*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 喷出 检查 方法 | ||
1.一种涂布装置,利用从包括多个喷嘴的喷墨式的涂布头喷出的涂布液在基板上形成涂布膜,所述涂布装置的特征在于包括:
所述涂布头,对检查用介质喷出所述涂布液;
液滴拍摄部,对从所述涂布头喷出的、所述检查用介质上的所述涂布液的液滴进行拍摄;以及
控制装置,基于由所述液滴拍摄部获得的拍摄图像来求出液滴的面积,并基于所述液滴的面积来进行对所述喷嘴施加的喷出电压的控制,
所述液滴拍摄部具有:
罩,覆盖由从所述涂布头的各喷嘴喷出至所述检查用介质上的所述涂布液所形成的液滴喷出区域;以及
摄像机,设在所述罩的上方,能够经由所述罩来拍摄所述检查用介质上的所述液滴,
所述罩与所述摄像机设置为,能够作为一体而升降且能够与所述检查用介质相对地移动。
2.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,
所述罩为矩形状,其两边分别具有所述液滴喷出区域的两边的两倍以上的长度。
3.根据权利要求1或2所述的涂布装置,其特征在于,
所述控制装置基于所述摄像机的拍摄图像来判断所述罩的脏污或模糊的有无。
4.根据权利要求3所述的涂布装置,其特征在于,
所述液滴拍摄部对以规定间隔设在所述检查用介质的、除了所述液滴喷出区域以外的位置的脏污探测用的标记进行拍摄,
所述脏污探测用的标记是越从中心朝向外侧则颜色变得越淡的圆形图案,
所述控制装置在由所述液滴拍摄部所拍摄的所述脏污探测用标记的面积低于预先规定的面积时,判断为所述罩产生了脏污或模糊。
5.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,
所述控制装置在所述摄像机的拍摄图像中所含的所述液滴的外缘部与所述液滴范围外的边界部分的对比度值低于预先规定的阈值时,判断为所述罩存在脏污或模糊。
6.根据权利要求1或2所述的涂布装置,其特征在于,
所述涂布装置还包括对所述涂布头进行清扫的维护单元,
通过所述维护单元来实施所述罩的清扫。
7.根据权利要求3所述的涂布装置,其特征在于,
所述涂布装置还包括对所述涂布头进行清扫的维护单元,
当由所述控制装置判断为所述罩存在脏污或模糊时,实施所述维护单元对所述罩的清扫。
8.根据权利要求5所述的涂布装置,其特征在于,
所述涂布装置还包括对所述涂布头进行清扫的维护单元,
当由所述控制装置判断为所述罩存在脏污或模糊时,实施所述维护单元对所述罩的清扫。
9.根据权利要求7所述的涂布装置,其中,
在通过所述控制装置而预先设定的时机,通过所述维护单元来实施所述涂布头的清扫与所述罩的清扫。
10.根据权利要求8所述的涂布装置,其中,
在通过所述控制装置而预先设定的时机,通过所述维护单元来实施所述涂布头的清扫与所述罩的清扫。
11.一种液滴喷出检查方法,其特征在于,其是对从包括多个喷嘴的喷墨式的涂布头喷出的液滴的喷出良否进行检查的方法,所述液滴喷出检查方法具有下述工序:
从所述多个喷嘴对检查用介质喷出涂布液;
拍摄所述检查用介质上的所述涂布液的液滴;以及
基于所拍摄的所述液滴的图像来求出所述液滴的面积,并基于所述液滴的面积来进行对所述喷嘴施加的喷出电压的控制,
所述液滴的拍摄是利用罩来覆盖由所述检查用介质上的液滴所形成的液滴喷出区域,且一边使跟所述罩经一体化的摄像机与所述检查用介质相对移动,一边经由所述罩来拍摄所述检查用介质上的所述液滴。
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