[发明专利]原子层沉积设备和原子层沉积设备的定温定量输气装置

说明书

本发明提供了原子层沉积设备和原子层沉积设备的定温定量输气装置，涉及原子层沉积技术领域。定温定量输气装置包含第一输气组件、至少一个第二输气组件、第一控温组件、第二控温组件。包括用以连通反应腔的出气管。第二输气组件包括定量腔室、第一进气管、用以连通定量腔室和出气管的第一阀门，以及用以连通第一进气管和定量腔室的第二阀门。第一进气管用以连通源瓶。第一控温组件构造为能够套置于源瓶，用以控制源瓶的温度。第二控温组件，其构造为配置于所述出气管和所述第二输气组件，用以控制所述出气管和所述第二输气组件内的反应源的温度。定温定量输气装置能够定量定温的向反应腔中输送反应气体，提高了原子层沉积的质量。

技术领域

本发明涉及原子层沉积技术领域，具体而言，涉及一种原子层沉积设备和原子层沉积设备的定温定量输气装置。

背景技术

原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应，从而形成一层镀膜。

在原子层沉积的过程中，输入反应器的气体的温度和体积能够很大程度上的影响原子层沉积的稳定性和一致性。

在先技术中，每次输入到反应器中的气体体积往往无法准确控制，从而导致镀膜厚薄不均。此外，不同定量腔室道之间的温度，以及同一根定量腔室道的上游和下游之间的温度，无法控制至相同值，导致了进入反应器的气体温度无法准确的控制，从而大大影响了反应器内反应的稳定性。

有鉴于此，申请人在研究了现有的技术后特提出本申请。

发明内容

本发明提供了一种原子层沉积设备和原子层沉积设备的定温定量输气装置，旨在改善上述技术问题中的至少一个。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种原子层沉积设备的定温定量输气装置，其包含第一输气组件、至少一个第二输气组件、第一控温组件、第二控温组件。第一输气组件包括用以连通反应腔的出气管。第二输气组件包括定量腔室、第一进气管、用以连通定量腔室和出气管的第一阀门，以及用以连通第一进气管和定量腔室的第二阀门。第一进气管用以连通源瓶。第一控温组件构造为能够套置于源瓶，用以控制源瓶的温度。第二控温组件，其构造为配置于所述出气管和所述第二输气组件，用以控制所述出气管和所述第二输气组件内的反应源的温度。

本申请另提供一种原子层沉积设备,其包含如上述所说的原子层沉积设备的定温定量输气装置。

通过采用上述技术方案，本发明可以取得以下技术效果：

本发明实施例通过第二输气组件的双阀门设置，使得每次向出气管输送的反应气体体积都相同。通过第一控温组件加热源瓶，通过第二控温组件和第三控温组件一体式的加热第一输气组件和第二输气组件，从而保证同一管道的上下游，以及不同管道之间的温度都相同，很好的控制了反应气体温度的均匀性，从而实现定量定温的向反应腔中输送反应气体，大大提高了原子层沉积的效果

通过本发明实施例的硬件方案，能够提升工艺的稳定性和沉积层的一致性，减少对阀门反映速度、稳定性的依赖，具有很好的实际意义。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1是定温定量输气装置的第一爆炸图。

图2是定温定量输气装置的第二爆炸图(隐藏第一控温组件)。

图3是定温定量输气装置的第三爆炸图(隐藏第一控温组件)

图4是第一输气组件和第二输气组件的轴测图。

图5是定温定量输气装置的轴测图。