[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：基底、设置在所述基底上的发光结构层、设置在所述发光结构层远离所述基底一侧的光处理层以及设置在所述光处理层远离所述基底一侧的光路调控层，所述光路调控层被配置为使透过所述光路调控层的光线发生散射；

所述发光结构层包括像素定义层，所述像素定义层包括多个像素开口，所述光路调控层在所述基底上的正投影与所述像素开口在所述基底上的正投影至少部分交叠。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述光路调控层在所述基底上的正投影包含所述像素开口在所述基底上的正投影。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述光路调控层包括第一颗粒层，所述第一颗粒层的材料包括氧化硅颗粒；或者，所述光路调控层包括第二颗粒层，所述第二颗粒层的材料包括氮化硅颗粒，或者，所述光路调控层包括叠设的第一颗粒层和第二颗粒层，所述第一颗粒层的材料包括氧化硅颗粒，所述第二颗粒层的材料包括氮化硅颗粒。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述光路调控层包括第三颗粒层，所述第三颗粒层的材料包括如下任意一种或多种：银颗粒、铜颗粒和铝颗粒。

5.根据权利要求1至4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述多个像素开口形成多个发光区，所述多个发光区至少包括红色发光区，所述光路调控层在所述基底上的正投影包含所述红色发光区在所述基底上的正投影。

6.根据权利要求1至4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述光处理层包括多个第一光处理结构和设置在所述第一光处理结构远离所述基底一侧的覆盖层，所述第一光处理结构的折射率小于所述覆盖层的折射率；相邻的第一光处理结构之间形成光处理开口，所述光处理开口在所述基底上的正投影与所述像素开口在基底上的正投影至少部分交叠。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述光处理层还包括设置在所述覆盖层远离所述基底一侧的第二光处理结构，所述第二光处理结构在所述基底上的正投影与所述像素开口在基底上的正投影至少部分交叠，所述第二光处理结构的折射率与所述覆盖层的折射率相等。

8.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括设置在所述发光结构层远离所述基底一侧的封装结构层，所述封装结构层的折射率小于所述覆盖层的折射率。

9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至8中任意一项所述的显示基板。

10.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在基底上形成发光结构层，所述发光结构层包括像素定义层，所述像素定义层包括多个像素开口；

在所述发光结构层远离所述基底一侧形成光处理层；

在所述光处理层远离所述基底一侧形成光路调控层，所述光路调控层在所述基底上的正投影与所述像素开口在所述基底上的正投影至少部分交叠，所述光路调控层被配置为使透过所述光路调控层的光线发生散射。